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公开(公告)号：CN119864294A
公开(公告)日：2025-04-22
申请号：CN202411437638.1
申请日：2024-10-15
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供能够高精度地确定排液部内的处理液的基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置(100)包括腔室(112)、基板保持部(120)、处理液供给部(130)、排液部(190)、至少一个近红外线光源(140)、近红外摄像部(150)及控制部(102)。基板保持部收容于腔室。基板保持部保持基板(W)。处理液供给部在不同的定时向基板供给多种处理液。排液部将多种处理液向腔室外排液。至少一个近红外线光源利用近红外线照射包含排液部的至少一部分的区域(AR1)。近红外摄像部拍摄利用近红外线照射的排液部内的多种处理液并生成拍摄图像。控制部基于拍摄图像来确定排液部内的处理液的种类。
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公开(公告)号：CN112570331B
公开(公告)日：2023-01-17
申请号：CN202011019558.6
申请日：2020-09-24
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，对基板进行清洗处理，所述基板处理装置包括：分度器区，具有分度器机械手；处理区，作为处理单元，具有表面清洗单元以及背面清洗单元；以及翻转路径区，具有载置基板的多层搁板，并且具有翻转功能，所述分度器机械手具有导轨、基台部、多关节臂以及手部，所述导轨配置于不与所述翻转路径区中的基板的载置位置重叠的位置。
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公开(公告)号：CN113557591A
公开(公告)日：2021-10-26
申请号：CN202080020635.1
申请日：2020-02-04
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/027 , H01L21/304 , H01L21/306 , H01L21/677
Abstract: 用液膜覆盖基板表面的状态下搬送基板的基板处理装置(1)，为了防止因搬送中的振动或液体的挥发等而导致的基板表面的露出，而具备：第1处理部(11A)，其向基板(S)供给液体并用液膜覆盖基板的表面；搬送机构(15)，其搬送担载液膜的基板；第2处理部(13A)，其接受通过搬送机构搬送的基板并执行预定的处理；拍摄部(157)，其拍摄形成于基板表面的液膜；以及控制部(90)，其基于通过拍摄部分别在从形成液膜起至通过搬送机构将基板搬入第2处理部的期间的互不相同的时刻拍摄的多个图像的差，来控制搬送机构的动作。
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公开(公告)号：CN107871687B
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN201710841302.5
申请日：2017-09-18
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 菊本宪幸
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够高精度地清洗相向部的基板处理装置。基板处理装置具有：基板保持部，其水平地保持基板；第一供应部，其具有与保持在基板保持部上的基板的下表面相向的第一开口，并从第一开口向基板的下表面供应流体；相向部，其具有与保持在基板保持部上的基板的下表面相向的上表面；第二供应部，其从第二开口向在相向部的上表面内的中央侧凹陷的凹面供应冲洗液。第一开口的高度高于向凹面供应的冲洗液从相向部溢出时的冲洗液的液面的高度。
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公开(公告)号：CN109564860A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201780046189.X
申请日：2017-09-07
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304
Abstract: 基板处理装置包括：基板保持单元，保持基板；处理液配管，与用以朝上述基板的主面喷出处理液的喷出口连通；处理液供给单元，用以对上述处理液配管供给处理液；抽吸单元，用以对存在于上述处理液配管的内部的处理液进行抽吸；以及控制装置，控制上述处理液供给单元及上述抽吸单元；上述控制装置执行：处理液供给步骤，通过上述处理液供给单元对上述处理液配管供给处理液以从上述喷出口喷出；及抽吸步骤，通过上述抽吸单元对存在于上述处理液配管的内部的处理液进行抽吸；上述控制装置在上述抽吸步骤中选择性地执行第1抽吸步骤与第2抽吸步骤，该第1抽吸步骤是抽吸处理液，使抽吸后的处理液的前端面配置于上述处理液配管的内部的预先设定的待机位置的步骤，该第2抽吸步骤是抽吸处理液，使处理液的前端面比上述待机位置后退的步骤。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109427624A
