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公开(公告)号：CN116897097A
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN202280015018.1
申请日：2022-03-23
Applicant: 富士纺控股株式会社
IPC: B24B37/20
Abstract: 一种研磨垫，包括研磨层，所述研磨层具有用于对被研磨物进行研磨加工的研磨面，所述研磨垫中，所述研磨层包含在所述研磨层内形成中空体的中空微小球体，所述研磨层的剖面具有10μm～14μm的平均开孔径，在将1μm的范围表示为1级的所述研磨层的剖面的开孔径直方图中，25μm以上的开孔数的总和相对于所述剖面的总开孔数而为5％以下，25μm以上的各级的开孔面积的总和相对于所述剖面的合计开孔面积而为20％以下。
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公开(公告)号：CN116323100A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202180064768.3
申请日：2021-09-29
Applicant: 富士纺控股株式会社
IPC: B24B37/24
Abstract: 本发明的目的在于，提供无需变更研磨层的物性、气泡结构就能够实现端部塌边的改善和/或台阶消除性能的提高的研磨垫。一种研磨垫，其具备：研磨层，该研磨层具有用于对被研磨物进行研磨加工的研磨面；以及缓冲层，该缓冲层配置于所述研磨层的与研磨面相反一侧，关于通过以弯曲模式利用于25℃的频散进行的动态粘弹性试验得到的、研磨垫整体的储能弹性模量E’和损耗弹性模量E”之比(tanδ)，以100～1000rad/s测得的tanδ的最大值(tanδmax100‑1000)相对于以1～10rad/s测得的tanδ的最大值(tanδmax1‑10)的比值为0.75～1.30。
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公开(公告)号：CN111936268A
公开(公告)日：2020-11-13
申请号：CN201980023988.4
申请日：2019-03-19
Applicant: 富士纺控股株式会社
Abstract: 本发明提供一种经时研磨速率的稳定性高的研磨垫及其制造方法。一种研磨垫，包括具有聚氨基甲酸酯片的研磨层，其中在水浴中浸泡3天的湿润状态的所述聚氨基甲酸酯片在初始负荷148g、应变范围0.1％、测定频率1.6Hz、拉伸模式下的20℃～100℃的温度范围内的损耗角正切tanδ的峰值(tanδ峰值wet)与未浸泡在水浴中的干燥状态的所述聚氨基甲酸酯片的初始负荷148g、应变范围0.1％、测定频率1.6Hz、拉伸模式下的20℃～100℃的温度范围内的损耗角正切tanδ的峰值(tanδ峰值dry)之间的、利用下述式求出的tanδ峰值变化率为15％以下。tanδ峰值变化率＝|tanδ峰值wet‑tanδ峰值dry|/tanδ峰值dry×100。
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公开(公告)号：CN115397614B
公开(公告)日：2024-08-23
申请号：CN202180023262.8
申请日：2021-03-19
Applicant: 富士纺控股株式会社
Abstract: 提供能够减少抛光浆料向基材层的渗透且能够防止抛光性能降低的抛光单元。本发明的第一方面的抛光单元(10a)具备：具有抛光层(101)及基材层(103)的抛光垫(100a)、以及定盘(150)，其中，基材层(103)的直径小于抛光层(101)的直径且大于定盘(150)的直径。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115397614A
公开(公告)日：2022-11-25
申请号：CN202180023262.8
申请日：2021-03-19
Applicant: 富士纺控股株式会社
Abstract: 提供能够减少抛光浆料向基材层的渗透且能够防止抛光性能降低的抛光单元。本发明的第一方面的抛光单元(10a)具备：具有抛光层(101)及基材层(103)的抛光垫(100a)、以及定盘(150)，其中，基材层(103)的直径小于抛光层(101)的直径且大于定盘(150)的直径。
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公开(公告)号：CN116887947A
