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公开(公告)号：CN116466544A
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN202310059289.3
申请日：2023-01-18
Abstract: 本发明涉及一种可以在用于在如液晶显示装置电路等中形成微细电路图案的湿法蚀刻工程中使用的光刻胶组合物，尤其涉及一种可以通过使用结合有4个以上的二叠氮基萘醌磺酰基基团的二叠氮类感光性化合物，即使是在不包含交联剂的情况下也可以在湿法蚀刻工程中实现优秀的金属锥角且储藏稳定性优秀的光刻胶组合物以及利用所述光刻胶组合物的金属多层膜图案形成方法。
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