公开(公告)号：CN101162679B

公开(公告)日：2012-01-04

申请号：CN200710180290.2

申请日：2007-10-11

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 山下贵敏 ,  池尻忠司 ,  田中浩平 ,  赵维江 ,  田中秀之

IPC: H01J37/317 ,  H01L21/265

Abstract: 一种构成离子注入机的分析电磁石，它具有第一内线圈、第二内线圈、三个第一外线圈、三个第二外线圈和轭。内线圈是马鞍形线圈，相互合作以产生在X方向上弯曲离子束的主磁场。每一个外线圈是马鞍形线圈，其产生校正主磁场的次磁场。每一个线圈具有凹槽部分位于扇形圆柱形叠层线圈中的结构，所述叠层线圈配置如下：在迭片绝缘体的外围表面上缠绕绝缘片和导体片的迭片多匝；以及在外围表面上形成迭片绝缘体。

公开(公告)号：CN101162679A

公开(公告)日：2008-04-16

申请号：CN200710180290.2

申请日：2007-10-11

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 山下贵敏 ,  池尻忠司 ,  田中浩平 ,  赵维江 ,  田中秀之

IPC: H01J37/317 ,  H01L21/265

Abstract: 一种构成离子注入机的分析电磁石，它具有第一内线圈、第二内线圈、三个第一外线圈、三个第二外线圈和轭。内线圈是马鞍形线圈，相互合作以产生在X方向上弯曲离子束的主磁场。每一个外线圈是马鞍形线圈，其产生校正主磁场的次磁场。每一个线圈具有凹槽部分位于扇形圆柱形叠层线圈中的结构，所述叠层线圈配置如下：在迭片绝缘体的外围表面上缠绕绝缘片和导体片的迭片多匝；以及在外围表面上形成迭片绝缘体。

公开(公告)号：CN102655073A

公开(公告)日：2012-09-05

申请号：CN201110306186.X

申请日：2011-10-11

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 宇根英康 ,  田中浩平 ,  滨本成显 ,  藤田秀树

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/244 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供离子束照射方法和离子束照射装置，在用两台离子束供给装置对基板的上半部分和下半部分进行离子照射的串联式离子束照射装置中，即使在一台离子束供给装置停止或在处理中途异常结束的情况下，也可以对基板的整个面注入所希望的剂量。在进行一个往返的离子束照射处理后，控制基板转动机构，使基板转动180度后，再将基板放入离子束照射装置，对没有完成离子束照射处理的范围进行离子束照射，从而对基板的整个面进行离子束照射。