公开(公告)号：CN115148627A

公开(公告)日：2022-10-04

申请号：CN202210282507.5

申请日：2022-03-22

Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社

Inventor： 埀野阳子

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种能够减少图案闭塞的发生的基板干燥装置及基板处理装置。本发明的实施方式的基板干燥装置(300)具有：加热部(32)，对基板(W)进行加热；干燥室(31)，供在被处理面上形成有处理液所形成的液膜的状态的基板(W)搬入；支撑部(34)，在远离加热部(32)的待机位置(D)上收领搬入到干燥室(31)内的基板(W)；以及驱动机构(35)，使支撑部(34)上支撑的基板(W)一边旋转一边朝接近加热部(32)的干燥位置(U)移动，通过基板(W)的旋转带来的离心力使在自身与被加热部(32)加热后的基板(W)之间产生了气层的液膜排出。

公开(公告)号：CN115881587A

公开(公告)日：2023-03-31

申请号：CN202211158535.2

申请日：2022-09-22

Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社

Inventor： 松下淳 ,  埀野阳子

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明提供一种基板干燥装置、基板处理装置及基板干燥方法。实施方式的基板干燥装置具有：加热部；第一挥发性溶剂供给部；第二挥发性溶剂供给部，供给第二挥发性溶剂，所述第二挥发性溶剂包含拨水化剂且气化时的表面张力比第一挥发性溶剂小；干燥室，在其中搬入形成有液膜的基板；驱动机构，使基板旋转；以及控制装置，从第一挥发性溶剂供给部供给第一挥发性溶剂，将液膜置换为第一挥发性溶剂，并从第二挥发性溶剂供给部供给第二挥发性溶剂，将形成于基板上的第一挥发性溶剂置换为第二挥发性溶剂，并且形成拨水化膜，使加热部对基板进行加热，在第二挥发性溶剂的液膜与基板之间产生气层，通过旋转所带来的离心力将第二挥发性溶剂的液膜排出。