目标定位装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103946749B

    公开(公告)日:2016-11-16

    申请号:CN201280051562.8

    申请日:2012-09-12

    Abstract: 一种目标定位装置,尤其用于光刻系统,其包括用于承载目标的载体(300),以及用于承载载体并沿着第一方向(X)移动该载体的支撑台。该支撑台包括两个X‑支撑台基座(401、402),二者皆布置在公共基板(403)的顶部上,每一个X‑支撑台基座承载一X‑支撑台托架(404、405),以及一Y‑梁(406),所述Y‑梁包括用以承载所述载体并在第二方向(Y)上移动该载体的Y‑支撑台(407)。所述Y‑梁跨接该X‑支撑台托架之间的空间并经由一柔性连接器(408、409)而被连接到该X‑支撑台托架上。该装置还包括两个电机(M1、M2),每一个用以沿着相应的X‑支撑台基座驱动相应的X‑支撑台托架。该两个电机至少大致被设置在该支撑台下方。所述两个电机中的每一个被连接至一偏心凸轮或曲柄(410、411),后者经由一曲柄轴(412、413)而被连接至该相对应的X‑支撑台托架。

    离子束利用的最优化
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101111926A

    公开(公告)日:2008-01-23

    申请号:CN200580047494.8

    申请日:2005-11-08

    Inventor: A·雷 M·格雷夫

    Abstract: 一种用于最优化离子注入的方法,其中通过离子束(110)在两维上扫描基片(105)。所述方法提供了包括如下各项中一个或多个的工艺配方:离子束电流,离子剂量,以及基片在慢扫描方向通过离子束的次数。基于所述工艺配方来确定离子束的剖面,并且确定离子束的尺寸。基于所要求的注入均匀性和工艺配方来选择在快扫描方向(142)上的多个不同扫描速度中的一个。基于如下各项中的一个或多个来控制工艺配方:所要求的均匀性,基片通过时间,所要求的最小离子束电流,以及一个或多个基片条件。基于注入的剂量来选择在慢扫描方向(144)上的多个速度中的一个。

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