公开(公告)号：CN102557945A

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：CN201110374282.8

申请日：2011-11-22

Applicant: 第一毛织株式会社 ,  三星电子株式会社

Inventor： 郑知英 ,  郑闵鞠 ,  赵显龙 ,  俞龙植 ,  李廷宇 ,  李种和 ,  田桓承 ,  金洙荣 ,  金永虎 ,  金在贤 ,  朴秀敏

IPC: C07C69/84 ,  G03F7/039 ,  G03F7/016

CPC classification number: G03F7/0226 ,  C07C69/84 ,  G03F7/0233

Abstract: 本发明公开了一种新型酚化合物和包含其的正性光敏树脂组合物，所述新型酚化合物选自由化学式1表示的化合物、由化学式2表示的化合物、以及它们的组合。所述正性光敏树脂组合物具有优异的感光度、分辨率、图案形成性能、残留物除去性能、机械性能和可靠性。

公开(公告)号：CN102540725A

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN201110374325.2

申请日：2011-11-22

Applicant: 第一毛织株式会社 ,  三星电子株式会社

Inventor： 赵显龙 ,  郑闵鞠 ,  郑知英 ,  李种和 ,  俞龙植 ,  李廷宇 ,  田桓承 ,  金洙荣 ,  金永虎 ,  金宰贤 ,  朴秀敏

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/016 ,  H01L23/29

CPC classification number: G03F7/0233 ,  H01L23/293 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明公开了一种正性光敏树脂组合物，所述正性光敏树脂组合物包括(A)包含由下列化学式1表示的重复单元的聚苯并噁唑前体；(B)光敏重氮醌化合物；(C)硅烷化合物；(D)酚化合物；和(E)溶剂。在上述化学式1中，各个取代基与说明书中所限定的相同。本发明的正性光敏树脂组合物具有高感光度、高分辨率、良好的图案形成性能和优异的残留物除去性能。[化学式1]

公开(公告)号：CN102531910A

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN201110301200.7

申请日：2011-09-28

Applicant: 第一毛织株式会社 ,  三星电子株式会社

Inventor： 郑闵鞠 ,  郑知英 ,  赵显龙 ,  俞龙植 ,  李廷宇 ,  李种和 ,  田桓承 ,  金洙荣 ,  金永虎 ,  金在贤 ,  朴秀敏

IPC: C07C205/42 ,  C07C201/12 ,  G03F7/039

CPC classification number: C07C205/42 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0236 ,  G03F7/0751 ,  G03F7/0755

Abstract: 本发明提供了包括由化学式1表示的化合物的邻硝基苄酯化合物，和包含该邻硝基苄酯化合物的正型光敏树脂组合物。本发明还提供了一种利用该正型光敏树脂组合物制造的光敏树脂膜和包括该光敏树脂膜的半导体器件。本发明的正型光敏树脂组合物具有优异的灵敏度、分辨率、图案外观和残余物除去性能。[化学式1]

公开(公告)号：CN102540725B

公开(公告)日：2014-01-29

申请号：CN201110374325.2

申请日：2011-11-22

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 赵显龙 ,  郑闵鞠 ,  郑知英 ,  李种和 ,  俞龙植 ,  李廷宇 ,  田桓承 ,  金洙荣 ,  金永虎 ,  金宰贤 ,  朴秀敏

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/016 ,  H01L23/29

CPC classification number: G03F7/0233 ,  H01L23/293 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明公开了一种正性光敏树脂组合物，所述正性光敏树脂组合物包括(A)包含由下列化学式1表示的重复单元的聚苯并噁唑前体；(B)光敏重氮醌化合物；(C)硅烷化合物；(D)酚化合物；和(E)溶剂。在上述化学式1中，各个取代基与说明书中所限定的相同。本发明的正性光敏树脂组合物具有高感光度、高分辨率、良好的图案形成性能和优异的残留物除去性能。[化学式1]

公开(公告)号：CN1211708C

公开(公告)日：2005-07-20

申请号：CN00118160.2

申请日：2000-03-30

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金永虎 ,  郑会式 ,  全相文 ,  李富燮

IPC: G03F7/023

CPC classification number: G03F7/0236

Abstract: 本发明公开了一种具有改善的感光度和分辨率的正性光刻胶组合物，该组合物的制备方法，以及在半导体工艺中使用该组合物形成图纹的方法。该光刻胶组合物包括：(i)由用分子式(1)表示的第一种感光化合物和用分子式(2a)或(2b)表示的第二种感光化合物混合得到的感光物质；(ii)树脂；和(iii)溶剂。由于该光刻胶组合物的高感光度和高分辨率，本发明可以制作具有特别优异轮廓的图纹。

公开(公告)号：CN101231464B

公开(公告)日：2012-02-22

申请号：CN200810003862.4

申请日：2008-01-24

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 尹孝镇 ,  权宁吉 ,  金永虎 ,  金导永 ,  崔在喜 ,  白世卿

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

CPC classification number: C07D493/08 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07C2603/74 ,  C07D333/46 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

Abstract: 光致抗蚀剂组合物包含：约4％至约10重量％的光致抗蚀剂树脂；约0.1％至约0.5重量％的光致酸生成剂，所述光致酸生成剂具有锍盐阳离子基团和含有羧基作为亲水部位的锍盐阴离子基团；和余量的溶剂。所述光致抗蚀剂组合物可以形成具有均匀外形的光致抗蚀剂图案。

公开(公告)号：CN101231464A

公开(公告)日：2008-07-30

申请号：CN200810003862.4

申请日：2008-01-24

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 尹孝镇 ,  权宁吉 ,  金永虎 ,  金导永 ,  崔在喜 ,  白世卿

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

CPC classification number: C07D493/08 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07C2603/74 ,  C07D333/46 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

Abstract: 光致抗蚀剂组合物包含：约4％至约10重量％的光致抗蚀剂树脂；约0.1％至约0.5重量％的光致酸生成剂，所述光致酸生成剂具有锍盐阳离子基团和含有羧基作为亲水部位的锍盐阴离子基团；和余量的溶剂。所述光致抗蚀剂组合物可以形成具有均匀外形的光致抗蚀剂图案。

公开(公告)号：CN1282004A

公开(公告)日：2001-01-31

申请号：CN00118160.2

申请日：2000-03-30

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金永虎 ,  郑会式 ,  全相文 ,  李富燮

IPC: G03F7/012

CPC classification number: G03F7/0236

Abstract: 本发明公开了一种具有改善的感光度和分辨率的正性光刻胶组合物,该组合物的制备方法,以及在半导体工艺中使用该组合物形成图纹的方法。该光刻胶组合物包括:(i)由用分子式(1)表示的第一种感光化合物和用分子式(2a)或(2b)表示的第二种感光化合物混合得到的感光物质;(ii)树脂;和(iii)溶剂。由于该光刻胶组合物的高感光度和高分辨率,本发明可以制作具有特别优异轮廓的图纹。