反射电极结构件和离子源

    公开(公告)号:CN102097271B

    公开(公告)日:2013-12-18

    申请号:CN201010225325.1

    申请日:2010-07-09

    CPC classification number: H01J27/022

    Abstract: 本发明提供一种反射电极结构件和离子源,能在尽可能增大被溅射面的面积的同时,不仅能简化被溅射构件的安装结构,而且能使反射电极结构件紧凑,并且能提高对从阴极发射出来的电子进行反射的反射效率。反射电极结构件(4)设置在等离子体生成容器(2)内,与阴极(3)相对配置,把电子向阴极(3)一侧反射,其包括:被溅射构件(41),通过被等离子体溅射,放出规定的离子,具有贯通被溅射面(41A)和被溅射构件背面的贯通孔(411);以及电极主体(42),插入被溅射构件(41)的贯通孔(411)中,支承被溅射构件(41),并且具有通过贯通孔(411)在被溅射面(41A)一侧露出的反射电极面(42X)。

    反射电极结构件和离子源

    公开(公告)号:CN102097271A

    公开(公告)日:2011-06-15

    申请号:CN201010225325.1

    申请日:2010-07-09

    CPC classification number: H01J27/022

    Abstract: 本发明提供一种反射电极结构件和离子源,能在尽可能增大被溅射面的面积的同时,不仅能简化被溅射构件的安装结构,而且能使反射电极结构件紧凑,并且能提高对从阴极发射出来的电子进行反射的反射效率。反射电极结构件(4)设置在等离子体生成容器(2)内,与阴极(3)相对配置,把电子向阴极(3)一侧反射,其包括:被溅射构件(41),通过被等离子体溅射,放出规定的离子,具有贯通被溅射面(41A)和被溅射构件背面的贯通孔(411);以及电极主体(42),插入被溅射构件(41)的贯通孔(411)中,支承被溅射构件(41),并且具有通过贯通孔(411)在被溅射面(41A)一侧露出的反射电极面(42X)。

    离子源和离子注入装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102832094A

    公开(公告)日:2012-12-19

    申请号:CN201210053136.X

    申请日:2012-03-02

    Inventor: 山下贵敏

    Abstract: 本发明提供离子源和离子注入装置,与以往的离子源相比,灯丝(阴极)的断线少、能稳定生成大型及大电流的离子束。离子源(8)包括:具有狭缝状开口部(11)及向内部突出的前端部配置在不与等离子体(3)接触的位置的至少一个阴极(2)的多个等离子体生成容器(U11~U42);沿狭缝状开口部(11)的长边方向在各等离子体生成容器(U11~U42)中产生磁场的磁场生成机构(12);通过狭缝状开口部(11)引出截面形状为大体长方形的带状离子束(19)的引出电极(6)。在从大体长方形截面的短边方向看时,从各等离子体生成容器(U11~U42)引出的带状离子束(19)在大体长方形截面的长边方向上的一方的端部相互重叠。

    离子源
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101661862B

    公开(公告)日:2011-06-15

    申请号:CN200910152044.5

    申请日:2009-07-15

    CPC classification number: H01J27/14

    Abstract: 本发明提供一种离子源,其生成含有铝离子的离子束,所述离子源包括:等离子体生成容器(2),含氟可电离气体(8)被导入其中;热阴极(12),设置在该等离子体生成容器(2)内的一侧;对置反射电极(20),设置在等离子体生成容器(2)内的另外一侧,相对于该等离子体生成容器(2)被施加来自于偏压电源(24)的负电压VB,其反射电子;以及磁铁(30),在等离子体生成容器(2)内产生磁场(28),该磁场沿着连接热阴极(12)和对置反射电极(20)的线,所述对置反射电极(20)由含铝材料构成。与以往的离子源相比,本发明的离子源可以削减部件的数量并简化结构。

    离子源
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101661862A

    公开(公告)日:2010-03-03

    申请号:CN200910152044.5

    申请日:2009-07-15

    CPC classification number: H01J27/14

    Abstract: 本发明提供一种离子源,其生成含有铝离子的离子束,所述离子源包括:等离子体生成容器(2),含氟可电离气体(8)被导入其中;热阴极(12),设置在该等离子体生成容器(2)内的一侧;对置反射电极(20),设置在等离子体生成容器(2)内的另外一侧,相对于该等离子体生成容器(2)被施加来自于偏压电源(24)的负电压V B ,其反射电子;以及磁铁(30),在等离子体生成容器(2)内产生磁场(28),该磁场沿着连接热阴极(12)和对置反射电极(20)的线,所述对置反射电极(20)由含铝材料构成。与以往的离子源相比,本发明的离子源可以削减部件的数量并简化结构。

    离子注入机
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101162679B

    公开(公告)日:2012-01-04

    申请号:CN200710180290.2

    申请日:2007-10-11

    Abstract: 一种构成离子注入机的分析电磁石,它具有第一内线圈、第二内线圈、三个第一外线圈、三个第二外线圈和轭。内线圈是马鞍形线圈,相互合作以产生在X方向上弯曲离子束的主磁场。每一个外线圈是马鞍形线圈,其产生校正主磁场的次磁场。每一个线圈具有凹槽部分位于扇形圆柱形叠层线圈中的结构,所述叠层线圈配置如下:在迭片绝缘体的外围表面上缠绕绝缘片和导体片的迭片多匝;以及在外围表面上形成迭片绝缘体。

    离子注入机
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101162679A

    公开(公告)日:2008-04-16

    申请号:CN200710180290.2

    申请日:2007-10-11

    Abstract: 一种构成离子注入机的分析电磁石,它具有第一内线圈、第二内线圈、三个第一外线圈、三个第二外线圈和轭。内线圈是马鞍形线圈,相互合作以产生在X方向上弯曲离子束的主磁场。每一个外线圈是马鞍形线圈,其产生校正主磁场的次磁场。每一个线圈具有凹槽部分位于扇形圆柱形叠层线圈中的结构,所述叠层线圈配置如下:在迭片绝缘体的外围表面上缠绕绝缘片和导体片的迭片多匝;以及在外围表面上形成迭片绝缘体。

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