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公开(公告)号:CN105175988A
公开(公告)日:2015-12-23
申请号:CN201510687908.9
申请日:2011-04-21
Applicant: 陶氏环球技术有限责任公司
Inventor: 小罗伯特.E.赫夫纳 , M.J.马林斯 , M.L.塔尔钦斯基 , E.奥切洛
CPC classification number: C07C261/02 , C07C39/17 , C07C2603/68 , C07C2603/91
Abstract: 本申请的实施方式包括由式I表示的聚环戊二烯化合物,其中X各自为氢或氰基(),n各自具有0至20的平均值;m各自独立地具有0至3的数值;p具有0至20的数值;R各自独立地为卤素,腈基,硝基,烷基,烷氧基,链烯基,或链烯氧基,其中该烷基、烷氧基、链烯基、和链烯氧基各自独立地包含1至6个碳原子;Q各自独立地为氢或包含1至6个碳原子的烷基。本申请的实施方式也包括可固化组合物,其包含式I的聚环戊二烯化合物和固化量的树脂或催化量的催化剂和/或固化促进量的促进剂。
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公开(公告)号:CN103180366B
公开(公告)日:2015-09-09
申请号:CN201180052284.3
申请日:2011-10-25
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08G73/02 , C07C261/02 , C08K5/3415 , C08L63/00 , C08L79/00
CPC classification number: C08L63/00 , C07C261/02 , C07C2601/14 , C08G59/4014 , C08G73/0655 , C08K5/3415 , C08L79/085 , C09J163/00 , C08L79/00
Abstract: 本发明提供了常温下为液态且可获得具有优异的低热膨胀率的固化物的新型二氰氧苯基型二官能氰酸酯。即,公开了下述式(I)所示的氰酸酯化合物(式中,R1表示碳原子数2~20的烃基)。
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公开(公告)号:CN102971282A
公开(公告)日:2013-03-13
申请号:CN201180032696.0
申请日:2011-04-21
Applicant: 陶氏环球技术有限责任公司
Inventor: 小罗伯特.E.赫夫纳 , M.J.马林斯 , M.L.塔尔钦斯基 , E.奥切洛
IPC: C07C39/17 , C07C261/02
CPC classification number: C07C261/02 , C07C39/17 , C07C2603/68 , C07C2603/91
Abstract: 本申请的实施方式包括由式I表示的聚环戊二烯化合物,其中X各自为氢或氰基(N≡C——),n各自具有0至20的平均值;m各自独立地具有0至3的数值;p具有0至20的数值;R各自独立地为卤素,腈基,硝基,烷基,烷氧基,链烯基,或链烯氧基,其中该烷基、烷氧基、链烯基、和链烯氧基各自独立地包含1至6个碳原子;Q各自独立地为氢或包含1至6个碳原子的烷基。本申请的实施方式也包括可固化组合物,其包含式I的聚环戊二烯化合物和固化量的树脂或催化量的催化剂和/或固化促进量的促进剂。
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公开(公告)号:CN104817434A
公开(公告)日:2015-08-05
申请号:CN201510133258.3
申请日:2009-03-09
Applicant: 陶氏环球技术有限责任公司
IPC: C07C37/20 , C07C39/17 , C07C261/02
CPC classification number: C07C37/20 , C07C39/17 , C07C261/02 , C07C2601/14
Abstract: 本发明公开了包含脂环族部分的芳族多氰酸酯化合物,其制备方法和基于这些化合物的树脂和热固性产物。
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公开(公告)号:CN104755422A
公开(公告)日:2015-07-01
申请号:CN201380055999.3
申请日:2013-10-25
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C01C3/00 , C07C261/02 , C07C39/16
CPC classification number: C07C261/02 , B32B15/09 , B32B27/36 , B32B2260/046 , B32B2457/08 , C01C3/004 , C08G8/28 , C08G65/48 , C08G2190/00 , C08J5/04 , C08J5/24 , C08J2361/14 , C08J2371/10 , C08L61/14 , C08L71/00 , C08L2203/20 , C09J161/14 , C09J171/00 , C09K3/10 , H05K1/0346
Abstract: 本发明的课题在于,提供在氰酸酯化合物制造中抑制了副反应的卤化氰的有效制造方法、以及以高产率得到高纯度的氰酸酯化合物的制造方法。一种卤化氰的制造方法,其具备如下的卤化氰制造工序,即,该卤化氰制造工序通过使卤素分子接触含有氰化氢和/或金属氰化物的水溶液,从而使前述氰化氢和/或前述金属氰化物与前述卤素分子在反应液中进行反应而得到卤化氰,在该卤化氰制造工序中,前述氰化氢或前述金属氰化物的用量是相对于1摩尔前述卤素分子超过1摩尔的用量,且将未反应氰化氢或未反应金属氰化物的物质量记作(A)摩尔、将生成的卤化氰的物质量记作(B)摩尔时,在(A):(A)+(B)处于0.00009:1~0.2:1之间的状态下结束反应。
