一种光学防伪GaN超表面及光学防伪产品

    公开(公告)号:CN119916512A

    公开(公告)日:2025-05-02

    申请号:CN202510413933.1

    申请日:2025-04-03

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明属于光学防伪技术领域,涉及一种光学防伪GaN超表面及光学防伪产品;该光学防伪超表面包括:基底层与光反射结构;光反射结构设置于基底层一侧表面,用于对入射光进行反射,从而输出在设定角度范围内波长连续变化的出射光;其中,光反射结构包括多个第一反射柱体,多个第一反射柱体呈阵列排布在基底层一侧表面,相邻两个第一反射柱体之间具有凹槽。通过采用本方案提供的光学防伪GaN超表面,能够对入射光进行10 nm级窄带波长选择,在太阳光照射条件下即可基于人眼视觉在超表面所在平面内任意方位观察到极高饱和度颜色的出射光,且出射光颜色随观察角度连续变化,从而实现光学防伪功能,无需使用特殊光学材料,成本较低且结构简单。

    一种基于石墨烯等离子体的宽带透射式红外光调制器

    公开(公告)号:CN111458906B

    公开(公告)日:2025-02-14

    申请号:CN202010350642.X

    申请日:2020-04-28

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明属于光学器件领域,为提高调制器调制深度和带宽提出一种基于石墨烯等离子体的宽带透射式红外光调制器,包括衬底,衬底上覆盖有石墨烯调制层,调制层上通过镀膜‑刻蚀设有非金属光栅层,非金属光栅层上通过镀膜设有金属光栅层,衬底两侧分别通过镀膜设有电极一与电极二。通过将石墨烯与非金属光栅层耦合,利用金属光栅的优异偏振特性和对石墨烯局域表面等离子激元进一步增强的场约束能力,从而大幅提高器件的调制深度和调制带宽,该结构对TE线偏振入射光具有强反射,对TM线偏振入射光可实现在宽波段范围内高调制深度的透射调制,该特性可实现在自然光入射时,对透射光具有高调制深度、宽调制带宽的调制功能。

    一种Micro LED芯片单体器件的制备方法、显示模块及显示装置

    公开(公告)号:CN113299803B

    公开(公告)日:2024-05-03

    申请号:CN202110657401.4

    申请日:2021-06-11

    Applicant: 苏州大学

    Inventor: 曹冰 杨帆 蔡鑫

    Abstract: 本申请提供一种Mi cro LED芯片单体器件的制备方法、显示模块及显示装置,该微米发光二极管(M i cro‑LED)芯片的制备方法包括:将蓝光外延片制作成Mi cro‑LED晶粒阵列结构;在Mi cro‑LED晶粒侧面及凹槽内沉积绝缘层;在Mi cro‑LED晶粒阵列表面沉积电流扩展层;在Mi cro‑LED晶粒阵列外围沉积两圈电极作为阳极与阴极,其中内圈电极置于电流扩展层之上,外圈电极置于N型GaN之上,所有晶粒共用阳极与阴极。该方式利用氧化物对阵列结构进行绝缘与钝化,降低了刻蚀工艺带来的侧壁损伤问题以及漏电流问题;利用高透过率的电流扩展层全覆盖P型GaN,降低P型GaN电流扩展能力差,电流积聚问题,同时可实现特定区域内的Mi cro‑LED晶粒的同步调控,并且解决了电极挡光的问题,增加了发光面积,有效提高了发光效率。

    一种用于车灯的大视场物方远心投影成像方法及镜头

    公开(公告)号:CN117233922A

    公开(公告)日:2023-12-15

    申请号:CN202311012637.8

    申请日:2023-08-11

    Applicant: 苏州大学

    Inventor: 曹冰 江河 吴云鹏

    Abstract: 本发明公开了一种用于车灯的大视场物方远心投影成像方法及镜头。入射光线经两片大孔径弯月球面透镜进行汇聚;汇聚后的光线经过由第一片负双凹透镜和第一片正双凸透镜组成的双胶合透镜组缩小结构、减少像差;经第二片负弯月透镜进一步汇聚光线,使光线全部进入光阑;采用三胶合透镜矫正色差,进一步降低像差,同时孔径光阑位于三胶合透镜物侧面上,可以矫正球差;再采用两片双凸透镜组进一步汇聚光路、减少畸变,光线进入TIR全反射棱镜,透过保护玻璃,在DMD像面上清晰成像。本发明提供的成像方法,其光学系统通过各个透镜之间的条件式和正负焦度的配合,可实现在大视场下物方远心投影成像,且成像清晰度高。

    一种用石墨烯掩膜生长氮化镓的方法

    公开(公告)号:CN111668089A

    公开(公告)日:2020-09-15

    申请号:CN202010546964.1

    申请日:2020-06-16

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明属于半导体领域,为降低外延生长氮化镓的位错密度,公开了一种用石墨烯掩膜生长氮化镓的方法,包括氮化镓层、石墨烯掩膜层、衬底层,衬底层上通过等离子体增强化学气相沉积法直接生长石墨烯掩膜层,石墨烯掩膜层通过刻蚀形成了光栅状条纹,石墨烯掩膜层上通过金属有机物化学气相沉积生长氮化镓层。有益效果:石墨烯掩膜层结构可以有效地降低氮化镓位错,提高其生长质量;由于石墨烯是二维材料,可以降低掩膜层带来的低角度晶界缺陷;同时也利用石墨烯散热性好的特点,从而大幅提高氮化镓器件的散热性能;石墨烯掩膜层与氮化镓层由弱的范德华力结合的特点也使得氮化镓层易于剥离。本结构同时也可以应用于除氮化镓以外的III-V族化合物半导体。

