解析装置、解析方法以及记录介质
    121.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118688233A

    公开(公告)日:2024-09-24

    申请号:CN202410337617.6

    申请日:2024-03-23

    Inventor: 伊藤义泰

    Abstract: 一种解析装置(120),具备:测定数据存储部(123),其存储在1次ω扫描中通过X射线的透射测定的散射强度的数据;坐标转换部(125),其针对基于特定的衍射点的2个方向分量的强度的波形,将散射矢量的坐标向散射体的倾斜度的坐标进行坐标转换;峰位置确定部(126),其确定相对于坐标转换后的倾斜度的坐标的强度的波形的峰位置;以及倾斜度算出部(127),其算出所确定的峰位置与假设散射体不从与板状试样的表面垂直的方向倾斜而求出的峰位置的差值。

    散射测量分析方法、散射测量分析装置及信息存储介质

    公开(公告)号:CN113049615B

    公开(公告)日:2024-07-30

    申请号:CN202011565438.6

    申请日:2020-12-25

    Abstract: 本发明提供一种通过抑制对系统大小的制约的方法来计算理论散射强度散射测量分析方法、散射测量装置、及信息存储介质。所述散射测量分析方法包括从多粒子系散射体的结构模型取得理论散射强度的理论散射强度取得步骤,在所述理论散射强度取得步骤中,通过第1计算、第2计算中与距离r对应的至少一者取得多个散射体中散射体m和与该散射体m距离r的散射体n的组合对所述理论散射强度的贡献,所述第1计算根据各自的散射因子fm(q)、fn*(q)及中心间距离rmn计算散射体m和散射体n的贡献,所述第2计算由第1代表值代替所述散射体n的散射因子fn*(q)并且由固定值代替距离r处存在的散射体数量的概率密度函数。

    晶体结构解析方法、晶体结构解析装置及晶体结构解析程序

    公开(公告)号:CN118318159A

    公开(公告)日:2024-07-09

    申请号:CN202280078269.4

    申请日:2022-11-15

    Abstract: 一种晶体结构解析方法,一边使放射线的入射角变化一边对多个样品中的各个照射放射线,由此,求出针对各个样品内的多个晶体晶格面的衍射点强度及可靠度,取得数据(Data‑1、Data‑2、Data‑3、…、Data‑n),基于合并基准指标(例如Rint、完整性)按各个数据中的每个判定是否进行合并,所述合并是将多个数据汇总为一个的处理,关于被判定为进行合并的数据进行用于将这些多个数据汇总为一个的处理即合并,通过作为合并的结果而得到的合并后数据来确定晶体的结构。在通过对多个衍射图形进行数据处理和解析来确定晶体结构的晶体结构解析方法、晶体结构解析装置以及晶体结构解析程序中,能得到可靠性高的晶体结构解析结果。

    峰鉴别分析程序及X射线荧光分析装置

    公开(公告)号:CN118043652A

    公开(公告)日:2024-05-14

    申请号:CN202280065516.7

    申请日:2022-07-08

    Abstract: 本发明的目的在于容易进行X射线荧光光谱的鉴别分析和分析结果的验证。一种峰鉴别分析程序使用于X射线荧光分析装置的计算机执行:光谱取得步骤;指定信息取得步骤;第一列表显示步骤,其将基于所指定的角度或能量而确定的一个或多个元素及线型的一览表显示为表示X射线荧光光谱所包含的峰的X射线荧光的候选的第一列表;第一列表接受步骤,其从用户接受第一列表中包含的一个或多个元素及线型中的至少一部分的指定;以及显示更新步骤,其在显示了第一列表的状态下,显示在第一列表中指定的元素及线型是指定的状态,并将所指定的元素及线型和该元素的其他线型出现的角度或能量的一览表显示为第二列表。

    X射线分析装置及峰值预测程序

    公开(公告)号:CN117836616A

    公开(公告)日:2024-04-05

    申请号:CN202280057712.X

    申请日:2022-05-10

    Inventor: 多田勉

    Abstract: 在本发明中,无论X射线探测器的种类和前置放大器的电路结构如何,即使在高计数的X射线测量时也高速且高精度地进行X射线信号的峰值的测量。本发明具有:激发源;X射线探测器;输出模拟信号的前置放大器;将模拟信号转换为数字信号的AD转换器;检测入射定时的信号检测部;将数字信号转换为包含上升部和上升前后的平坦部的阶梯波的波形转换部;生成包含台阶或峰的整形波的波形整形部;基于入射定时和阶梯等测量峰值的峰值测量部、使用入射定时取得包含上升部的阶梯波的一部分,并使用包含多个取得的一部分和峰值的组的学习用数据而生成已学习这些相关关系的学习模型的学习部;以及使用入射定时从新转换的阶梯波中取得阶梯波的一部分,并基于取得的阶梯波的一部分和学习模型而计算预测峰值的峰值预测部。

