显示器件、其制造方法以及电视机

    公开(公告)号:CN100533746C

    公开(公告)日:2009-08-26

    申请号:CN200510091032.8

    申请日:2005-08-03

    Abstract: 本发明提供了一种显示器件的制造方法,所述显示器件具有能够在较小阈值电压改变的情况下高速操作的TFT,其中高效率使用所述材料并且需要少量光掩模。本发明的显示器件包括形成在绝缘表面上的栅电极层和像素电极层、形成在栅电极层上的栅绝缘层、形成在栅绝缘层上的晶体半导体层、形成得与晶体半导体层相接触的具有一种导电类型的半导体层、形成得与具有一种导电类型的半导体层相接触的源电极层和漏电极层、稍后形成在源电极层、漏电极层和像素电极层上的绝缘层、形成在绝缘层中以到达源电极层或漏电极层的第一开口、形成在栅绝缘层和绝缘层中以到达像素电极层的第二开口、以及形成在第一开口和第二开口中以便于将源电极层或漏电极层与像素电极层电连接的配线层。

    显示装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101369587A

    公开(公告)日:2009-02-18

    申请号:CN200810131294.6

    申请日:2008-08-04

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种显示装置及生产率高地制造其的方法,所述显示装置具有电特性优越且可靠性高的p沟道型薄膜晶体管及n沟道型薄膜晶体管。本发明之一是一种显示装置,包括:反交错型p沟道型薄膜晶体管和n沟道型薄膜晶体管,该p沟道型薄膜晶体管和n沟道型薄膜晶体管在栅电极上顺序层叠有栅极绝缘膜、微晶半导体膜、以及非晶半导体膜,并且还包括形成在非晶半导体膜上的一对n型半导体膜或p型半导体膜、以及形成在一对n型半导体膜或p型半导体膜上的一对布线,其中微晶半导体膜包含1×1016atoms/cm3以下的氧。此外,n沟道型薄膜晶体管的迁移率为10cm2/V·s以上且45cm2/V·s以下,而p沟道型薄膜晶体管的迁移率为0.3cm2/V·s以下。

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