研磨垫及研磨垫的制造方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116897097A

    公开(公告)日:2023-10-17

    申请号:CN202280015018.1

    申请日:2022-03-23

    Abstract: 一种研磨垫,包括研磨层,所述研磨层具有用于对被研磨物进行研磨加工的研磨面,所述研磨垫中,所述研磨层包含在所述研磨层内形成中空体的中空微小球体,所述研磨层的剖面具有10μm~14μm的平均开孔径,在将1μm的范围表示为1级的所述研磨层的剖面的开孔径直方图中,25μm以上的开孔数的总和相对于所述剖面的总开孔数而为5%以下,25μm以上的各级的开孔面积的总和相对于所述剖面的合计开孔面积而为20%以下。

    研磨垫及研磨垫的制造方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116867606A

    公开(公告)日:2023-10-10

    申请号:CN202280015279.3

    申请日:2022-03-29

    Abstract: 一种研磨垫,具有包含聚氨基甲酸酯树脂发泡体的研磨层,所述聚氨基甲酸酯树脂发泡体源自异氰酸酯末端预聚物及硬化剂,所述研磨垫中,通过X射线小角散射法测定的所述研磨层中的硬链段间的距离为9.5nm以下,或者,通过脉冲NMR法在80℃下所测定的所述研磨层中的非晶相的含有重量比例(NC80)相对于通过脉冲NMR法在80℃下所测定的所述研磨层中的结晶相的含有重量比例(CC80)的比(NC80/CC80)为2.6~3.1,通过脉冲NMR法在40℃下所测定的所述研磨层中的非晶相的含有重量比例(NC40)相对于通过脉冲NMR法在40℃下所测定的所述研磨层中的结晶相的含有重量比例(CC40)的比(NC40/CC40)为0.5~0.9。

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