磁传感器及检查装置
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN114594415B

    公开(公告)日:2025-01-28

    申请号:CN202110974059.0

    申请日:2021-08-24

    Abstract: 提供能够实现灵敏度的提高的磁传感器及检查装置。根据实施方式,磁传感器具备第1~第4磁元件、第1~第4导电部件及第1~第5磁性部件。第1磁元件及第1导电部件与第1磁性部件与第3磁性部件之间的区域重叠。所述第2磁元件及第2导电部件与第4磁性部件与第2磁性部件之间的区域重叠。第3磁元件及第3导电部件与第3磁性部件与第5磁性部件之间的区域重叠。第4磁元件及第4导电部件与第5磁性部件与第4磁性部件之间的区域重叠。

    电磁波衰减体及电子装置

    公开(公告)号:CN111436186B

    公开(公告)日:2022-03-11

    申请号:CN202010026390.5

    申请日:2020-01-10

    Abstract: 提供能够使电磁波的衰减特性提高的电磁波衰减体及电子装置。根据实施方式,电磁波衰减体包括多个磁性层和导电性的多个非磁性层。从所述多个磁性层中的一个磁性层向所述多个磁性层中的另一个磁性层的方向沿着第1方向。所述多个非磁性层中的一个非磁性层位于所述多个磁性层中的所述一个磁性层与所述多个磁性层中的所述另一个磁性层之间。所述多个磁性层中的所述一个磁性层的沿着所述第1方向的第1厚度为所述多个非磁性层中的所述一个非磁性层的沿着所述第1方向的第2厚度的1/2倍以上。所述多个磁性层的数量为3以上。

    凹凸图案形成方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102428544A

    公开(公告)日:2012-04-25

    申请号:CN200980159359.0

    申请日:2009-05-20

    CPC classification number: G11B5/855 H01L21/0337 H01L21/31116 H01L21/31122

    Abstract: 本发明提供凹凸图案形成方法,能够尽可能地抑制凹凸图案的凸部的垂肩。所述凹凸图案形成方法的特征在于,具备以下工序:在形成有凹凸图案的基材(2,4)上形成备有具有凸部的图案的导向图案(6)的工序;在导向图案上形成具有层叠有第一层(8)和第二层(10)的形成层的工序,第一层(8)包含选自第一金属元素及类金属元素中的至少一个元素,所述第二层(10)包含与所述第一金属元素不同的第二金属元素;通过蚀刻形成层,仅在凸部的侧部选择性地留置形成层的工序;除去导向图案的工序;以及通过以留置的形成层作为掩膜来蚀刻基材,由此在基材上形成凹凸图案的工序。

    电磁波衰减体及电子装置

    公开(公告)号:CN111491500B

    公开(公告)日:2022-12-13

    申请号:CN202010068778.1

    申请日:2020-01-21

    Abstract: 提供能够提高电磁波的衰减特性的电磁波衰减体及电子装置。根据实施方式,电磁波衰减体包括多层构件及磁性构件。所述多层构件包括多个磁性层和导电性的多个非磁性层。从所述多个磁性层中的一个磁性层向所述多个磁性层中的另一个磁性层的方向沿着从所述多层构件向所述磁性构件的第1方向。所述多个非磁性层中的一个非磁性层位于所述多个磁性层中的所述一个磁性层与所述多个磁性层中的所述另一个磁性层之间。所述磁性构件的沿着所述第1方向的厚度为所述多层构件的沿着所述第1方向的厚度的1/2以上。

    磁传感器及检查装置
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114594415A

    公开(公告)日:2022-06-07

    申请号:CN202110974059.0

    申请日:2021-08-24

    Abstract: 提供能够实现灵敏度的提高的磁传感器及检查装置。根据实施方式,磁传感器具备第1~第4磁元件、第1~第4导电部件及第1~第5磁性部件。第1磁元件及第1导电部件与第1磁性部件与第3磁性部件之间的区域重叠。所述第2磁元件及第2导电部件与第4磁性部件与第2磁性部件之间的区域重叠。第3磁元件及第3导电部件与第3磁性部件与第5磁性部件之间的区域重叠。第4磁元件及第4导电部件与第5磁性部件与第4磁性部件之间的区域重叠。

    凹凸图案形成方法
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102428544B

    公开(公告)日:2014-10-29

    申请号:CN200980159359.0

    申请日:2009-05-20

    CPC classification number: G11B5/855 H01L21/0337 H01L21/31116 H01L21/31122

    Abstract: 本发明提供凹凸图案形成方法,能够尽可能地抑制凹凸图案的凸部的垂肩。所述凹凸图案形成方法的特征在于,具备以下工序:在形成有凹凸图案的基材(2,4)上形成备有具有凸部的图案的导向图案(6)的工序;在导向图案上形成具有层叠有第一层(8)和第二层(10)的形成层的工序,第一层(8)包含选自第一金属元素及类金属元素中的至少一个元素,所述第二层(10)包含与所述第一金属元素不同的第二金属元素;通过蚀刻形成层,仅在凸部的侧部选择性地留置形成层的工序;除去导向图案的工序;以及通过以留置的形成层作为掩膜来蚀刻基材,由此在基材上形成凹凸图案的工序。

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