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公开(公告)号：CN101203932A
公开(公告)日：2008-06-18
申请号：CN200680019106.X
申请日：2006-03-31
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01J37/317 , H01J37/304
CPC classification number: H01J37/304 , H01J37/3171 , H01J2237/30455 , H01J2237/31761 , Y10S438/961
Abstract: 本发明提供一种离子注入器，其包含：固定平面离子束的来源；一组射束线组件，其沿着由第一操作参数值确定的正常射束路径而导引离子束；终端站，其以机械方式横越正常射束路径而扫描晶片；以及控制电路，其在注入通过期间对离子束中的瞬态干扰作出响应以(1)立即将射束线组件中的至少一者的操作参数改变为第二值以将离子束引导远离正常射束路径且进而停止在晶片上的注入过渡位置处的注入，(2)随后将晶片移动到注入恢复位置，在所述注入恢复位置中，晶片上的注入过渡位置正好位于离子束的正常射束路径上，且(3)将操作参数改回到其第一值以沿着正常射束路径引导离子束且恢复在晶片上的注入过渡位置处的离子注入。操作参数可以是提取电源的输出电压或影响离子束的路径的射束线组件的其它电压和/或电流。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101563768B
公开(公告)日：2011-10-12
申请号：CN200780043584.9
申请日：2007-09-21
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 詹姆斯·R·麦克廉
IPC: H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67745
Abstract: 一种用于在真空腔室中处理基板的系统以及方法。此系统包括一第一机械手、一第二机械手以及一传输机构。第一机械手用以将基板自第一组装载互锁室传输至预处理站，且将基板自处理台传输至第一组装载互锁室。第二机械手用以将基板自第二组装载互锁室传输至预处理站，且将基板自处理台传输至第二组装载互锁室。传输机构将基板自预处理站传输至处理台。
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公开(公告)号：CN101563767A
公开(公告)日：2009-10-21
申请号：CN200780042842.1
申请日：2007-09-21
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 查理斯·A·泰欧多尔赤克 , 詹姆斯·R·麦克廉 , 罗伯特·A·波特崔斯
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/682 , C23C14/042 , C23C14/48 , H01J37/304 , H01J37/3171 , H01J2237/024 , H01J2237/31711 , H01L21/67259 , H01L21/68707
Abstract: 一种系统包括：转移臂，其界定一固持平面；以及至少三个传感器，其安置于转移臂上且用于检测光罩相对于固持平面之位置。该至少三个传感器可用于判定光罩是否正确地定位于转移臂上以及判定光罩是否正确地定位于屏蔽位置。可在离子注入机中使用光罩来屏蔽工件之一些部分使其免受离子注入。
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公开(公告)号：CN104781051A
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：CN201380059151.8
申请日：2013-09-10
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 杰森·M·夏勒 , 罗伯特·布然特·宝佩特 , 詹姆斯·R·麦克廉
IPC: B25J9/16
CPC classification number: G05B19/4086 , B25J9/1692 , B25J9/1697 , G05B2219/39016 , G05B2219/39022 , G05B2219/40607
Abstract: 一种机器人校正方法，将支架模组的坐标系统对准到摄影机系统的坐标系统。所述方法包括：使用对准工具，所述对准工具允许操作员放置工件在支架模组的已知位置。接着由摄影机系统获取这些工件的影像。控制器使用从支架模组及摄影机系统得到的信息，以决定两个坐标系统之间的关系。接着控制器决定一变换方程式，以从一坐标系统转换到另一个坐标系统。
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公开(公告)号：CN101203932B
公开(公告)日：2010-05-19
申请号：CN200680019106.X
申请日：2006-03-31
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01J37/317 , H01J37/304
CPC classification number: H01J37/304 , H01J37/3171 , H01J2237/30455 , H01J2237/31761 , Y10S438/961
Abstract: 本发明提供一种离子注入器，其包含：固定平面离子束的来源；一组射束线组件，其沿着由第一操作参数值确定的正常射束路径而导引离子束；终端站，其以机械方式横越正常射束路径而扫描晶片；以及控制电路，其在注入通过期间对离子束中的瞬态干扰作出响应以(1)立即将射束线组件中的至少一者的操作参数改变为第二值以将离子束引导远离正常射束路径且进而停止在晶片上的注入过渡位置处的注入，(2)随后将晶片移动到注入恢复位置，在所述注入恢复位置中，晶片上的注入过渡位置正好位于离子束的正常射束路径上，且(3)将操作参数改回到其第一值以沿着正常射束路径引导离子束且恢复在晶片上的注入过渡位置处的离子注入。
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公开(公告)号：CN101563768A
公开(公告)日：2009-10-21
申请号：CN200780043584.9
申请日：2007-09-21
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 詹姆斯·R·麦克廉
IPC: H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67745
Abstract: 一种用于在真空腔室中处理基板的系统以及方法。此系统包括一第一机械手、一第二机械手以及一传输机构。第一机械手用以将基板自第一组装载互锁室传输至预处理站，且将基板自处理台传输至第一组装载互锁室。第二机械手用以将基板自第二组装载互锁室传输至预处理站，且将基板自处理台传输至第二组装载互锁室。传输机构将基板自预处理站传输至处理台。
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