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公开(公告)号：CN100366694C
公开(公告)日：2008-02-06
申请号：CN200310104711.5
申请日：2003-10-31
IPC: C09G1/04
CPC classification number: H01L21/3212 , C09G1/02 , H01L21/02024
Abstract: 本发明提供了一种使所要抛光的表面平面化和具有高储存稳定性的用于化学机械抛光的水分散体，一种在抛光不同材料的表面时具有优异的选择性的化学机械抛光工艺，和一种半导体设备生产工艺。第一水分散体包含水溶性季铵盐，无机酸盐，磨料颗粒和水介质。第二水分散体包含至少一种水溶性季铵盐，非水溶性季铵盐的另一碱性有机化合物，无机酸盐，水溶性聚合物，磨料颗粒和水介质。第二水分散体由通过将水溶性季铵盐和无机酸盐混入水介质而得到的第一水分散体材料(I)，和通过将水溶性聚合物和非水溶性季铵盐的另一碱性有机化合物混入水介质而得到的第二水分散体材料(II)组成。磨料颗粒包含在至少一种水分散体材料中。
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公开(公告)号：CN1498931A
公开(公告)日：2004-05-26
申请号：CN200310104711.5
申请日：2003-10-31
IPC: C09G1/04
CPC classification number: H01L21/3212 , C09G1/02 , H01L21/02024
Abstract: 本发明提供了一种使所要抛光的表面平面化和具有高储存稳定性的用于化学机械抛光的水分散体，一种在抛光不同材料的表面时具有优异的选择性的化学机械抛光工艺，和一种半导体设备生产工艺。第一水分散体包含水溶性季铵盐，无机酸盐，磨料颗粒和水介质。第二水分散体包含至少一种水溶性季铵盐，非水溶性季铵盐的另一碱性有机化合物，无机酸盐，水溶性聚合物，磨料颗粒和水介质。第二水分散体由通过将水溶性季铵盐和无机酸盐混入水介质而得到的第一水分散体材料(I)，和通过将水溶性聚合物和非水溶性季铵盐的另一碱性有机化合物混入水介质而得到的第二水分散体材料(II)组成。磨料颗粒包含在至少一种水分散体材料中。
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公开(公告)号：CN101490814A
公开(公告)日：2009-07-22
申请号：CN200780026430.9
申请日：2007-09-27
Applicant: JSR株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14
CPC classification number: H01L21/30625 , C09G1/02 , C09K3/1463 , H01L21/3212
Abstract: 本发明提供一种化学机械研磨用水系分散体，其特征在于，含有(A)重均分子量为500,000～2,000,000且在分子内具有杂环的第一水溶性高分子、(B)重均分子量为1,000～10,000且具有选自羧基及磺基中的一种的第二水溶性高分子或其盐、(C)氧化剂、以及(D)磨料，pH为7～12。
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公开(公告)号：CN102741985A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201180007853.2
申请日：2011-01-17
Applicant: JSR株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14
CPC classification number: B24B13/015 , B24B29/02 , B24B37/044 , C09G1/02 , C09K3/1463 , H01L21/31053
Abstract: 本发明所涉及的化学机械研磨用水系分散体，其特征在于，含有（A）具有选自磺基及其盐中的至少1种官能团的二氧化硅粒子、和（B）酸性化合物。
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公开(公告)号：CN101933124B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200980103969.9
申请日：2009-01-16
Applicant: JSR株式会社
IPC: H01L21/321 , H01L21/3105 , C01G1/02
CPC classification number: H01L21/3212 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1436 , C09K3/1463 , H01L21/31053
Abstract: 本发明的化学机械研磨用水系分散体是包含(A)二氧化硅微粒和(B1)有机酸的化学机械研磨用水系分散体，其中前述(A)二氧化硅微粒具有下述化学性质。从通过ICP发光分析法或ICP质量分析法进行的元素分析和通过离子色谱分离法进行的铵离子定量分析测定的钠、钾和铵离子的含量满足：钠含量：5～500ppm，选自钾和铵离子的至少一种的含量：100～20000ppm的关系。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101410956B
公开(公告)日：2010-09-08
申请号：CN200780011576.6
申请日：2007-03-27
Applicant: JSR株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14
CPC classification number: H01L21/3212 , B24B37/044 , C09G1/02 , C09K3/1463 , H01L21/31053 , H01L21/7684
Abstract: 本发明提供一种化学机械研磨用水系分散体，含有(A)磨粒、(B)有机酸、(C)水溶性高分子、(D)氧化剂及(E)水，并且所述(C)水溶性高分子的重均分子量为50,000～5,000,000。
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公开(公告)号：CN101410956A
公开(公告)日：2009-04-15
申请号：CN200780011576.6
申请日：2007-03-27
Applicant: JSR株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14
CPC classification number: H01L21/3212 , B24B37/044 , C09G1/02 , C09K3/1463 , H01L21/31053 , H01L21/7684
Abstract: 本发明提供一种化学机械研磨用水系分散体，含有(A)磨粒、(B)有机酸、(C)水溶性高分子、(D)氧化剂及(E)水，并且所述(C)水溶性高分子的重均分子量为50,000～5,000,000。
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公开(公告)号：CN102650824A
公开(公告)日：2012-08-29
申请号：CN201210046200.1
申请日：2012-02-24
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及像素图案的形成方法、滤色器、显示元件及着色放射线敏感性组合物。提供在使用染料、色淀颜料作为着色剂时用于使染料优异的色度特性充分地呈现的像素图案的形成方法。所述像素图案的形成方法包括以下的工序：(1)在基板上形成着色放射线敏感性组合物的涂膜的工序，所述着色放射线敏感性组合物含有选自染料和色淀颜料中的至少1种；以及(2)采用紫外线LED对所述涂膜的至少一部分进行曝光的工序。
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公开(公告)号：CN101933124A
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：CN200980103969.9
申请日：2009-01-16
Applicant: JSR株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/00
CPC classification number: H01L21/3212 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1436 , C09K3/1463 , H01L21/31053
Abstract: 本发明的化学机械研磨用水系分散体是包含(A)二氧化硅微粒和(B1)有机酸的化学机械研磨用水系分散体，其中前述(A)二氧化硅微粒具有下述化学性质。从通过ICP发光分析法或ICP质量分析法进行的元素分析和通过离子色谱分离法进行的铵离子定量分析测定的钠、钾和铵离子的含量满足：钠含量：5～500ppm，选自钾和铵离子的至少一种的含量：100～20000ppm的关系。
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公开(公告)号：CN1919955A
公开(公告)日：2007-02-28
申请号：CN200610111384.X
申请日：2006-08-24
IPC: C09K3/14 , H01L21/304
CPC classification number: C09G1/02 , B24B37/044 , H01L21/3212 , H01L21/76835 , H01L21/7684
Abstract: 本发明的化学机械研磨用水性分散质的特征为，具有水、重量平均分子量超过20万的聚乙烯吡咯烷酮、氧化剂、含有生成水不溶性金属化合物的第一金属化合物生成剂以及生成水溶性金属化合物的第二金属化合物生成剂的保护膜生成剂、磨粒。通过使用该化学机械研磨用水性分散质，不会引起金属膜和绝缘膜的缺陷，能低摩擦，稳定均匀地研磨金属膜。
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