公开(公告)日：2019-03-05
申请号：CN201810858104.4
申请日：2018-07-31
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板干燥方法和基板处理装置，该基板干燥方法使具有图案的基板的表面干燥，其中，所述基板干燥方法包括：升华剂液膜配置工序，在所述基板的所述表面配置液体的升华剂的液膜；高蒸汽压液体供给工序，向所述基板中的与所述表面相反侧的面即背面供给具有比所述升华剂的蒸汽压高的蒸汽压且不含水的高蒸汽压液体；气化冷却工序，通过在所述基板的所述表面配置升华剂的液膜之后停止供给高蒸汽压液体，伴随高蒸汽压液体的气化夺走气化热使升华剂冷却，由此，使所述升华剂的液膜固化而在所述基板的所述表面形成升华剂膜；以及升华工序，使所述升华剂膜升华。
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公开(公告)号：CN108987311A
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：CN201810552438.9
申请日：2018-05-31
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/6708 , H01L21/67259 , H01L21/6838 , H01L21/68721 , H01L21/68742
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法，该基板处理装置具备：旋转卡盘，一边将圆板状的基板保持为水平一边使基板以旋转轴线为中心旋转；筒状的挡板，接收从由旋转卡盘保持的基板向外方飞散的处理液；以及定心单元，使基板的中心接近旋转轴线。定心单元包括：推动件，与旋转卡盘上的基板接触；以及线性电机，通过使推动件水平地移动来使基板相对于旋转卡盘水平地移动。线性电机的至少一部分以在俯视下与挡板重叠的方式配置于挡板的上方。
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公开(公告)号：CN107204303A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201710112772.8
申请日：2017-02-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 一种基板处理装置，其中，第二杯檐部的内周缘与相向部件侧壁部的外周面在径向上相向。由此，能够抑制处理液向比杯部更靠上侧飞散。另外，相向部件侧壁部的外周面与第二杯檐部的内周缘之间的径向距离即第二杯部间隙距离比相向部件侧壁部的内周面与基板保持部的外周面之间的径向距离即保持间隙距离大。由此，由第二杯部接受从基板飞散的第二处理液时，能够防止或抑制第二处理液被向下的气流向下方冲走。其结果是，能够由多个杯部分类接受多种处理液。
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公开(公告)号：CN119890110A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202510026909.2
申请日：2019-12-25
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种能够实现处理单元的增设且容易进行搬运机械手的维护的技术。第1处理模块(3A)具有处理单元(SP1～SP6)及第1交接部(PS1)。分度盘部分(2)配置在第1处理模块的‑X侧，向第1交接部(PS1)供给基板(W)。搬运模块(3T)配置在第1处理模块的+X侧，具有从第1交接部沿+X方向搬出基板并向处理单元搬入的第1搬运机械手(CR1)。搬运模块具有维护室(302T)。在维护室内设有设置第1搬运机械手的基台部(41)的第1底板部(FL1)和在第1底板部的+Y侧配置的第2底板部(FL2)。相比于第2底板部而在+Y侧设有使维护室的内侧与外部连通的出入口部(303T)。
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公开(公告)号：CN112542399B
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN202010823747.2
申请日：2020-08-17
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够合适地处理基板的基板处理方法以及基板处理装置。本发明涉及一种基板处理方法以及基板处理装置(1)。基板处理方法具有向由固定销(103)在比第一板(101)的上表面(102)更靠上方的位置支撑的基板(W)供给处理液的步骤(S39)。在向基板(W)供给处理液的步骤(S39)中，从第一吹出口(105)向上方吹出气体，并且从第二吹出口(106)向上方吹出气体。第一吹出口(105)形成于第一板(101)的上表面(102)的中央部。第二吹出口(105)形成于第一板(101)的上表面(102)的周缘部。第二吹出口(106)以比第一吹出口(105)大的流量吹出气体。
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