用于使用激光维持等离子体照明输出对样本进行成像的系统及方法

    公开(公告)号:CN105593740A

    公开(公告)日:2016-05-18

    申请号:CN201480052528.1

    申请日:2014-08-14

    Abstract: 本发明揭示使用来自激光维持等离子体的VUV光进行样本的检验,其包含:产生包含第一所选择波长或波长范围的泵浦照明;容纳适用于等离子体产生的一定体积的气体;通过将所述泵浦照明聚焦到所述一定体积的气体中而在所述一定体积的气体内形成等离子体来产生包含第二所选择波长或波长范围的宽带辐射;使用从所述等离子体发射的所述宽带辐射经由照明路径照明样本的表面;收集来自所述样本的表面的照明;将所述经收集照明经由收集路径聚焦到检测器上,以形成所述样本的所述表面的至少一部分的图像;以及使用所选择吹扫气体吹扫所述照明路径及/或所述收集路径。

    全反射性晶片缺陷检验及重检系统及方法

    公开(公告)号:CN107407644A

    公开(公告)日:2017-11-28

    申请号:CN201680013333.5

    申请日:2016-03-04

    Inventor: 张时雨 赵伟

    Abstract: 本发明揭示用于将从目标衬底反射的红外到真空紫外VUV光反射朝向传感器的方法及设备。所述系统包含:第一镜,其经布置以接收且反射从所述目标衬底反射的所述红外到VUV光;及第二镜,其经布置以接收且反射由所述第一镜反射的红外到VUV光。所述第一镜及所述第二镜经布置且经塑形以将来自所述目标衬底的红外到VUV光反射朝向所述设备的光轴。在另一实施例中,所述设备还可包含:第三镜,其经布置以接收且反射由所述第二镜反射的所述红外到VUV光;及第四镜,其经布置以接收由所述第三镜反射的此照明光,且将所述照明光反射朝向所述传感器。在又一实施例中,使用反射或折射光学器件,将通过上述光学器件的图像中继到所述传感器;通过调整所述中间图像与所述中继光学器件之间的距离来实现各种放大率。

    全反射性晶片缺陷检验及重检系统及方法

    公开(公告)号:CN107407644B

    公开(公告)日:2021-03-23

    申请号:CN201680013333.5

    申请日:2016-03-04

    Inventor: 张时雨 赵伟

    Abstract: 本发明揭示用于将从目标衬底反射的红外到真空紫外VUV光反射朝向传感器的方法及设备。所述系统包含:第一镜,其经布置以接收且反射从所述目标衬底反射的所述红外到VUV光;及第二镜,其经布置以接收且反射由所述第一镜反射的红外到VUV光。所述第一镜及所述第二镜经布置且经塑形以将来自所述目标衬底的红外到VUV光反射朝向所述设备的光轴。在另一实施例中,所述设备还可包含:第三镜,其经布置以接收且反射由所述第二镜反射的所述红外到VUV光;及第四镜,其经布置以接收由所述第三镜反射的此照明光,且将所述照明光反射朝向所述传感器。在又一实施例中,使用反射或折射光学器件,将通过上述光学器件的图像中继到所述传感器;通过调整所述中间图像与所述中继光学器件之间的距离来实现各种放大率。

    用于使用激光维持等离子体照明输出对样本进行成像的系统及方法

    公开(公告)号:CN105593740B

    公开(公告)日:2020-05-08

    申请号:CN201480052528.1

    申请日:2014-08-14

    Abstract: 本发明揭示使用来自激光维持等离子体的VUV光进行样本的检验,其包含:产生包含第一所选择波长或波长范围的泵浦照明;容纳适用于等离子体产生的一定体积的气体;通过将所述泵浦照明聚焦到所述一定体积的气体中而在所述一定体积的气体内形成等离子体来产生包含第二所选择波长或波长范围的宽带辐射;使用从所述等离子体发射的所述宽带辐射经由照明路径照明样本的表面;收集来自所述样本的表面的照明;将所述经收集照明经由收集路径聚焦到检测器上,以形成所述样本的所述表面的至少一部分的图像;以及使用所选择吹扫气体吹扫所述照明路径及/或所述收集路径。

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