一种氧化物热电材料BiCuSeO单晶体及其制备方法

    公开(公告)号:CN110408989B

    公开(公告)日:2021-04-27

    申请号:CN201910075768.8

    申请日:2019-01-25

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 一种氧化物热电材料BiCuSeO单晶体及其制备方法,所提供的BiCuSeO单晶体气相输运生长方法具有装置简单、易于操作等优点。所制备的BiCuSeO单晶体材料,具有很高的晶体质量,所述BiCuSeO单晶体的尺寸达毫米级,面积达平方毫米级,所述单晶体材料提供了一个理想的系统来阐明材料的固有物理性能。这对研究如何有效地提高BiCuSeO基热电材料的热电性能以便开发相关热电器件具有重要的意义。所提供的BiCuSeO单晶体是一种氧化物热电材料,可用作理想的高温热电材料用来开发相关热电器件。气相输运法生长晶体,具有生长的晶体纯度高、品质高、成本低、可操作性强等优点。

    一种具有高载流子浓度的SnSe晶体及其生长方法和应用

    公开(公告)号:CN110129878B

    公开(公告)日:2021-03-19

    申请号:CN201910444904.6

    申请日:2019-05-27

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种具有高载流子浓度的SnSe晶体及其制备方法和应用。所述SnSe晶体采用助溶剂法生长,设备简单,成本低廉,晶体生长周期较短,有利于工业化生产,且发明人发现,采用NaCl作为助熔剂进行SnSe晶体生长,极大提升了SnSe晶体材料的电学性能。本发明仅需使用SnSe纯净粉体原料(Sn和Se按照化学计量比配料),无需刻意掺杂其他元素或者非化学计量比配料,所得到的晶体即可自掺杂一定量的SnSe2,且载流子浓度在2K~300K范围内都是1019/cm3量级,具有优良的SnSe材料的电学性能,可有效地拓宽SnSe材料的高ZT值窗口,在热电应用方面具有重要意义。

    一种具有巨大磁电阻的HfTe5-δ晶体及其生长方法

    公开(公告)号:CN107099845B

    公开(公告)日:2019-03-22

    申请号:CN201710269810.0

    申请日:2017-04-24

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种具有巨大磁电阻的HfTe5‑δ晶体及其生长方法。本发明的HfTe5‑δ晶体呈带状,长度尺寸范围为0.5‑2cm,δ的值为0.02~0.12。当δ的值为0.06时,HfTe5‑δ晶体在2K温度和9T磁场下最大的磁电阻为2.5×104%,在室温9T磁场下最大的磁电阻为33%。本发明制备所述HfTe5‑δ晶体采用的是气相输运方法,使用I2、Br2、TeI4、TeBr4或TeCl4作为输运剂,以真空密封的石英管为生长容器,在400℃(生长端)~550℃(原料端)的温区中生长晶体,并通过生长原料中加入过量的Te粉优化生长工艺,获得具有巨大磁电阻的HfTe5‑δ晶体,在新型磁阻器件应用方面有重要研究价值。

    一种三方晶系的RhO2晶体及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN113564706B

    公开(公告)日:2024-03-19

    申请号:CN202110753154.8

    申请日:2021-07-02

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种RhO2晶体,所述RhO2晶体属于三方晶系,空间群为#imgabs0#其晶格常数为#imgabs1#该晶体显示新颖的输运性质,即在高温下表现为金属行为,在100‑150K出现金属绝缘体转变,低于该温度表现绝缘体行为。分析表明,该金属绝缘体转变是由电子关联和自旋轨道耦合共同导致的一种Mott(莫特)转变,即该结构的RhO2是一种莫特绝缘体。

    一种高质量Cu2Se(1-x)Ax晶体的生长方法

    公开(公告)号:CN109371468B

    公开(公告)日:2020-05-05

    申请号:CN201811225006.3

    申请日:2018-10-20

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种高质量Cu2Se(1‑x)Ax晶体的生长方法。该方法包括如下步骤:(1)原料配制:称取一定量的Cu2Se粉末,然后加入TeCl4、TeBr4或I2粉末作为输运剂和掺杂剂,用研钵研磨混匀后将原料至于干净的耐高温石英管中,再在抽真空的状态下,采用煤气焰密封备用;(2)晶体生长:将步骤(1)密封好的石英管放置于两温区或者多温区的管式炉中,设置生长温度,经过一定周期的生长可获得所述Cu2Se(1‑x)Ax晶体,其中A=Cl、Br或I。本发明中提供的Cu2Se(1‑x)Ax晶体生长方法具有生长设备简单、成本低廉、所生长的晶体质量高、尺寸大等优点。

    一种具有高载流子浓度的SnSe晶体及其生长方法和应用

    公开(公告)号:CN110129878A

    公开(公告)日:2019-08-16

    申请号:CN201910444904.6

    申请日:2019-05-27

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种具有高载流子浓度的SnSe晶体及其制备方法和应用。所述SnSe晶体采用助溶剂法生长,设备简单,成本低廉,晶体生长周期较短,有利于工业化生产,且发明人发现,采用NaCl作为助熔剂进行SnSe晶体生长,极大提升了SnSe晶体材料的电学性能。本发明仅需使用SnSe纯净粉体原料(Sn和Se按照化学计量比配料),无需刻意掺杂其他元素或者非化学计量比配料,所得到的晶体即可自掺杂一定量的SnSe2,且载流子浓度在2K~300K范围内都是1019/cm3量级,具有优良的SnSe材料的电学性能,可有效地拓宽SnSe材料的高ZT值窗口,在热电应用方面具有重要意义。

    室温铁磁性Sr3FeCrMoO9陶瓷和薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN103342551A

    公开(公告)日:2013-10-09

    申请号:CN201310267747.9

    申请日:2013-06-28

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种室温铁磁性Sr3FeCrMoO9陶瓷的制备方法,本发明使用SrCO3、Fe2O3、Cr2O3、MoO3粉末,将上述粉末的混合物经过球磨-预烧-球磨处理,将得到的混合均匀的粉末混合物压片后在5%H2/95%Ar混合气下,在1473K的温度下烧结12小时,获得单相的陶瓷。还公开了一种利用上述陶瓷制备得到的室温铁磁性Sr3FeCrMoO9薄膜的制备方法。该陶瓷具有良好的铁磁性,且具有高于室温的铁磁居里点(386K)。在获得陶瓷的基础上,利用脉冲激光沉积技术,在(001)SrTiO3单晶衬底上制备了相应的薄膜材料,该薄膜在室温下具有铁磁性。本发明所需的设备和制备过程简单易行。

    一种引入第二相SnSe2的N型SnSe晶体及其制备方法

    公开(公告)号:CN116377570A

    公开(公告)日:2023-07-04

    申请号:CN202310161918.3

    申请日:2023-02-24

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种引入第二相SnSe2的N型SnSe晶体及其制备方法,所述SnSe晶体生长方法采用温度梯度循环的化学气相输运法,具体方法是使用I2等作为输运剂,将Sn粉,Se粉与输运剂混合,装入石英管中真空密封后放置于两温区的管式炉中,在生长温度程序中设置两种不同的温度梯度循环保温,自然降温至室温获得含有第二相SnSe2的N型SnSe晶体。本发明生长的SnSe晶体的尺寸能够达到毫米级,其导电载流子为电子,室温下载流子浓度可以达到1018cm‑3量级,迁移率为37cm2·V‑1·S‑1量级,在热电领域具有重要的研究和应用价值。

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