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公开(公告)号：CN112542399B
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN202010823747.2
申请日：2020-08-17
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够合适地处理基板的基板处理方法以及基板处理装置。本发明涉及一种基板处理方法以及基板处理装置(1)。基板处理方法具有向由固定销(103)在比第一板(101)的上表面(102)更靠上方的位置支撑的基板(W)供给处理液的步骤(S39)。在向基板(W)供给处理液的步骤(S39)中，从第一吹出口(105)向上方吹出气体，并且从第二吹出口(106)向上方吹出气体。第一吹出口(105)形成于第一板(101)的上表面(102)的中央部。第二吹出口(105)形成于第一板(101)的上表面(102)的周缘部。第二吹出口(106)以比第一吹出口(105)大的流量吹出气体。
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公开(公告)号：CN109427619B
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN201810847899.9
申请日：2018-07-27
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供基板处理方法及基板处理装置。基板处理方法包括：在由具有第一挡板及第二挡板的多个挡板包围的位置配置基板并保持基板的基板保持工序；使基板绕通过基板的中央部的铅垂的旋转轴线旋转的基板旋转工序；向基板的上表面供给使其疏水化的液体的疏水化剂供给工序；向基板的上表面供给低表面张力液体的低表面张力液体供给工序；在低表面张力液体供给工序开始前使多个挡板中的至少一个上下移动来将多个挡板的状态切换为第一挡板承接从基板飞散的液体的第一状态的第一挡板切换工序；以及在低表面张力液体供给工序的执行过程中使多个挡板上下移动来将多个挡板的状态从第一状态切换至第二挡板承接从基板飞散的液体的第二状态的第二挡板切换工序。
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公开(公告)号：CN111602230A
公开(公告)日：2020-08-28
申请号：CN201880085719.6
申请日：2018-11-19
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明提供能够改善图案倒塌及颗粒问题的衬底处理方法及衬底处理装置。衬底处理方法包括下述工序：表面改性工序，针对在表面具有氧化物的衬底的表面，实施将该表面的粗糙加以改善的改性；表面清洗工序，向上述衬底的经改性的上述表面供给处理液，通过该处理液对衬底的表面进行清洗；和疏水化工序，向上述衬底的经清洗的上述表面供给疏水化剂，将上述衬底的表面疏水化。
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公开(公告)号：CN109427619A
公开(公告)日：2019-03-05
申请号：CN201810847899.9
申请日：2018-07-27
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供基板处理方法及基板处理装置。基板处理方法包括：在由具有第一挡板及第二挡板的多个挡板包围的位置配置基板并保持基板的基板保持工序；使基板绕通过基板的中央部的铅垂的旋转轴线旋转的基板旋转工序；向基板的上表面供给使其疏水化的液体的疏水化剂供给工序；向基板的上表面供给低表面张力液体的低表面张力液体供给工序；在低表面张力液体供给工序开始前使多个挡板中的至少一个上下移动来将多个挡板的状态切换为第一挡板承接从基板飞散的液体的第一状态的第一挡板切换工序；以及在低表面张力液体供给工序的执行过程中使多个挡板上下移动来将多个挡板的状态从第一状态切换至第二挡板承接从基板飞散的液体的第二状态的第二挡板切换工序。
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公开(公告)号：CN107799389A
公开(公告)日：2018-03-13
申请号：CN201710770930.9
申请日：2017-08-31
Applicant: 株式会社斯库林集团
CPC classification number: H01L21/02087 , B08B3/08 , H01L21/02052 , H01L21/02057 , H01L21/02068 , H01L21/02101 , H01L21/67028 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/67109 , H01L21/6719 , H01L21/67253
Abstract: 一种基板处理方法，其包括：将基板水平保持的基板保持工序；在前述被保持为水平的基板的上表面相向配置相向部件的相向配置工序；由前述被保持为水平的基板、前述相向部件、以及在俯视下包围前述被保持为水平的基板及前述相向部件的挡板形成与外部的环境气体往来被限制的空间的空间形成工序；向前述空间供给非活性气体的非活性气体供给工序；通过一边维持前述空间一边使前述相向部件相对于前述被保持为水平的基板升降从而对前述基板的上表面与前述相向部件之间的间隔进行调整的间隔调整工序；在前述间隔调整工序之后向前述被保持为水平的基板的上表面供给处理液的处理液供给工序。