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公开(公告)号:CN102026963B
公开(公告)日:2015-04-22
申请号:CN200980117161.6
申请日:2009-03-09
Applicant: 陶氏环球技术有限责任公司
IPC: C07C261/02 , C08G73/06
CPC classification number: C08G73/00 , C07C261/02 , C07C2601/14 , C07C2601/18 , C07C2601/20 , C07C2603/38 , C08G73/0655 , C08G73/12
Abstract: 包括具有至少约六个碳原子的脂族基团的芳族二氰酸酯化合物以及基于这些化合物的树脂和热固性产品。
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公开(公告)号:CN102026963A
公开(公告)日:2011-04-20
申请号:CN200980117161.6
申请日:2009-03-09
Applicant: 陶氏环球技术公司
IPC: C07C261/02 , C08G73/06
CPC classification number: C08G73/00 , C07C261/02 , C07C2601/14 , C07C2601/18 , C07C2601/20 , C07C2603/38 , C08G73/0655 , C08G73/12
Abstract: 包括具有至少约六个碳原子的脂族基团的芳族二氰酸酯化合物以及基于这些化合物的树脂和热固性产品。
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公开(公告)号:CN105683154B
公开(公告)日:2018-03-16
申请号:CN201480058725.4
申请日:2014-10-24
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07C261/02 , C08K5/06 , C08L63/00 , C08L79/00
CPC classification number: H05K1/0346 , C07C261/02 , C07C265/14 , C07C2603/74 , C08G18/02 , C08G73/0655 , C08K3/01 , C08L61/04 , C08L63/00 , C08L79/00 , C08L79/04 , C09J179/00
Abstract: 本发明提供具有优异的溶剂溶解性并且热膨胀率低的、能够得到具有优异的阻燃性和耐热性的固化物的新型的氰酸酯化合物。本发明为由下述式(1)所表示的氰酸酯化合物。(式中,Ar表示芳环,R1各自独立地表示氢原子、烷基或芳基。n各自独立地为1~3的整数,m+n与由前述芳环和氢原子构成的1价芳香族基团中的氢原子的总数相同。R2表示氢原子(但排除Ar为苯环、n均为1、R1为氢原子且m均为4,氰氧基相对于金刚烷基键合于4位的情况)或碳数1~4的烷基。R3表示氢原子或碳数1~4的烷基。)。
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公开(公告)号:CN107721880A
公开(公告)日:2018-02-23
申请号:CN201710968750.1
申请日:2017-10-18
Applicant: 扬州天启新材料股份有限公司
IPC: C07C261/02 , C08G73/06
CPC classification number: C07C261/02 , C08G73/0644
Abstract: 本发明公开了一种双酚C氰酸酯树脂单体及其制备方法,属于高分子材料合成领域。包括如下步骤:a、将双酚C溶解在含5到8个C原子的烷烃类有机溶剂中,卤化氰冷却在液体状态备用;b、将双酚C溶液、卤化氰、三乙胺通过不同进料管喷入至反应容器,双酚C:卤化氰:三乙胺反应物摩尔比为:1:1.2~1.5:1.3~1.9,反应温度控制在-8℃~12℃,反应时间控制在5-20分钟;c、反应完成后,双酚C氰酸酯自行析出。本发明通过在氰酸酯结构中引入甲基,从结构上满足了阻燃特性的要求,提升了产品的本征阻燃性能;本方法合成的氰酸酯树脂单体,纯度≥99.0%。
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公开(公告)号:CN106575083A
公开(公告)日:2017-04-19
申请号:CN201580042508.0
申请日:2015-07-31
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/11 , C07C261/02 , G03F7/004 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/11 , C07C261/02 , C09D7/20 , C09D179/04 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0752 , G03F7/091 , G03F7/094 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2037 , G03F7/322 , G03F7/38 , H01L21/027 , H01L21/0274 , H01L21/3081 , H01L21/3086 , H01L21/31116 , H01L21/31144
Abstract: 本发明的光刻用下层膜形成用组合物含有特定式(1)所示的化合物以及溶剂成分(S)20~99质量%,除前述溶剂成分(S)以外的成分(A)中包含27~100质量%的该式(1)所示的化合物。
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