碳化硅半导体装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116779639A

    公开(公告)日:2023-09-19

    申请号:CN202310136110.X

    申请日:2023-01-30

    Inventor: 松永慎一郎

    Abstract: 提供一种碳化硅半导体装置,通过将空穴在沟槽的侧壁界面开始蓄积的栅极电压变更为高负电压,从而能够使用更高的负栅极电压,并能够防止开关时的误动作。碳化硅半导体装置(50)具备第一导电型的碳化硅半导体基板(1)、第一导电型的第一半导体层(2)、第二导电型的第二半导体层(6)、第一导电型的第一半导体区、沟槽(16)、隔着栅极绝缘膜(9)设置的栅极电极(10)、覆盖沟槽(16)的底面的第二导电型的第二半导体区(3)、在相邻的沟槽16之间的第二导电型的第三半导体区(4)、第一电极(12)和第二电极(13)。第三半导体区(4)在未设置第一半导体区的有源区端部与沟槽(16)的侧壁分离而配置,并与第二半导体区(3)连接。

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