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公开(公告)号：CN103333662A
公开(公告)日：2013-10-02
申请号：CN201310241747.1
申请日：2009-12-10
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: C09K3/14 , C09G1/02 , H01L21/3105
CPC classification number: H01L21/31053 , C09G1/02 , C09K3/1463
Abstract: 本发明涉及一种研磨液，其为含有研磨粒、第1添加剂和水的CMP用研磨液，所述第1添加剂为4－吡喃酮系化合物，该4－吡喃酮系化合物为下述通式（1）所表示的化合物，式中，X11、X12和X13各自独立地为氢原子或1价的取代基，其中，所述研磨粒包含具有晶界的多晶氧化铈。
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公开(公告)号：CN102473622A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201080032887.2
申请日：2010-09-14
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/04 , C09K3/14
CPC classification number: C09K3/1463 , B24B1/00 , B24B37/044 , C09G1/02 , C09K3/1409 , H01L21/31053
Abstract: 本发明的研磨剂含有：4价金属氢氧化物粒子，阳离子化聚乙烯醇，选自由氨基糖、该氨基糖的衍生物、具有氨基糖的多糖类以及该多糖类的衍生物所组成的组的至少一种糖类，以及水。本发明的基板研磨方法包括如下的工序：在将形成有氧化硅膜(被研磨膜)1的硅基板2的该氧化硅膜1按压于研磨定盘的研磨垫上的状态下，一边将本发明的研磨剂供给至氧化硅膜1与研磨垫之间，一边使基板2与研磨定盘相对移动而对氧化硅膜1进行研磨。
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公开(公告)号：CN102321234A
公开(公告)日：2012-01-18
申请号：CN201110215046.1
申请日：2006-05-18
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: C08G61/00 , C09K11/06 , C09K2211/1416 , C09K2211/1466 , C09K2211/1475 , H01L51/0036 , H01L51/0043 , H01L51/0077 , H01L51/0085 , H01L51/5012
Abstract: 本发明以提供可缩短反应时间的共轭聚合物的制造方法为目的。本发明的共轭聚合物的制造方法，其特征为，其是通过铃木偶合制造共轭聚合物的方法，该方法使用微波照射，且一面调节温度一面断续的进行该微波照射。共轭聚合物优选为作为有机电子材料使用的聚合物，更优选为作为电致发光材料使用的聚合物。所述电致发光材料可以用于电致发光元件。
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公开(公告)号：CN102311533A
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN201110215049.5
申请日：2006-05-18
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: C08G61/00 , C09K11/06 , C09K2211/1416 , C09K2211/1466 , C09K2211/1475 , H01L51/0036 , H01L51/0043 , H01L51/0077 , H01L51/0085 , H01L51/5012
Abstract: 本发明以提供可缩短反应时间的共轭聚合物的制造方法为目的。本发明的共轭聚合物的制造方法，其特征为，其是通过铃木偶合制造共轭聚合物的方法，该方法使用微波照射，且在聚四氟乙烯制反应容器内进行反应。共轭聚合物优选为作为有机电子材料使用的聚合物，更优选为作为电致发光材料使用的聚合物。所述电致发光材料可以用于电致发光元件。
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公开(公告)号：CN101490864A
公开(公告)日：2009-07-22
申请号：CN200780026969.4
申请日：2007-07-17
Applicant: 日立化成工业株式会社
Abstract: 本发明的目的是提供能够容易地进行多层化的有机电子材料。进而，本发明的目的是提供具有比以往更优异的发光效率、发光寿命的有机电子元件和有机EL元件。为了实现这些目的，本发明提供包含具有1个以上的能够聚合的取代基且具有有空穴传输性的重复单元的聚合物或低聚物的有机电子材料。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100512582C
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200480038418.6
申请日：2004-12-22
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: H05B33/14 , C09K11/06 , C09K2211/1007 , C09K2211/1011 , H01L51/5012 , H01L51/5016
Abstract: 本发明涉及一种发光系统，其中，第一化学物质变为具有与第一化学物质不同的化学结构的第二化学物质并发光。优选本发明涉及第二化学物质在发光后恢复为第一化学物质的所述发光系统。由此，本发明提供廉价、安全、高效发光的基于新型发光机制的发光系统、发光方法以及发光物质。
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公开(公告)号：CN1898995A
公开(公告)日：2007-01-17
申请号：CN200480038418.6
申请日：2004-12-22
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: H05B33/14 , C09K11/06 , C09K2211/1007 , C09K2211/1011 , H01L51/5012 , H01L51/5016
Abstract: 本发明涉及一种发光系统，其中，第一化学物质变为具有与第一化学物质不同的化学结构的第二化学物质并发光。优选本发明涉及第二化学物质在发光后恢复为第一化学物质的所述发光系统。由此，本发明提供廉价、安全、高效发光的基于新型发光机制的发光系统、发光方法以及发光物质。
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公开(公告)号：CN1798795A
公开(公告)日：2006-07-05
申请号：CN200480015574.0
申请日：2004-06-04
Applicant: 日立化成工业株式会社 , 玛库斯德姆有限公司
Abstract: 本发明的目的是提供可以有效地去除钯、磷的精制方法以及使用该法的电致发光材料和电致发光元件。本发明涉及一种电致发光材料的精制方法，其中用氧化剂对作为杂质含有钯或/和磷的电致发光材料进行处理之后，再用柱进行处理，将钯或/和磷除去。
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公开(公告)号：CN103342986A
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN201310241746.7
申请日：2009-12-10
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: C09K3/14 , B24B37/04 , H01L21/3105
CPC classification number: H01L21/31053 , C09G1/02 , C09K3/1463
Abstract: 本发明涉及一种研磨液，其为含有研磨粒、第1添加剂和水的CMP用研磨液，所述第1添加剂为4－吡喃酮系化合物，该4－吡喃酮系化合物为下述通式（1）所表示的化合物，式中，X11、X12和X13各自独立地为氢原子或1价的取代基。
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公开(公告)号：CN102232242A
公开(公告)日：2011-11-02
申请号：CN200980148395.7
申请日：2009-12-10
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14
CPC classification number: H01L21/31053 , C09G1/02 , C09K3/1463
Abstract: 本发明的CMP研磨液，含有研磨粒、添加剂和水，并且配合了满足规定条件的有机化合物作为添加剂。本发明的研磨方法，以表面上具有氧化硅膜的基板作为对象，并且具有一边向氧化硅膜和研磨垫之间供给上述CMP研磨液，一边通过研磨垫进行氧化硅膜的研磨的工序。
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