研磨垫、及研磨加工物的制造方法

    公开(公告)号:CN116348245A

    公开(公告)日:2023-06-27

    申请号:CN202180065924.8

    申请日:2021-09-27

    Abstract: 本发明涉及具备研磨层和缓冲层的研磨垫,在干燥状态、频率10rad/s、20~100℃的弯曲模式条件下进行的动态粘弹性测定的40℃时的储能模量E’B40相对在干燥状态、频率10rad/s、20~100℃的压缩模式条件下进行的动态粘弹性测定的40℃时的储能模量E’C40之比E’B40/E’C40为3.0以上15.0以下,在前述弯曲模式条件下进行的动态粘弹性测定中的损耗因子tanδ在40℃以上70℃以下的范围内为0.10以上0.30以下。

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