公开(公告)号：CN115380371A

公开(公告)日：2022-11-22

申请号：CN202180023968.4

申请日：2021-02-08

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 高山祐一

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明关于一种基板处理装置(1)及基板搬送方法。基板处理装置(1)具备支撑部(25)、搬送机构(23)及反转机构(26)。搬送机构(23)具备第1吸引部(42)与手部驱动部(45)。反转机构(26)具备第2吸引部(72)与旋转驱动部。当搬送机构(23)将基板(W)搬送至支撑部(25)时，第1吸引部(42)位于基板(W)的上方，第1吸引部(42)使气体沿着基板(W)的上表面流动而将基板(W)朝上方吸引，且手部驱动部(45)使第1吸引部(42)移动至支撑部(25)。当反转机构(26)自支撑部(25)接收基板(W)时，第2吸引部(72)位于被支撑于支撑部(25)的基板(W)的上方，且第2吸引部(72)使气体沿着基板(W)的上表面流动而将基板(W)朝上方吸引。

公开(公告)号：CN111383976B

公开(公告)日：2025-01-28

申请号：CN201911356069.7

申请日：2019-12-25

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 高山祐一 ,  桥本光治 ,  菊本宪幸

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种能够实现处理单元的增设且容易进行搬运机械手的维护的技术。第1处理模块(3A)具有处理单元(SP1～SP6)及第1交接部(PS1)。分度盘部分(2)配置在第1处理模块的‑X侧，向第1交接部(PS1)供给基板(W)。搬运模块(3T)配置在第1处理模块的+X侧，具有从第1交接部沿+X方向搬出基板并向处理单元搬入的第1搬运机械手(CR1)。搬运模块具有维护室(302T)。在维护室内设有设置第1搬运机械手的基台部(41)的第1底板部(FL1)和在第1底板部的+Y侧配置的第2底板部(FL2)。相比于第2底板部而在+Y侧设有使维护室的内侧与外部连通的出入口部(303T)。

公开(公告)号：CN112542416A

公开(公告)日：2021-03-23

申请号：CN202010823737.9

申请日：2020-08-17

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 高山祐一 ,  中泽和彦 ,  蒲裕充 ,  森冈利仁 ,  佐藤卓也

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/687 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够合适地处理基板的基板处理装置。基板处理装置(1)具有第一处理单元(7A)和第二处理单元(7B)。第一处理单元(7A)具有第一基板保持部(91A)和第一旋转驱动部(92A)。第一基板保持部91A具有第一板(101)、固定销(103)以及气体吹出口(104)。第二处理单元(7B)具有第二板(131)和端缘接触销(133)。基板处理装置(1)具有搬运机构(8)和控制部(9)。搬运机构(8)向处理单元(7)搬运基板(W)。控制部(9)根据基板(W)的形状将处理基板(W)的处理单元(7)确定为第一处理单元(7A)以及第二处理单元(7B)中的某一个，并通过搬运机构(8)向确定的处理单元(7)搬运基板(W)。

公开(公告)号：CN112542411A

公开(公告)日：2021-03-23

申请号：CN202010824054.5

申请日：2020-08-17

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 高山祐一 ,  中泽和彦 ,  蒲裕充 ,  森冈利仁 ,  佐藤卓也

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够合适地搬运基板的基板处理装置。基板处理装置(1)具有容纳架载置部(3)、搬运机构(4)、控制部(9)。容纳架载置部载置容纳架(C)。容纳架具有在上下方向(Z)上排列的多个搁板(22)。搁板分别以水平姿势载置一张基板(W)。搬运机构向载置于容纳架载置部的容纳架(C)搬运基板。控制部(9)控制搬运机构(4)。搬运机构(4)具有手部(33)和手部驱动部(34)。手部支撑基板。手部驱动部(34)使手部(33)移动。控制部(9)根据搬运机构从搁板取下的基板或搬运机构(4)放置于搁板的基板的形状，改变向沿上下方向(Z)相邻的两个搁板(22)之间插入手部(33)时的手部的高度位置(HA)。

公开(公告)号：CN119673838A

公开(公告)日：2025-03-21

申请号：CN202411301859.6

申请日：2024-09-18

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 高山祐一

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明提供掌握基板的形状以免发生由基板的形状引起的不良情况的基板搬送装置。基板搬送装置具备与搬送基板(W)的获取用手部(11a)分体的传感器保持部件(21)，该传感器保持部件(21)具有第1传感器(41)、第2传感器42。在想要搬送载体内的第1基板时，根据本发明，首先使传感器保持部件(21)进入第1基板与第2基板之间。然后测定第1基板与第2基板之间的距离。在使获取用手部(11a)进入第1基板与第2基板之间时，调节获取用手部(11a)的进入高度，以使获取用手部(11a)与第1基板的间隙及获取用手部(11a)与第2基板的间隙均为规定值以上。