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN202280015016.2
申请日：2022-02-18
Applicant: 富士纺控股株式会社
IPC: B24B37/26
Abstract: 本发明可抑制对研磨性能的影响，并且防止由终点检测用窗所得的终点检测精度的降低。研磨垫3包括检查光L1可透过的终点检测用窗12，在研磨垫3的研磨面3A形成有多个同心圆状的环状槽11。所述终点检测用窗12的表面形成于与所述研磨面3A相同的高度，所述环状槽11中，形成于与形成有所述终点检测用窗12的位置相同的半径位置的多个环状槽11A在所述终点检测用窗12的表面未形成有槽，而在所述终点检测用窗12的附近包括端部11a。进而，通过连结槽13将形成于与所述终点检测用窗12相同的半径位置的多个环状槽11A的端部11a与端部11a连接。
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公开(公告)号：CN116867606A
公开(公告)日：2023-10-10
申请号：CN202280015279.3
申请日：2022-03-29
Applicant: 富士纺控股株式会社
IPC: B24B37/24
Abstract: 一种研磨垫，具有包含聚氨基甲酸酯树脂发泡体的研磨层，所述聚氨基甲酸酯树脂发泡体源自异氰酸酯末端预聚物及硬化剂，所述研磨垫中，通过X射线小角散射法测定的所述研磨层中的硬链段间的距离为9.5nm以下，或者，通过脉冲NMR法在80℃下所测定的所述研磨层中的非晶相的含有重量比例(NC80)相对于通过脉冲NMR法在80℃下所测定的所述研磨层中的结晶相的含有重量比例(CC80)的比(NC80/CC80)为2.6～3.1，通过脉冲NMR法在40℃下所测定的所述研磨层中的非晶相的含有重量比例(NC40)相对于通过脉冲NMR法在40℃下所测定的所述研磨层中的结晶相的含有重量比例(CC40)的比(NC40/CC40)为0.5～0.9。
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公开(公告)号：CN111936268B
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN201980023988.4
申请日：2019-03-19
Applicant: 富士纺控股株式会社
Abstract: 本发明提供一种经时研磨速率的稳定性高的研磨垫及其制造方法。研磨垫，包括具有聚氨基甲酸酯片的研磨层，其中在水浴中浸泡3天的湿润状态的所述聚氨基甲酸酯片在初始负荷148g、应变范围0.1％、测定频率1.6Hz、拉伸模式下的20℃～100℃的温度范围内的损耗角正切tanδ峰值wet与未浸泡在水浴中的干燥状态的所述聚氨基甲酸酯片的初始负荷148g、应变范围0.1％、测定频率1.6Hz、拉伸模式下的20℃～100℃的温度范围内的损耗角正切tanδ峰值dry之间的tanδ峰值变化率为15％以下。tanδ峰值变化率＝|tanδ峰值wet‑tanδ峰值dry|/tanδ峰值dry×100。
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公开(公告)号：CN114450126A
公开(公告)日：2022-05-06
申请号：CN202080067955.2
申请日：2020-09-18
Applicant: 富士纺控股株式会社
IPC: B24B37/22 , B24B37/26 , B24B37/013 , H01L21/304
Abstract: 本发明在被研磨物的研磨加工时防止终点检测用窗自研磨层脱落。具有终点检测用窗3B的研磨层3C如以下那样制造。首先，将成为终点检测用窗的聚合物与硬化剂混合后，使两者的混合物流入模具99中来制作柱状原材料100(图4(a))。其次，调整柱状原材料100的外周面的粗糙度，在外周面形成多个凹凸(图4(b))。继而，在将柱状原材料100收容于模框101内的状态下，使将预聚物与硬化剂混合而成的混合物流入模框101中并凝固，而制作聚氨基甲酸酯聚脲树脂成形体102(图4(c))。继而，若将聚氨基甲酸酯聚脲树脂成形体102以成为所需的厚度的方式水平地切断来制作片状构件103，则所述片状构件103成为具有终点检测用窗(3B)的研磨层(3C)(图4(d))。
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