研磨垫及研磨垫的制造方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116867606A

    公开(公告)日:2023-10-10

    申请号:CN202280015279.3

    申请日:2022-03-29

    Abstract: 一种研磨垫,具有包含聚氨基甲酸酯树脂发泡体的研磨层,所述聚氨基甲酸酯树脂发泡体源自异氰酸酯末端预聚物及硬化剂,所述研磨垫中,通过X射线小角散射法测定的所述研磨层中的硬链段间的距离为9.5nm以下,或者,通过脉冲NMR法在80℃下所测定的所述研磨层中的非晶相的含有重量比例(NC80)相对于通过脉冲NMR法在80℃下所测定的所述研磨层中的结晶相的含有重量比例(CC80)的比(NC80/CC80)为2.6~3.1,通过脉冲NMR法在40℃下所测定的所述研磨层中的非晶相的含有重量比例(NC40)相对于通过脉冲NMR法在40℃下所测定的所述研磨层中的结晶相的含有重量比例(CC40)的比(NC40/CC40)为0.5~0.9。

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