    放射线测定装置
    126.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117043588A

    公开(公告)日:2023-11-10

    申请号:CN202180096233.4

    申请日:2021-12-10

    Abstract: 具备:一对支撑部(110、120),其空开载置试样的空间配置;框架(130),其由一对支撑部(110、120)支撑;照射部(150),其能移动地连接到框架(130),照射放射线;以及检测部(170),其能移动地连接到框架(130),检测被试样(S1)散射的放射线,照射部(150)和检测部(170)能相对于框架(130)在同一平面内移动。由此,使用在一对支撑部(110、120)之间形成的空间,能够以宽广的范围的衍射角测定大的试样(S1)。因此,易于测定低角度侧的衍射。另外,由于能使各部在同一平面内移动,因此,各部的配置是容易的。

    X射线产生装置和X射线分析装置

    公开(公告)号:CN110223797B

    公开(公告)日:2023-10-24

    申请号:CN201910150250.6

    申请日:2019-02-28

    Abstract: 本发明提供一种X射线产生装置和X射线分析装置,其能够利用简单的结构来实现电子束尺寸小的聚焦X射线电子束。X射线产生装置具备:线状X射线源;多层膜镜;以及并排反射镜,其以2片凹面镜共用接合线的方式彼此接合,所述X射线产生装置的特征在于,多层膜镜的反射面的截面具有抛物线形状,并且该抛物线形状的焦点位于线状X射线源,并排反射镜的2片凹面镜的反射面的截面各自具有抛物线形状,并且该抛物线形状的焦点分别位于多层膜镜的相反侧,在俯视观察下,所述并排反射镜的接合线的延长线贯穿多层膜镜以及线状X射线源。

    全反射荧光X射线分析装置
    128.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116868048A

    公开(公告)日:2023-10-10

    申请号:CN202180076558.6

    申请日:2021-11-01

    Abstract: 本发明的课题在于提供一种分析灵敏度高且分析速度快的全反射荧光X射线分析装置。本发明的全反射荧光X射线分析装置具有:X射线源,其具有电子束焦点,该电子束焦点的与试样表面平行且与X射线照射方向正交的方向的有效宽度大于所述照射方向的尺寸;分光元件,其所述正交的方向的有效宽度大于电子束焦点,且具有沿所述照射方向弯曲的面;及检测器,其沿所述正交的方向排列多个而配置,测量自照射有利用所述分光元件所集光的所述X射线的所述试样产生的荧光X射线的强度。

    损伤测定方法、装置、记录介质以及X射线衍射装置

    公开(公告)号:CN116804639A

    公开(公告)日:2023-09-26

    申请号:CN202310292387.1

    申请日:2023-03-23

    Abstract: 提供一种不管周围的状态如何都能够对单晶状态的试样的损伤进行测定的损伤测定方法、装置、记录介质以及X射线衍射装置。包含如下步骤:将细束的白色X射线照射到单晶状态的试样的步骤(S03);检测通过照射产生的衍射光斑的步骤(S05);算出与检测出的衍射光斑的特定方向的强度分布的方差有关的系数的步骤(S06);以及从所算出的系数确定试样的损伤状态的步骤。“单晶状态”是指材料由单晶或粗大晶粒形成的状态。

    X射线衍射装置及测定方法
    130.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116593509A

    公开(公告)日:2023-08-15

    申请号:CN202310104474.X

    申请日:2023-02-13

    Inventor: 小中尚

    Abstract: 根据本发明的一个方面,提供了一种X射线衍射装置。X射线衍射装置包括X射线源、试样台、检测器、狭缝部件。X射线源构成为对试样照射X射线。试样台构成为能够设置试样以使X射线衍射。检测器构成为利用检测带以一维方式检测作为衍射后的X射线的衍射X射线。狭缝部件设置在试样台和检测器之间,并且具有衍射X射线能够通过的狭缝。狭缝的长边方向的轴与检测带的长边方向的轴平行。

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