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公开(公告)号：CN114649193B
公开(公告)日：2025-02-28
申请号：CN202111545593.6
申请日：2021-12-16
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/683
Abstract: 本申请公开了一种基板清洗方法及基板清洗装置，本申请说明书公开的技术是抑制对通过伯努利吸盘被保持的基板进行清洗的清洗液在清洗喷嘴内残留的技术。在本申请说明书公开的技术中，基板清洗方法是对被伯努利吸盘保持的基板进行清洗的基板清洗方法，具备：经由清洗喷嘴向与保持基板的保持面对置的面即基板的下表面供给清洗液的工序；以及在供给清洗液的工序之后，在基板被伯努利吸盘保持的状态下对清洗喷嘴内进行抽吸的工序。
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公开(公告)号：CN117059526A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202311246430.7
申请日：2017-09-15
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 根据本发明的基板处理方法，其包括：基板保持工序，通过从基座的上表面向上方隔开间隔而水平地保持基板的基板夹具来保持基板；第一处理液供应工序，向被所述基板夹具保持的基板的上表面供应第一处理液；清洗液供应工序，向所述基座的上表面供应用于冲洗附着在所述基座上表面的第一处理液的清洗液，并且以使所述基座上的所述清洗液不与被所述基板夹具保持的基板的下表面相接触的方式，向所述基座的上表面供应所述清洗液；排除工序，从所述基座的上表面排除所述清洗液。
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公开(公告)号：CN109599322B
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN201811004790.5
申请日：2018-08-30
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明的基板处理方法包括：基板保持工序，将基板保持为水平；疏水剂供给工序，向所述基板的上表面供给疏水剂，所述疏水剂用于对所述基板的上表面进行疏水化；低表面张力液体供给工序，向所述基板的上表面供给低表面张力液体，以便将所述基板上的所述疏水剂置换为表面张力低于水的所述低表面张力液体；以及湿度调节工序，调节与所述基板上的液膜接触的环境气体的湿度，使所述疏水剂供给工序中的与所述基板上的液膜接触的环境气体的湿度成为第一湿度，并且使所述低表面张力液体供给工序中的与所述基板上的液膜接触的环境气体的湿度成为第二湿度，所述第二湿度低于所述第一湿度。
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公开(公告)号：CN108735626B
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN201810348854.7
申请日：2018-04-18
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 日野出大辉
IPC: H01L21/67 , H01L21/306
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法和基板处理装置。当磷酸容器内的磷酸水溶液的硅浓度达到规定浓度范围的上限值时，通过从磷酸容器排出磷酸水溶液和/或减少返回磷酸容器的磷酸水溶液的量，使磷酸容器内的液量减少到规定液量范围的下限值以下的值。当磷酸容器内的液量减少到规定液量范围的下限值以下的值时，通过向磷酸容器补充磷酸水溶液，使磷酸容器内的液量增加到规定液量范围内的值，并且使磷酸容器内的磷酸水溶液的硅浓度减低到规定浓度范围内的值。
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公开(公告)号：CN113421819A
公开(公告)日：2021-09-21
申请号：CN202110673589.1
申请日：2017-08-30
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种能缩短形成低表面张力液体的液膜所需的时间并良好地排除液膜的基板处理方法。该方法包括：基板保持工序，将基板保持为水平；处理液供给工序，向基板供给包含水的处理液；基板旋转工序，使基板旋转；液膜形成工序，使基板以第一旋转速度旋转且向上表面供给表面张力低于水的低表面张力液体，使处理液置换为低表面张力液体，在上表面形成低表面张力液体的液膜；旋转减速工序，在处理液被置换为低表面张力液体后，继续进行液膜形成工序且使旋转减速到低于第一旋转速度的第二旋转速度；开口形成工序，在液膜形成工序结束后，在以第二旋转速度旋转的基板上的液膜的中央区域形成开口；液膜排除工序，使开口扩展，从上表面排除液膜。
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