公开(公告)号：CN115881587A

公开(公告)日：2023-03-31

申请号：CN202211158535.2

申请日：2022-09-22

Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社

Inventor： 松下淳 ,  埀野阳子

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明提供一种基板干燥装置、基板处理装置及基板干燥方法。实施方式的基板干燥装置具有：加热部；第一挥发性溶剂供给部；第二挥发性溶剂供给部，供给第二挥发性溶剂，所述第二挥发性溶剂包含拨水化剂且气化时的表面张力比第一挥发性溶剂小；干燥室，在其中搬入形成有液膜的基板；驱动机构，使基板旋转；以及控制装置，从第一挥发性溶剂供给部供给第一挥发性溶剂，将液膜置换为第一挥发性溶剂，并从第二挥发性溶剂供给部供给第二挥发性溶剂，将形成于基板上的第一挥发性溶剂置换为第二挥发性溶剂，并且形成拨水化膜，使加热部对基板进行加热，在第二挥发性溶剂的液膜与基板之间产生气层，通过旋转所带来的离心力将第二挥发性溶剂的液膜排出。

公开(公告)号：CN115148626A

公开(公告)日：2022-10-04

申请号：CN202210248057.8

申请日：2022-03-14

Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社

Inventor： 古矢正明 ,  土持鹰彬 ,  松下淳 ,  小林浩秋 ,  森秀树 ,  香川友耶

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明提供一种能够提高在基板的整个周向上的处理速率的均匀性的基板处理装置。实施方式的基板处理装置包括：保持部，包括保持基板的外周缘的多个卡盘销；卡盘开闭机构，使多个卡盘销在远离基板的打开位置和与基板的外周缘相接而保持基板的关闭位置之间移动；环构件，具有沿着基板的外周缘的形状的内周缘、与设置于内周缘且供处于关闭位置的卡盘销进入的切口，并在整周上一体地形成；以及环移动机构，基板处理装置中，在环构件的内周缘接近基板的外周缘而包围的接近位置、与使环构件从基板的外周缘退避的退避位置之间移动。