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公开(公告)号：CN116206632A
公开(公告)日：2023-06-02
申请号：CN202210527850.1
申请日：2022-05-16
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝电子元件及存储装置株式会社
IPC: G11B5/127
Abstract: 本发明提供磁记录再现装置及磁记录再现方法，能够防止磁记录再现装置的寿命的恶化。实施方式的磁记录再现装置包括：多个磁记录介质，分别具有记录面；多个辅助记录用磁头，与记录面对应地分别设置，进行辅助记录；及辅助量调整部，连接于多个辅助记录用磁头，分别调整与记录面的记录容量对应的辅助用磁头的辅助量。
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公开(公告)号：CN110910909B
公开(公告)日：2021-07-13
申请号：CN201811553945.0
申请日：2018-12-19
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝电子元件及存储装置株式会社
IPC: G11B5/31
Abstract: 实施方式提供一种抑制磁通控制层的氧化且具有高可靠性的磁记录再现装置。实施方式的磁记录再现装置包括设置于主磁极与辅助磁极之间的磁通控制层和设置于辅助磁极的ABS的保护层。磁通控制层包括设置于第1导电层与第2导电层之间的、由包含Fe、Co或Ni中的至少1种的磁性材料形成的调整层，通过通电而产生自旋转矩，使调整层内的磁化的方向反转。施加于磁通控制层的电压Vb比由下式(1)表示的Vba低。Vba＝Vb0‑a×1/log(t)×log(RH)×log(PO2)…(1)。
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公开(公告)号：CN104465817A
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：CN201410478173.4
申请日：2014-09-18
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01L31/035281 , H01L27/14601 , H01L27/14643 , H01L31/028 , H01L31/03044 , H01L31/035209 , H01L31/035227 , H01L31/06 , Y02E10/547
Abstract: 本公开提供了含有半导体和分散于其中的多个含金属微小结构的光电转换层。所述微小结构是包含金属材料(α)的微小结构(A)或否则包含金属材料(α)和材料(β)的微小结构(B)，所述材料(β)选自由不同于所述金属材料(α)和所述半导体中的任一个的物质的氧化物、氮化物和氧氮化物组成的组。在所述微小结构(B)中，所述材料(β)在所述金属材料(α)的表面上。所述微小结构中的每一个都具有基于当从特定方向观察时的投影面积的1nm到10nm且包括端值的等圆直径。在该方向上，所述微小结构具有最小总投影面积。相邻两个所述微小结构之间的最近距离是3nm到50nm且包括端值的。本公开还提供了所述光电转换层于太阳能电池、光电二极管和图象传感器的应用。
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公开(公告)号：CN104517616A
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201410033817.9
申请日：2014-01-24
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 本发明的课题是形成良好的微细图案。因而提供了一种图案形成方法，包含以下工序：使用表面处理高分子材料在基板上形成表面处理高分子膜的工序；将含有该表面处理高分子材料的单体或低聚物的溶液施用在该表面处理高分子膜表面上的工序；在表面处理高分子膜上，涂布含有具有至少2种聚合物链的嵌段共聚物的涂布液，而形成自组装层的工序；通过退火，由此在自组装层内形成微观相分离结构的工序；以及选择性地将微观相分离结构中的1种聚合物层除去，由残存的聚合物层形成凸图案的工序。
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公开(公告)号：CN104424966A
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201410037108.8
申请日：2014-01-26
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 本发明涉及图案形成方法、磁记录介质的制造方法、以及磁记录介质。使用自组装膜而形成密度高的微细图案。根据实施方式，反复进行2次或3次下述工序，与形成了1层的二嵌段共聚物层的情况相比提高凸图案的密度，所述工序是形成二嵌段共聚物层，相分离为海岛相，然后对海状相进行蚀刻的工序。
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公开(公告)号：CN101276602A
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：CN200810087956.4
申请日：2008-03-25
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G11B5/74
CPC classification number: G11B5/855 , G11B5/667 , G11B5/7325
Abstract: 本发明提供一种嵌埋于磁性图案间的非磁性层其强度高的磁记录媒体(带图案的媒体)。该磁记录媒体其特征在于，包括：形成于基底上的软磁性层；由分开设置于所述软磁性层上的呈凸起状的铁磁性材料所形成的多个磁性图案；以及形成于所述多个磁性图案间的所述软磁性层上的、由同一材料所形成的大于等于2层的非磁性层。
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公开(公告)号：CN118692502A
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202310757259.X
申请日：2023-06-26
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝电子元件及存储装置株式会社
Abstract: 本发明提供抑制润滑剂的固化的同时进行热辅助磁记录的磁记录再现装置及其控制方法。磁记录再现装置包括在表面设置有润滑剂的磁记录介质、对所述磁记录介质进行磁记录的热辅助磁记录头、湿度传感器以及与所述湿度传感器的检测结果对应地控制所述热辅助磁记录头的写入步骤的写入步骤控制部。
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公开(公告)号：CN104424965A
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201410035861.3
申请日：2014-01-24
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 本发明的课题是得到一种图案尺寸精度良好的图案形成方法。作为解决手段，提供一种图案形成方法，其包括：在基板上形成被加工层的工序；向包含贵金属微粒子和第1溶剂的第1分散液，添加包含高分子材料和第2溶剂的第2分散液，制作分散有被高分子材料被覆了的微粒子的贵金属微粒子层涂布液的工序，所述高分子材料包含在末端具有贱金属的高分子链；使用贵金属微粒子层涂布液，在被加工层上使被高分子材料被覆了的贵金属微粒子排列的工序；和向被加工层转印被高分子材料被覆了的贵金属微粒子的凹凸图案的工序。
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公开(公告)号：CN104424964A
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201410033231.2
申请日：2014-01-24
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G11B5/855
Abstract: 在磁记录介质形成面内均匀性良好的周期性图案。根据实施方式，在磁记录层上涂布包含微粒子的微粒子涂布液，形成单层的微粒子层，所述微粒子被保护层被覆，且至少在表面具有选自Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Zn、Y、Zr、Sn、Mo、Ta、W及其氧化物中的材料，所述保护层包含第1添加剂和第2添加剂的混合物，所述第1添加剂具有用于提高对磁记录层的润湿性的直链结构以及羧基等，所述第2添加剂具有羧基等以及聚合性官能团，应用热能或者光能，使聚合性官能团反应而使保护层固化，并且固着于磁记录层上，形成周期性图案。
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