研磨垫及其制造方法
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111212705B

    公开(公告)日:2022-03-01

    申请号:CN201880066479.5

    申请日:2018-10-12

    Abstract: 本发明提供一种能够在维持高研磨速率的同时减少划痕的产生的研磨垫及其制造方法。所述研磨垫是具备研磨层的研磨垫,所述研磨层具有包含大致球状的气泡的聚氨酯片,在将预先暴露于温度23℃、相对湿度30%环境下的所述聚氨酯片在40℃、初始载荷148g、变形范围0.1%、测定频率1.6Hz、拉伸模式下的储能模量设为E’(90%),将预先暴露于温度23℃、相对湿度30%环境下的所述聚氨酯片在40℃、初始载荷148g、变形范围0.1%、测定频率1.6Hz、拉伸模式下的储能模量设为E’(30%)时,E’(90%)/E’(30%)在0.4~0.7的范围内。

    研磨垫
    3.
    发明公开
    研磨垫 审中-实审

    公开(公告)号:CN116323100A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202180064768.3

    申请日:2021-09-29

    Abstract: 本发明的目的在于,提供无需变更研磨层的物性、气泡结构就能够实现端部塌边的改善和/或台阶消除性能的提高的研磨垫。一种研磨垫,其具备:研磨层,该研磨层具有用于对被研磨物进行研磨加工的研磨面;以及缓冲层,该缓冲层配置于所述研磨层的与研磨面相反一侧,关于通过以弯曲模式利用于25℃的频散进行的动态粘弹性试验得到的、研磨垫整体的储能弹性模量E’和损耗弹性模量E”之比(tanδ),以100~1000rad/s测得的tanδ的最大值(tanδmax100‑1000)相对于以1~10rad/s测得的tanδ的最大值(tanδmax1‑10)的比值为0.75~1.30。

    研磨垫及其制造方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111212705A

    公开(公告)日:2020-05-29

    申请号:CN201880066479.5

    申请日:2018-10-12

    Abstract: 本发明提供一种能够在维持高研磨速率的同时减少划痕的产生的研磨垫及其制造方法。所述研磨垫是具备研磨层的研磨垫,所述研磨层具有包含大致球状的气泡的聚氨酯片,在将预先暴露于温度23℃、相对湿度30%环境下的所述聚氨酯片在40℃、初始载荷148g、变形范围0.1%、测定频率1.6Hz、拉伸模式下的储能模量设为E’(90%),将预先暴露于温度23℃、相对湿度30%环境下的所述聚氨酯片在40℃、初始载荷148g、变形范围0.1%、测定频率1.6Hz、拉伸模式下的储能模量设为E’(30%)时,E’(90%)/E’(30%)在0.4~0.7的范围内。

    研磨垫
    5.
    发明公开
    研磨垫 审中-实审

    公开(公告)号:CN116887947A

    公开(公告)日:2023-10-13

    申请号:CN202280015016.2

    申请日:2022-02-18

    Abstract: 本发明可抑制对研磨性能的影响,并且防止由终点检测用窗所得的终点检测精度的降低。研磨垫3包括检查光L1可透过的终点检测用窗12,在研磨垫3的研磨面3A形成有多个同心圆状的环状槽11。所述终点检测用窗12的表面形成于与所述研磨面3A相同的高度,所述环状槽11中,形成于与形成有所述终点检测用窗12的位置相同的半径位置的多个环状槽11A在所述终点检测用窗12的表面未形成有槽,而在所述终点检测用窗12的附近包括端部11a。进而,通过连结槽13将形成于与所述终点检测用窗12相同的半径位置的多个环状槽11A的端部11a与端部11a连接。

    研磨垫及研磨垫的制造方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116867606A

    公开(公告)日:2023-10-10

    申请号:CN202280015279.3

    申请日:2022-03-29

    Abstract: 一种研磨垫,具有包含聚氨基甲酸酯树脂发泡体的研磨层,所述聚氨基甲酸酯树脂发泡体源自异氰酸酯末端预聚物及硬化剂,所述研磨垫中,通过X射线小角散射法测定的所述研磨层中的硬链段间的距离为9.5nm以下,或者,通过脉冲NMR法在80℃下所测定的所述研磨层中的非晶相的含有重量比例(NC80)相对于通过脉冲NMR法在80℃下所测定的所述研磨层中的结晶相的含有重量比例(CC80)的比(NC80/CC80)为2.6~3.1,通过脉冲NMR法在40℃下所测定的所述研磨层中的非晶相的含有重量比例(NC40)相对于通过脉冲NMR法在40℃下所测定的所述研磨层中的结晶相的含有重量比例(CC40)的比(NC40/CC40)为0.5~0.9。

    研磨垫及研磨垫的制造方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116897097A

    公开(公告)日:2023-10-17

    申请号:CN202280015018.1

    申请日:2022-03-23

    Abstract: 一种研磨垫,包括研磨层,所述研磨层具有用于对被研磨物进行研磨加工的研磨面,所述研磨垫中,所述研磨层包含在所述研磨层内形成中空体的中空微小球体,所述研磨层的剖面具有10μm~14μm的平均开孔径,在将1μm的范围表示为1级的所述研磨层的剖面的开孔径直方图中,25μm以上的开孔数的总和相对于所述剖面的总开孔数而为5%以下,25μm以上的各级的开孔面积的总和相对于所述剖面的合计开孔面积而为20%以下。

    研磨垫、及研磨加工物的制造方法

    公开(公告)号:CN116348245A

    公开(公告)日:2023-06-27

    申请号:CN202180065924.8

    申请日:2021-09-27

    Abstract: 本发明涉及具备研磨层和缓冲层的研磨垫,在干燥状态、频率10rad/s、20~100℃的弯曲模式条件下进行的动态粘弹性测定的40℃时的储能模量E’B40相对在干燥状态、频率10rad/s、20~100℃的压缩模式条件下进行的动态粘弹性测定的40℃时的储能模量E’C40之比E’B40/E’C40为3.0以上15.0以下,在前述弯曲模式条件下进行的动态粘弹性测定中的损耗因子tanδ在40℃以上70℃以下的范围内为0.10以上0.30以下。

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