公开(公告)号：CN118016561A

公开(公告)日：2024-05-10

申请号：CN202311473692.7

申请日：2023-11-07

Applicant: 细美事有限公司 ,  三星电子株式会社

Inventor： 金珉贞 ,  韩真儿 ,  金俙焕 ,  洪榕焄 ,  金京肃 ,  朴钟赫 ,  朴珍炯 ,  郑大赫 ,  车知勋

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  H01L21/306

Abstract: 一种用于处理衬底的装置和方法可以降低化学溶液中的处理副产物的浓度。该装置包括：衬底旋转设备，其被配置成以旋转方式旋转安置的衬底；化学溶液供应设备，其被配置成向衬底供应化学溶液；化学溶液排放管线，其被配置成将已经历处理的化学溶液排放到外部；化学溶液循环管线，其被配置成将已经历处理的化学溶液循环到化学溶液供应设备；以及排放化学溶液选择设备，其被配置成通过化学溶液排放管线将包含第一数量的处理副产物的化学溶液排放到外部，并且通过化学溶液循环管线使包含第二数量的处理副产物的化学溶液循环，其中第一数量的处理副产物大于第二数量的处理副产物。