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公开(公告)号：CN111755377B
公开(公告)日：2022-02-11
申请号：CN202010604859.9
申请日：2020-06-29
Applicant: 西安微电子技术研究所
IPC: H01L21/683
Abstract: 一种薄晶圆解键合方法，包括以下步骤：步骤一、将硅晶圆外圈发生胶变性或胶溢出的硅刻蚀去除；步骤二、将硅晶圆与载片解键合。步骤一所述的刻蚀去除方法包括在晶圆侧制备掩模层，所述的掩模层材料采用正性或负性光刻胶，通过曝光及显影过程去除硅晶圆边缘的光刻胶；再通过干法刻蚀工艺对硅晶圆的外圈直接进行刻蚀。针对薄晶圆临时键合胶变性以及“胶挤出”问题，本发明采用了一种解键合前处理方法，通过掩模制备、刻蚀去边等前处理工艺将晶圆外圈发生胶变性或胶溢出的硅刻蚀去除，再进行解键合制程，解决了由于临时键合胶变性导致的无法顺利进行解键合的问题，规避了碎片风险。
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公开(公告)号：CN114566471A
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN202210182477.0
申请日：2022-02-25
Applicant: 西安微电子技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种无空洞有机介质填充方法，针对硅晶片重构工艺中埋置芯片和填充凹槽之间形成的高深比窄凹槽结构，首先在硅晶片上制备凹槽结构，去除凹槽表面的化学污渍和颗粒残留，对硅晶片上凹槽结构采用纯氧等离子处理，将增粘剂平铺至凹槽结构表面，采用有机溶剂对凹槽结构表面进行预湿，使有机溶剂吸附在凹槽结构表面上；然后在制备有凹槽结构的硅晶片上旋涂有机介质；最后通过至少两次抽真空排除凹槽结构内的气泡，对有机介质进行固化。通过本方法能够显著的提高填充工艺的均匀性和稳定性，减少硅上凹槽结构内的介质填充空洞工艺风险，显著提高产品的可靠性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114050110A
公开(公告)日：2022-02-15
申请号：CN202111264686.1
申请日：2021-10-28
Applicant: 西安微电子技术研究所
IPC: H01L21/50 , H01L21/603 , H01L21/768 , H01L25/065
Abstract: 本发明公开了一种晶圆的多层堆叠键合方法，属于半导体集成封装技术领域。键合顺序：第一层、第二层晶圆正面工艺‑第一层、第二层晶圆键合‑一侧晶圆减薄及背面工艺‑另一侧晶圆减薄及背面工艺‑第三层晶圆正面工艺及第二层与第三层晶圆键合‑第三层晶圆减薄及背面工艺，为薄晶圆的多层键合提出了解决方案。本发明方法不需要额外增加载片就能进行多层晶圆的键合，根据键合晶圆自身相互的承载作用，逐层增加键合晶圆的层数，规避了因临时键合胶变性难解开而裂片的风险。此外，对比单芯片堆叠，本发明方法显著提高了组装效率，是一种高效的多层晶圆级同质或异质高密度集成方法，应用前景和市场潜力非常广阔，具有重要的战略意义和社会效益。
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公开(公告)号：CN112992865A
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN202110222528.3
申请日：2021-02-26
Applicant: 西安微电子技术研究所
IPC: H01L23/544 , H01L21/66 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种晶圆级键合工艺监控结构、方法及制备方法，将上下键合面设计为带有串联电路，其中上键合面同时带有可供电流导通的电极Pad，形成了可供测试键合后是否形成完好键合界面的导通路线，且这种设计分布于整张晶圆的每颗晶粒Die，通过光刻的方式实现图形的转移，使用万用表等量测设备测试串联凸点两端电阻，通过电流电阻计算公式，计算得接触电阻，通过监控接触电阻，来有效及时的监控键合工艺，确保了键合效果的及时反馈，降低因键合不良而未及时识别造成人、机、料、法等各方面的损失。
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公开(公告)号：CN115425019A
公开(公告)日：2022-12-02
申请号：CN202211058003.1
申请日：2022-08-30
Applicant: 西安微电子技术研究所
IPC: H01L25/16 , H01L23/498 , H01L21/56 , H01L21/60 , H01L21/603 , H01L23/49 , H01L23/538
Abstract: 本发明公开了一种多芯片桥接集成结构及其组装方法，集成结构包括若干电路单元，电路单元中的第一芯片通过第一微凸点阵列键合在转接板上，第二芯片转接板连接部的外引脚通过第二微凸点阵列键合在转接板上，第二芯片封装基板连接部的外引脚通过焊柱阵列键合在封装基板上，转接板通过焊球构成的焊球阵列键合在封装基板上，所述第一芯片和第二芯片之间通过第一微凸点、转接板上的金属布线和第二微凸点构成的电互连通路实现，所述转接板上开设有若干导电通道。在芯片结构需要阵列式扩展时，电路单元能够沿横向和/或纵向扩展，转接板的面积不需要成倍的相应扩展，能够提高转接板在工作过程中的可靠性，保证转接板良率，并且降低成本。
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公开(公告)号：CN114566436A
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN202210178297.5
申请日：2022-02-24
Applicant: 西安微电子技术研究所
Abstract: 本发明提供了一种降低晶圆级胶键合气泡的深pad晶圆级制备方法，除采用通过温度控制胶的流速以及涂布合理的胶量来控制Pad气泡的产生，尤其采用晶圆在键合腔室内多次反复预抽真空，完成晶圆排气泡过程，同时结合低温预热的方法使得键合胶在低粘度条件下流速变慢，以降低残胶溢胶风险，且配合低速率阶梯式升温，改变传统的一步升温键合模式，气泡不良率基本得到控制，基本在千分之五左右。
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公开(公告)号：CN111755377A
公开(公告)日：2020-10-09
申请号：CN202010604859.9
申请日：2020-06-29
Applicant: 西安微电子技术研究所
IPC: H01L21/683
Abstract: 一种薄晶圆解键合方法，包括以下步骤：步骤一、将硅晶圆外圈发生胶变性或胶溢出的硅刻蚀去除；步骤二、将硅晶圆与载片解键合。步骤一所述的刻蚀去除方法包括在晶圆侧制备掩模层，所述的掩模层材料采用正性或负性光刻胶，通过曝光及显影过程去除硅晶圆边缘的光刻胶；再通过干法刻蚀工艺对硅晶圆的外圈直接进行刻蚀。针对薄晶圆临时键合胶变性以及“胶挤出”问题，本发明采用了一种解键合前处理方法，通过掩模制备、刻蚀去边等前处理工艺将晶圆外圈发生胶变性或胶溢出的硅刻蚀去除，再进行解键合制程，解决了由于临时键合胶变性导致的无法顺利进行解键合的问题，规避了碎片风险。
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