公开(公告)号：CN112542399A

公开(公告)日：2021-03-23

申请号：CN202010823747.2

申请日：2020-08-17

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 中泽和彦 ,  高山祐一 ,  森冈利仁 ,  蒲裕充 ,  佐藤卓也 ,  日野出大辉 ,  菊本宪幸 ,  坂田健典 ,  太田乔

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够合适地处理基板的基板处理方法以及基板处理装置。本发明涉及一种基板处理方法以及基板处理装置(1)。基板处理方法具有向由固定销(103)在比第一板(101)的上表面(102)更靠上方的位置支撑的基板(W)供给处理液的步骤(S39)。在向基板(W)供给处理液的步骤(S39)中，从第一吹出口(105)向上方吹出气体，并且从第二吹出口(106)向上方吹出气体。第一吹出口(105)形成于第一板(101)的上表面(102)的中央部。第二吹出口(105)形成于第一板(101)的上表面(102)的周缘部。第二吹出口(106)以比第一吹出口(105)大的流量吹出气体。

公开(公告)号：CN112542399B

公开(公告)日：2024-09-06

申请号：CN202010823747.2

申请日：2020-08-17

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 中泽和彦 ,  高山祐一 ,  森冈利仁 ,  蒲裕充 ,  佐藤卓也 ,  日野出大辉 ,  菊本宪幸 ,  坂田健典 ,  太田乔

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够合适地处理基板的基板处理方法以及基板处理装置。本发明涉及一种基板处理方法以及基板处理装置(1)。基板处理方法具有向由固定销(103)在比第一板(101)的上表面(102)更靠上方的位置支撑的基板(W)供给处理液的步骤(S39)。在向基板(W)供给处理液的步骤(S39)中，从第一吹出口(105)向上方吹出气体，并且从第二吹出口(106)向上方吹出气体。第一吹出口(105)形成于第一板(101)的上表面(102)的中央部。第二吹出口(105)形成于第一板(101)的上表面(102)的周缘部。第二吹出口(106)以比第一吹出口(105)大的流量吹出气体。

公开(公告)号：CN109716170A

公开(公告)日：2019-05-03

申请号：CN201780057034.6

申请日：2017-06-15

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 角间央章 ,  坂田健典

IPC: G01V8/10 ,  B05C11/00 ,  B05C11/08

Abstract: 本发明提供一种检测非供给期间内有无液体落下的技术。在停止向一个以上的喷嘴中的对象喷嘴供给液体的非供给期间，进行将液体从该对象喷嘴的开口落下时的落下路径包含于拍摄视野中而进行拍摄的拍摄工序，以及使用拍摄工序中的拍摄结果来检测有无液体落下的检测工序。由此，能够在停止向对象喷嘴供给液体的非供给期间检测有无液体从该对象喷嘴落下。