公开(公告)号：CN112117232B

公开(公告)日：2023-07-28

申请号：CN202010575185.4

申请日：2020-06-22

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 朴仁煌 ,  朴贵秀 ,  李暎熏 ,  崔永燮 ,  吴承勋 ,  禹钟贤 ,  诸振模

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明涉及基板支承单元和具有该基板支承单元的基板处理装置。一种用于支承基板的装置包括：可转动的旋转头，其支承所述基板；中空轴，其与所述旋转头连接、并将扭矩传递至所述旋转头；喷嘴组件，其设置在所述旋转头的内部空间中从而不旋转，并且将处理液供应到所述基板的背侧；和密封部件，其使用磁性流体密封所述旋转头与所述喷嘴组件之间的间隙。

公开(公告)号：CN116387192A

公开(公告)日：2023-07-04

申请号：CN202211733910.1

申请日：2022-12-30

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 李福圭 ,  沈秉禹 ,  高镛璿 ,  崔永燮 ,  田明娥

IPC: H01L21/67 ,  C02F1/02 ,  H01L21/02 ,  B08B3/02 ,  B08B3/08 ,  C02F101/10 ,  C02F103/34

Abstract: 公开了一种分解臭氧水中的臭氧的方法。根据本发明，通过将臭氧水与经加热的水混合来升高臭氧水的温度，并且通过温度的升高而将臭氧水中的臭氧分解成氧气。

公开(公告)号：CN119446967A

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202411058813.6

申请日：2024-08-02

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 田明娥 ,  洪榕焄 ,  洪志守 ,  李福圭 ,  崔永燮

IPC: H01L21/67 ,  B08B3/08 ,  B08B3/04

Abstract: 本发明公开了一种臭氧水供应单元及包括该臭氧水供应单元的基板处理装置，其能够维持供应到基板的臭氧水的臭氧浓度稳定。该基板处理装置包括：腔室，该腔室用于使用包含臭氧水的液体对装载到处理空间中的基板进行液体处理；以及臭氧水供应单元，该臭氧水供应单元用于将臭氧水供应到处理空间，其中，臭氧水供应单元包括：臭氧水生成器，该臭氧水生成器用于生成臭氧水；臭氧水供应管线，该臭氧水供应管线用于将由臭氧水生成器生成的臭氧水供应到处理空间；以及冷却器，该冷却器设置在臭氧水供应管线中、以将流动通过臭氧水供应管线的臭氧水进行冷却。

公开(公告)号：CN115360117A

公开(公告)日：2022-11-18

申请号：CN202210531060.0

申请日：2022-05-16

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 朴美昭 ,  李暎熏 ,  崔永燮 ,  郑镇优

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明构思提供了一种基板处理装置。该基板处理装置包括：腔室，在该腔室中具有内部空间；流体供应单元，其具有被配置为将处理流体供应到内部空间的供应管线和被配置为将处理流体供应到供应管线的流体供应源；第一排放单元，其被配置为对内部空间进行排放；第二排放单元，其被配置为对供应管线进行排放；以及控制器，其被配置为控制流体供应单元、第一排放单元和第二排放单元，并且其中控制器控制流体供应单元和第二排放单元，使得在待机步骤的至少一部分期间，供应管线的压力被维持在处理流体的临界压力或更高压力，该待机步骤用于在将基板引入内部空间之前将基板保持在内部空间之外。

公开(公告)号：CN112151416A

公开(公告)日：2020-12-29

申请号：CN202010608751.7

申请日：2020-06-29

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 崔永燮 ,  李暎熏 ,  徐溶晙 ,  李福圭 ,  朴美昭

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明构思涉及一种用于处理基板的装置。在一实施方案中，所述装置包括：工艺腔室，其具有工艺空间，在所述工艺空间中用超临界状态的流体对所述基板进行处理；支承单元，其在所述工艺空间中支承所述基板；流体供应单元，其将所述流体供应到所述工艺空间中；填充构件，其设置为面对放置在所述工艺空间中的所述支承单元上的所述基板；以及测量单元，其测量所述工艺空间中的状态，所述测量单元设置在所述填充构件中。

公开(公告)号：CN112151416B

公开(公告)日：2024-12-17

申请号：CN202010608751.7

申请日：2020-06-29

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 崔永燮 ,  李暎熏 ,  徐溶晙 ,  李福圭 ,  朴美昭