公开(公告)号：CN119673835A

公开(公告)日：2025-03-21

申请号：CN202410844855.6

申请日：2024-06-27

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 高山祐一

IPC: H01L21/677 ,  B65G47/90

Abstract: 提供一种基板搬送装置、基板处理装置以及基板处理系统，在进行关于单一搬运器的基板搬送时能够针对每个基板恰当地设定基板搬送的方式。基板搬送装置接收与保持于搬运器(C)的基板各自的相对应的基板信息。基板信息包含以基板为单位的信息。并且，上述的基板搬送装置基于基板信息而针对每个基板更改手部的搬送动作。若像这样构成，则即使搬运器(C)中收纳有不同种类的基板，也能够基于基板信息恰当地控制手部。结果为能够基于基板信息以适于基板的搬送动作搬送基板。

公开(公告)号：CN112542417B

公开(公告)日：2024-09-06

申请号：CN202010823740.0

申请日：2020-08-17

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 高山祐一 ,  中泽和彦 ,  蒲裕充 ,  森冈利仁 ,  佐藤卓也 ,  菊本宪幸

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够合适地搬运基板的基板处理装置以及基板搬运方法。本发明涉及一种基板处理装置(1)以及基板搬运方法。手部(61)具有基座部(65)、吸引部(68)、第一接受部(82)、第二接受部(83)以及接受部驱动部(86)。吸引部(68)安装于基座部(65)。吸引部使气体沿基板(W)的上表面(16)流动，以不与基板接触的方式将基板向上方吸引。第一接受部以及第二接受部被基座部支撑。第一接受部以及第二接受部配置在被吸引部吸引的基板的下方。第一接受部以及第二接受部能够接受基板的下表面。接受部驱动部使第二接受部相对于基座部移动。接受部驱动部使第二接受部接近第一接受部，并且使第二接受部与第一接受部远离。

公开(公告)号：CN113228239A

公开(公告)日：2021-08-06

申请号：CN201980086960.5

申请日：2019-12-16

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 菊本宪幸 ,  桥本光治 ,  天久贤治 ,  冨田毅 ,  高山祐一

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种减轻加热处理后搬送的基板的污染的技术。基板处理装置(1)具有分度部(ID)及处理部(PU)。处理部(PU)具有流体处理部(30)、加热处理部(40)、梭式搬送机构(50)、第一搬送机器人(60)以及第二搬送机器人(70)。分度部(ID)将收纳于载体(C)的基板(W)供给至处理部(PU)。加热处理部(40)设置于分度部(ID)与流体处理部(30)之间。从分度部(ID)供给的基板(W)被梭式搬送机构(50)、第一搬送机器人(60)及第二搬送机器人(70)依次搬送至分度部(ID)、流体处理部(30)、加热处理部(40)、分度部(ID)。

公开(公告)号：CN112542417A

公开(公告)日：2021-03-23

申请号：CN202010823740.0

申请日：2020-08-17

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 高山祐一 ,  中泽和彦 ,  蒲裕充 ,  森冈利仁 ,  佐藤卓也 ,  菊本宪幸

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够合适地搬运基板的基板处理装置以及基板搬运方法。本发明涉及一种基板处理装置(1)以及基板搬运方法。手部(61)具有基座部(65)、吸引部(68)、第一接受部(82)、第二接受部(83)以及接受部驱动部(86)。吸引部(68)安装于基座部(65)。吸引部使气体沿基板(W)的上表面(16)流动，以不与基板接触的方式将基板向上方吸引。第一接受部以及第二接受部被基座部支撑。第一接受部以及第二接受部配置在被吸引部吸引的基板的下方。第一接受部以及第二接受部能够接受基板的下表面。接受部驱动部使第二接受部相对于基座部移动。接受部驱动部使第二接受部接近第一接受部，并且使第二接受部与第一接受部远离。

公开(公告)号：CN113228239B

公开(公告)日：2024-10-29

申请号：CN201980086960.5

申请日：2019-12-16

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 菊本宪幸 ,  桥本光治 ,  天久贤治 ,  冨田毅 ,  高山祐一

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种减轻加热处理后搬送的基板的污染的技术。基板处理装置(1)具有分度部(ID)及处理部(PU)。处理部(PU)具有流体处理部(30)、加热处理部(40)、梭式搬送机构(50)、第一搬送机器人(60)以及第二搬送机器人(70)。分度部(ID)将收纳于载体(C)的基板(W)供给至处理部(PU)。加热处理部(40)设置于分度部(ID)与流体处理部(30)之间。从分度部(ID)供给的基板(W)被梭式搬送机构(50)、第一搬送机器人(60)及第二搬送机器人(70)依次搬送至分度部(ID)、流体处理部(30)、加热处理部(40)、分度部(ID)。