非易失性半导体存储器
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101471385A

    公开(公告)日:2009-07-01

    申请号:CN200810190694.4

    申请日:2008-12-26

    Abstract: 本发明提供一种非易失性半导体存储器,可以实现高速写入以及高速擦除。具备:半导体基板(1);以及存储单元,该存储单元具有:在半导体基板中间隔开地形成的源区(2a)以及漏区(2b);形成在成为源区与漏区之间的沟道区(3)的半导体基板上的隧道绝缘膜(6);形成在隧道绝缘膜上的电荷积累膜(7);形成在电荷积累膜上的电荷阻挡膜(8);以及形成在电荷阻挡膜上的控制电极(10),控制电极包括添加了从包括V、Cr、Mn、以及Tc的第一组中选择的至少一种元素并且添加了从包括F、H以及Ta的第二组中选择的至少一种元素的Hf氧化膜或Zr氧化膜。

    制造氧化镧复合物的方法

    公开(公告)号:CN101423932A

    公开(公告)日:2009-05-06

    申请号:CN200810173940.5

    申请日:2008-10-31

    Abstract: 在基材上制造氧化镧复合物的方法,包括:基于每个镧原子,将H2O分子数、CO分子数和CO2分子数分别设定为二分之一或更小、五分之一或更小和十分之一或更小,所述H2O分子、CO分子和CO2分子来源于制造时气氛中的H2O气体组分、CO气体组分和CO2气体组分;和在基于每个镧原子将O2分子数设定为20或更大的条件下,同时向基材供给含有选自由镧、铝、钛、锆和铪组成的组的至少一种的金属原料以及氧原料气体,从而在所述基材上制造氧化镧复合物。

    非易失性存储元件及其制造方法

    公开(公告)号:CN101515600B

    公开(公告)日:2012-05-09

    申请号:CN200910008226.5

    申请日:2009-02-19

    CPC classification number: H01L29/792 H01L21/28282 H01L29/4234 H01L29/513

    Abstract: 提供一种非易失性存储元件及其制造方法。该非易失性存储元件包括:半导体区;相互隔开地设置在所述半导体区中的源区和漏区;设置在源区与漏区之间的半导体区上的隧道绝缘膜;设置在所述隧道绝缘膜上的电荷存储层;设置在所述电荷存储层上的阻挡绝缘膜;以及设置在所述阻挡绝缘膜上的控制栅电极。所述电荷存储层包括含有从包括Hf、Al、Zr、Ti和稀土金属的组中选择的至少一种材料、并且被全部或者部分地晶化的氧化物、氮化物或氧氮化物。所述阻挡绝缘膜包括含有至少一种稀土金属的氧化物、氧氮化物、硅酸盐或铝酸盐。

    NAND型非易失性半导体存储装置

    公开(公告)号:CN101546773B

    公开(公告)日:2011-03-09

    申请号:CN200910130661.5

    申请日:2009-03-27

    Abstract: 本发明提供一种将铝氧化物膜作为阻挡绝缘膜的高性能的MONOS型的NAND型非易失性半导体存储装置。在半导体基板中,具备串联连接的多个存储单元晶体管、和选择晶体管。存储单元晶体管具备:半导体基板上的第一绝缘膜;电荷积蓄层;作为铝氧化物的第二绝缘膜;第一控制栅电极;以及第一源/漏区域。选择晶体管具备:半导体基板上的第三绝缘膜;作为铝氧化物且含有四价阳离子元素、五价阳离子元素、N(氮)中的至少一种元素的第四绝缘膜;第二控制栅电极(108b);以及第二源/漏区域。

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