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明构思涉及一种用于处理基板的装置。在一实施方案中，所述装置包括：工艺腔室，其具有工艺空间，在所述工艺空间中用超临界状态的流体对所述基板进行处理；支承单元，其在所述工艺空间中支承所述基板；流体供应单元，其将所述流体供应到所述工艺空间中；填充构件，其设置为面对放置在所述工艺空间中的所述支承单元上的所述基板；以及测量单元，其测量所述工艺空间中的状态，所述测量单元设置在所述填充构件中。

公开(公告)号：CN118295221A

公开(公告)日：2024-07-05

申请号：CN202311555668.8

申请日：2023-11-21

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 田明娥 ,  崔永燮 ,  李福圭 ,  李主晟 ,  车帝明

IPC: G03F7/42 ,  H01L21/67 ,  H01L21/027

Abstract: 提供了一种能够通过使用两种不同类型的化学液体来提高光刻胶去除效率的衬底处理设备和方法。所述衬底处理设备包括：衬底支撑单元，所述衬底支撑单元用于支撑衬底和使所述衬底旋转；和喷洒单元，所述喷洒单元用于使用喷嘴结构将衬底处理液体排放到所述衬底上，其中所述喷嘴结构包括：第一入口管，所述第一入口管用于提供第一化学液体；第二入口管，所述第二入口管用于提供第二化学液体；反应空间模块，在所述反应空间模块中所述第一化学液体和所述第二化学液体混合；以及排放管，所述排放管用于将所述第一化学液体和所述第二化学液体的混合溶液排放到所述衬底处理液体中，其中所述第一化学液体包含臭氧气体，并且所述第二化学液体包含OH组分。

公开(公告)号：CN117497447A

公开(公告)日：2024-02-02

申请号：CN202310883958.9

申请日：2023-07-18

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 田明娥 ,  崔永燮 ,  金永珍 ,  崔恩赫 ,  李福圭 ,  车帝明 ,  张奎焕

IPC: H01L21/67

Abstract: 提供了一种多个喷嘴头一体地联接的喷射单元和包括该喷射单元的衬底处理设备。该衬底处理设备包括：衬底支撑单元，支撑衬底并包括旋转衬底的旋转头；处理液体回收单元，回收用于处理衬底的衬底处理液体；和喷射单元，包括多个喷嘴头和连接到喷嘴头的多个管，并通过喷嘴头和管将衬底处理液体提供到衬底上，其中喷嘴头同时移动。

公开(公告)号：CN114695200A

公开(公告)日：2022-07-01

申请号：CN202111664808.6

申请日：2021-12-31

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 崔永燮 ,  徐溶晙 ,  孙相睍 ,  李相旼 ,  禹钟贤 ,  金焕彬

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/68

Abstract: 公开一种基板式传感器、通过使用该基板式传感器来测量水平度的方法以及非暂时性计算机可读介质。在实施例中，该方法可包括步骤(1)将基板式传感器以第一角度定位于支承构件中，步骤(2)将由步骤(1)中一个或多个传感器收集的数据作为第一数据接收，步骤(3)将基板式传感器以不同于第一角度的第二角度定位于支承构件中，步骤(4)将由步骤(3)中一个或多个传感器收集的数据作为第二数据接收，及步骤(5)通过比较第一数据与第二数据判定支承构件是否水平。

公开(公告)号：CN114628283A

公开(公告)日：2022-06-14

申请号：CN202111488676.6

申请日：2021-12-08

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 诸振模 ,  吴承勋 ,  崔永燮 ,  朴美昭 ,  禹钟贤

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供基板处理设备及设置在基板处理设备中的装填构件，该设备包括容器，在该容器中形成有密封型处理空间，基板容纳在处理空间；设置在容器的壁的内部的供应端口，以供应处理流体至处理空间；设置在容器的壁的内部并与供应端口间隔开的排放端口；以及设置在处理空间中的缓冲构件，在俯视时，缓冲构件设置在与供应端口及排放端口重叠的位置。缓冲构件包括侧壁部，该侧壁部位于供应端口及排放端口外，并能与容器的壁接触；以及上壁部，该上壁部具有在其中形成的通孔，以对应于基板的中心，通孔在向上/向下方向形成直线的流动路径。