-
公开(公告)号：CN104508814A
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201380038318.2
申请日：2013-07-17
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 杰森·夏勒 , 罗伯特·布然特·宝佩特
IPC: H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67706 , B25J11/0095 , B25J15/0616 , B65G49/06 , B65G2207/10 , B65G2812/16 , H01L21/67742 , H01L21/67766 , H01L21/67781 , H05F3/02 , H01L21/677 , H01L21/687 , H01L31/18
Abstract: 一种制造系统包含龙门架模块，具有用于将工件从传送机系统移动到工作区的末端执行器，例如，交换模块。交换模块从装载锁移除已处理的工件的矩阵且将未处理的工件的矩阵放置在其位置。接着通过龙门架模块将已处理的工件移动回到传送机。归因于操作速度，末端执行器可能累积过量静电荷。为了移除此累积电荷，接地导电刷子策略性地定位，以使得当末端执行器在正常操作期间移动时，其与刷子接触，移除末端执行器上的累积电荷，而不影响产量。在另一实施例中，当交换模块将矩阵移动到装载锁且从装载锁移动矩阵时，末端执行器在刷子上方移动。
-
公开(公告)号：CN104798189A
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：CN201380059391.8
申请日：2013-09-10
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
CPC classification number: B65G47/52 , B65G43/10 , H01L21/67276 , H01L21/67727
Abstract: 本发明揭示一种在工件处理系统中用于处理工件的系统及方法。该系统利用三个输送带，其中一个可为载料皮带，由输送带相关的工件托架供给未处理工件到加工系统。第二输送带可为卸料皮带，由加工系统接收已加工的工件，且填满与第二输送带相关的工件托架。此时，第三输送带可交换输送带的工件托架，一旦所有的工件已经由和第一输送带相关的工件托架移除，第三输送带便可开始操作为载料皮带。
-
公开(公告)号：CN107810547A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：CN201680037201.6
申请日：2016-06-24
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/683
CPC classification number: H01L21/67115 , H01L21/67109 , H01L21/6831
Abstract: 本发明揭示一种利用LED加热的静电夹具。所述利用LED加热的静电夹具包括包含LED加热器的第一子组合件和包括静电夹具的第二子组合件。所述LED衬底加热器子组合件包含具有凹部的基底。多个发光二极管LED安置在所述凹部内。所述LED可为GaN或GaP LED，其在容易由硅吸收的波长处发光，因此有效且快速地加热所述衬底。包括静电夹具的所述第二子组合件安置在所述LED衬底加热器子组合件上。所述静电夹具包含在由所述LED发射的所述波长处为透明的顶部电介质层和内部层。一或多个电极安置于所述顶部电介质层与所述内部层之间以形成所述静电力。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107710395A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：CN201680038070.3
申请日：2016-06-24
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 罗伯特·布然特·宝佩特 , 盖瑞·E·维卡 , 大卫·伯拉尼克 , 杰森·M·夏勒 , 威廉·T·维弗
CPC classification number: H01L21/67115 , H01L21/67109 , H05B3/0047
Abstract: 本发明公开了一种在可保持于真空条件下的室内加热基板的系统。发光二极管基板加热器包括基座，所述基座具有被侧壁环绕的凹陷部。多个发光二极管安置于所述凹陷部内。所述发光二极管可为GaN发光二极管或GaP发光二极管，其发射易于被硅或所述硅上的涂层吸收的波长的光，从而高效且迅速地加热所述基板。透明窗口安置于所述凹陷部上方，从而形成用以在其中安置所述发光二极管的被密封的壳体。密封衬垫可安置于所述侧壁与所述窗口之间。
-
公开(公告)号：CN104781051A
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：CN201380059151.8
申请日：2013-09-10
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 杰森·M·夏勒 , 罗伯特·布然特·宝佩特 , 詹姆斯·R·麦克廉
IPC: B25J9/16
CPC classification number: G05B19/4086 , B25J9/1692 , B25J9/1697 , G05B2219/39016 , G05B2219/39022 , G05B2219/40607
Abstract: 一种机器人校正方法，将支架模组的坐标系统对准到摄影机系统的坐标系统。所述方法包括：使用对准工具，所述对准工具允许操作员放置工件在支架模组的已知位置。接着由摄影机系统获取这些工件的影像。控制器使用从支架模组及摄影机系统得到的信息，以决定两个坐标系统之间的关系。接着控制器决定一变换方程式，以从一坐标系统转换到另一个坐标系统。
-
公开(公告)号：CN107636818B
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN201680026696.2
申请日：2016-04-26
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 摩根·D·艾文斯 , 杰森·M·夏勒 , D·杰弗里·里斯查尔 , 阿拉·莫瑞迪亚 , 威廉·T·维弗 , 罗伯特·布然特·宝佩特
Abstract: 一种衬底处理与加热系统。揭露一种当衬底在负载锁室与平台之间传送时用于加热衬底的系统。所述系统包括发光二极管的阵列，其配置于对准站上方。发光二极管可为GaN或GaP发光二极管，其发出具有易于被硅吸收的波长的光，因此有效且快速地加热衬底。发光二极管可排列为使得对准期间的衬底旋转产生衬底的均匀温度分布。此外，对准期间的加热也可提高生产力以及省略目前与处理室连结的预加热站。
-
公开(公告)号：CN107810547B
公开(公告)日：2019-07-30
申请号：CN201680037201.6
申请日：2016-06-24
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/683
CPC classification number: H01L21/67115 , H01L21/67109 , H01L21/6831
Abstract: 本发明揭示一种设备及利用发光二极管加热的静电夹具。所述利用LED加热的静电夹具包括包含LED加热器的第一子组合件和包括静电夹具的第二子组合件。所述LED衬底加热器子组合件包含具有凹部的基底。多个发光二极管LED安置在所述凹部内。所述LED可为GaN或GaP LED，其在容易由硅吸收的波长处发光，因此有效且快速地加热所述衬底。包括静电夹具的所述第二子组合件安置在所述LED衬底加热器子组合件上。所述静电夹具包含在由所述LED发射的所述波长处为透明的顶部电介质层和内部层。一或多个电极安置于所述顶部电介质层与所述内部层之间以形成所述静电力。
-
公开(公告)号：CN107636818A
公开(公告)日：2018-01-26
申请号：CN201680026696.2
申请日：2016-04-26
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 摩根·D·艾文斯 , 杰森·M·夏勒 , D·杰弗里·里斯查尔 , 阿拉·莫瑞迪亚 , 威廉·T·维弗 , 罗伯特·布然特·宝佩特
CPC classification number: F26B3/30 , H01L21/67115 , H01L21/68
Abstract: 揭露一种当衬底在负载锁室与平台之间传送时用于加热衬底的系统。所述系统包括发光二极管的阵列，其配置于对准站上方。发光二极管可为GaN或GaP发光二极管，其发出具有易于被硅吸收的波长的光，因此有效且快速地加热衬底。发光二极管可排列为使得对准期间的衬底旋转产生衬底的均匀温度分布。此外，对准期间的加热也可提高生产力以及省略目前与处理室连结的预加热站。
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
8
records
(took 0.02 seconds)
