X射线产生装置和X射线分析装置

    公开(公告)号:CN110223797A

    公开(公告)日:2019-09-10

    申请号:CN201910150250.6

    申请日:2019-02-28

    Abstract: 本发明提供一种X射线产生装置和X射线分析装置,其能够利用简单的结构来实现电子束尺寸小的聚焦X射线电子束。X射线产生装置具备:线状X射线源;多层膜镜;以及并排反射镜,其以2片凹面镜共用接合线的方式彼此接合,所述X射线产生装置的特征在于,多层膜镜的反射面的截面具有抛物线形状,并且该抛物线形状的焦点位于线状X射线源,并排反射镜的2片凹面镜的反射面的截面各自具有抛物线形状,并且该抛物线形状的焦点分别位于多层膜镜的相反侧,在俯视观察下,所述并排反射镜的接合线的延长线贯穿多层膜镜以及线状X射线源。

    全反射荧光X射线分析装置

    公开(公告)号:CN116868048B

    公开(公告)日:2024-10-11

    申请号:CN202180076558.6

    申请日:2021-11-01

    Abstract: 本发明的课题在于提供一种分析灵敏度高且分析速度快的全反射荧光X射线分析装置。本发明的全反射荧光X射线分析装置具有:X射线源,其具有电子束焦点,该电子束焦点的与试样表面平行且与X射线照射方向正交的方向的有效宽度大于所述照射方向的尺寸;分光元件,其所述正交的方向的有效宽度大于电子束焦点,且具有沿所述照射方向弯曲的面;及检测器,其沿所述正交的方向排列多个而配置,测量自照射有利用所述分光元件所集光的所述X射线的所述试样产生的荧光X射线的强度。

    X射线产生装置和X射线分析装置

    公开(公告)号:CN110223797B

    公开(公告)日:2023-10-24

    申请号:CN201910150250.6

    申请日:2019-02-28

    Abstract: 本发明提供一种X射线产生装置和X射线分析装置,其能够利用简单的结构来实现电子束尺寸小的聚焦X射线电子束。X射线产生装置具备:线状X射线源;多层膜镜;以及并排反射镜,其以2片凹面镜共用接合线的方式彼此接合,所述X射线产生装置的特征在于,多层膜镜的反射面的截面具有抛物线形状,并且该抛物线形状的焦点位于线状X射线源,并排反射镜的2片凹面镜的反射面的截面各自具有抛物线形状,并且该抛物线形状的焦点分别位于多层膜镜的相反侧,在俯视观察下,所述并排反射镜的接合线的延长线贯穿多层膜镜以及线状X射线源。

    全反射荧光X射线分析装置

    公开(公告)号:CN116868048A

    公开(公告)日:2023-10-10

    申请号:CN202180076558.6

    申请日:2021-11-01

    Abstract: 本发明的课题在于提供一种分析灵敏度高且分析速度快的全反射荧光X射线分析装置。本发明的全反射荧光X射线分析装置具有:X射线源,其具有电子束焦点,该电子束焦点的与试样表面平行且与X射线照射方向正交的方向的有效宽度大于所述照射方向的尺寸;分光元件,其所述正交的方向的有效宽度大于电子束焦点,且具有沿所述照射方向弯曲的面;及检测器,其沿所述正交的方向排列多个而配置,测量自照射有利用所述分光元件所集光的所述X射线的所述试样产生的荧光X射线的强度。

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