    全介质像素式全斯托克斯成像偏振器件的制备方法

    公开(公告)号:CN108845384A

    公开(公告)日:2018-11-20

    申请号:CN201810691569.5

    申请日:2016-08-29

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明提供了一种全介质像素式全斯托克斯成像偏振器的制备方法,偏振器包括透光基底以及位于基底上的半导体介质层;介质层由超像素单元阵列组成;超像素单元包括0°趋向的线栅结构、45°趋向的线栅结构、90°趋向的介质线栅结构和一个Z型通孔结构单元阵列构成;其中得到的全介质像素式全斯托克斯成像偏振器线偏振片的透过率在1.40μm-1.60μm接近100%,消光比20dB以上,最高可到70dB;其圆二色性在1.50μm-1.61μm波段平均在70%以上,在1.53μm处圆二色性最高可达到98.3%。本发明具有波段较宽,结构简单,易于制作的特点,在以后的光学传感系统、先进的纳米光子器件以及集成光学系统中,具有很大的应用价值。

    基于表面等离子基元的全斯托克斯矢量偏振器的制备方法

    公开(公告)号:CN108802872A

    公开(公告)日:2018-11-13

    申请号:CN201810692087.1

    申请日:2016-07-17

    Applicant: 苏州大学

    CPC classification number: G02B5/008 G02B5/3058 G02B27/28

    Abstract: 本发明提供了一种基于表面等离子基元的全斯托克斯矢量偏振器的制备方法,包括透光基底以及位于基底上的金属层;金属层由晶胞单元阵列组成;晶胞单元包括0°趋向的金属线栅结构、90°趋向的金属线栅结构、45°趋向的金属线栅结构和一个手性结构;手性结构由Z型结构单元阵列构成;其中,线偏振片的透过率为85%以上,消光比50dB以上;右旋圆偏振光在1.6μm波长处透过率为60%,左旋圆偏振光的透过率为4%,圆二向色性可以达到56%,可以实现实时全偏振成像。本发明具有波段较宽,结构简单,易于制作的特点,在以后的光学传感系统、先进的纳米光子器件以及集成光学系统中,具有很大的应用价值。

    基于表面等离子基元的全斯托克斯矢量偏振器

    公开(公告)号:CN106019451B

    公开(公告)日:2018-07-31

    申请号:CN201610560622.9

    申请日:2016-07-17

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明提供了种基于表面等离子基元的全斯托克斯矢量偏振器及其制备方法,包括透光基底以及位于基底上的金属层;金属层由晶胞单元阵列组成;晶胞单元包括0°趋向的金属线栅结构、90°趋向的金属线栅结构、45°趋向的金属线栅结构和个手性结构;手性结构由Z型结构单元阵列构成;其中,线偏振片的透过率为85%以上,消光比50dB以上;右旋圆偏振光在1.6μm波长处透过率为60%,左旋圆偏振光的透过率为4%,圆二向色性可以达到56%,可以实现实时全偏振成像。本发明具有波段较宽,结构简单,易于制作的特点,在以后的光学传感系统、先进的纳米光子器件以及集成光学系统中,具有很大的应用价值。

    全介质像素式全斯托克斯成像偏振器件

    公开(公告)号:CN106154388B

    公开(公告)日:2018-07-20

    申请号:CN201610746267.4

    申请日:2016-08-29

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明提供了一种全介质像素式全斯托克斯成像偏振器及其制备方法,包括透光基底以及位于基底上的半导体介质层;介质层由超像素单元阵列组成;超像素单元包括0°趋向的线栅结构、45°趋向的线栅结构、90°趋向的介质线栅结构和一个Z型通孔结构单元阵列构成;其中得到的全介质像素式全斯托克斯成像偏振器线偏振片的透过率在1.40μm‑1.60μm接近100%,消光比20dB以上,最高可到70dB;其圆二色性在1.50μm‑1.61μm波段平均在70%以上,在1.53μm处圆二色性最高可达到98.3%。本发明具有波段较宽,结构简单,易于制作的特点,在以后的光学传感系统、先进的纳米光子器件以及集成光学系统中,具有很大的应用价值。

    一种纳米颗粒阵列的偏振出光发光二极管

    公开(公告)号:CN103219439B

    公开(公告)日:2016-06-15

    申请号:CN201310144195.2

    申请日:2013-04-24

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明公开了一种纳米颗粒阵列的偏振出光发光二极管。它的发光二极管芯片包括由工作区衬底n型区、p型区、量子阱和纳米颗粒阵列结构组成的。本发明的主要特征是在LED的出光表面上直接制备纳米颗粒阵列,由纳米颗粒构成线光栅的偏振结构,以获得偏振出光,其光栅周期为50~400nm,占空比为0.2~0.9,厚度为50~400nm纳米,纳米颗粒的直径为5~200nm。与现有技术线光栅偏振器相比,本发明提供的偏振出光发光二极管制备简便,降低成本,且具有良好的偏振消光比和透过率。

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