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公开(公告)号：CN118016561A
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN202311473692.7
申请日：2023-11-07
IPC: H01L21/67 , H01L21/687 , H01L21/306
Abstract: 一种用于处理衬底的装置和方法可以降低化学溶液中的处理副产物的浓度。该装置包括：衬底旋转设备，其被配置成以旋转方式旋转安置的衬底；化学溶液供应设备，其被配置成向衬底供应化学溶液；化学溶液排放管线，其被配置成将已经历处理的化学溶液排放到外部；化学溶液循环管线，其被配置成将已经历处理的化学溶液循环到化学溶液供应设备；以及排放化学溶液选择设备，其被配置成通过化学溶液排放管线将包含第一数量的处理副产物的化学溶液排放到外部，并且通过化学溶液循环管线使包含第二数量的处理副产物的化学溶液循环，其中第一数量的处理副产物大于第二数量的处理副产物。
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公开(公告)号：CN119725147A
公开(公告)日：2025-03-28
申请号：CN202410858353.9
申请日：2024-06-28
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 一种处理液体供应设备，包括：排出管线，处理液体通过所述排出管线从基板处理设备排出；第一罐，所述第一罐存储通过所述排出管线进行回收的回收的处理液体；处理液体供应单元，所述处理液体供应单元通过第一输送管线将新的处理液体供应到所述排出管线；第一加热单元，所述第一加热单元设置在所述处理液体供应单元和所述排出管线之间，并且控制经过所述第一输送管线的所述新的处理液体的温度；和第二罐，所述第二罐通过供应管线将通过第二输送管线从所述第一罐供应的所述回收的处理液体再供应到所述基板处理设备。
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公开(公告)号：CN113555299A
公开(公告)日：2021-10-26
申请号：CN202110449834.0
申请日：2021-04-25
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 本发明涉及基板处理装置和液体供应方法。本发明构思提供基板处理装置。在实施方式中，基板处理装置包括：壳体，该壳体具有用于在该壳体的内部中处理基板的处理空间；支承单元，该支承单元在该处理空间中支承该基板；喷嘴，该喷嘴将液体供应到位于该支承单元上的基板；液体供应单元，该液体供应单元将液体供应到该喷嘴；以及控制器，该控制器控制该液体供应单元，该液体供应单元包括：罐，该罐具有用于存储液体的内部空间；以及第一循环管线，该第一循环管线使存储在内部空间中的液体循环，第一加热器安装在该第一循环管线中，并且该控制器控制第一加热器，使得该第一加热器将液体加热到第一温度，在该第一温度下在液体的内部中的颗粒不被洗脱。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN119446967A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202411058813.6
申请日：2024-08-02
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 本发明公开了一种臭氧水供应单元及包括该臭氧水供应单元的基板处理装置，其能够维持供应到基板的臭氧水的臭氧浓度稳定。该基板处理装置包括：腔室，该腔室用于使用包含臭氧水的液体对装载到处理空间中的基板进行液体处理；以及臭氧水供应单元，该臭氧水供应单元用于将臭氧水供应到处理空间，其中，臭氧水供应单元包括：臭氧水生成器，该臭氧水生成器用于生成臭氧水；臭氧水供应管线，该臭氧水供应管线用于将由臭氧水生成器生成的臭氧水供应到处理空间；以及冷却器，该冷却器设置在臭氧水供应管线中、以将流动通过臭氧水供应管线的臭氧水进行冷却。
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公开(公告)号：CN112750730B
公开(公告)日：2025-01-03
申请号：CN202011206160.3
申请日：2020-11-02
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 一种化学制品供应设备，包括：蒸发单元，其设置在化学制品供应源的下游以使向其中供应的化学制品蒸发；过滤器单元，其设置在所述蒸发单元的下游，其中当蒸发的化学制品通过所述过滤器单元时，所述过滤器单元过滤所述蒸发的化学制品中的杂质；液化单元，其设置在所述过滤器单元的下游以液化所述蒸发的化学制品；以及化学制品储罐，其设置在所述液化单元的下游以在其中储存所述液化的化学制品，其中在所述化学制品供应源与所述液化单元之间设置电极，其中所述电极与所述化学制品或所述化学制品中的颗粒发生电反应以改变所述化学制品或所述颗粒的电特性。
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公开(公告)号：CN113555299B
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202110449834.0
申请日：2021-04-25
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 本发明涉及基板处理装置和液体供应方法。本发明构思提供基板处理装置。在实施方式中，基板处理装置包括：壳体，该壳体具有用于在该壳体的内部中处理基板的处理空间；支承单元，该支承单元在该处理空间中支承该基板；喷嘴，该喷嘴将液体供应到位于该支承单元上的基板；液体供应单元，该液体供应单元将液体供应到该喷嘴；以及控制器，该控制器控制该液体供应单元，该液体供应单元包括：罐，该罐具有用于存储液体的内部空间；以及第一循环管线，该第一循环管线使存储在内部空间中的液体循环，第一加热器安装在该第一循环管线中，并且该控制器控制第一加热器，使得该第一加热器将液体加热到第一温度，在该第一温度下在液体的内部中的颗粒不被洗脱。
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公开(公告)号：CN112750730A
公开(公告)日：2021-05-04
申请号：CN202011206160.3
申请日：2020-11-02
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 一种化学制品供应设备，包括：蒸发单元，其设置在化学制品供应源的下游以使向其中供应的化学制品蒸发；过滤器单元，其设置在所述蒸发单元的下游，其中当蒸发的化学制品通过所述过滤器单元时，所述过滤器单元过滤所述蒸发的化学制品中的杂质；液化单元，其设置在所述过滤器单元的下游以液化所述蒸发的化学制品；以及化学制品储罐，其设置在所述液化单元的下游以在其中储存所述液化的化学制品，其中在所述化学制品供应源与所述液化单元之间设置电极，其中所述电极与所述化学制品或所述化学制品中的颗粒发生电反应以改变所述化学制品或所述颗粒的电特性。
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