用于互连应用的冗余金属阻挡结构

    公开(公告)号:CN102341903B

    公开(公告)日:2014-10-29

    申请号:CN201080010491.8

    申请日:2010-04-09

    Inventor: T·M·肖 C-C·杨

    Abstract: 本发明提供一种用于互连结构的冗余金属扩散阻挡层,其改善了互连结构的可靠性和可扩展性。所述冗余金属扩散阻挡层位于开口内,所述开口位于介电材料内,并且所述冗余金属扩散阻挡层位于扩散阻挡层与导电材料之间,所述扩散阻挡层和所述导电材料也存在于所述开口内。所述冗余扩散阻挡层包括单层或多层结构,其包括Ru和含Co材料,所述含Co材料包括纯Co或Co合金,所述Co合金包含N、P和B中的至少一者。

    用于互连应用的冗余金属阻挡结构

    公开(公告)号:CN102341903A

    公开(公告)日:2012-02-01

    申请号:CN201080010491.8

    申请日:2010-04-09

    Inventor: T·M·肖 C-C·杨

    Abstract: 提供一种用于互连结构的冗余金属扩散阻挡层,其改善了互连结构的可靠性和可扩展性。所述冗余金属扩散阻挡层位于开口内,所述开口位于介电材料内,并且所述冗余金属扩散阻挡层位于扩散阻挡层与导电材料之间,所述扩散阻挡层和所述导电材料也存在于所述开口内。所述冗余扩散阻挡层包括单层或多层结构,其包括Ru和含Co材料,所述含Co材料包括纯Co或Co合金,所述Co合金包含N、P和B中的至少一者。

    用于窄互连开口的导电结构

    公开(公告)号:CN102498560A

    公开(公告)日:2012-06-13

    申请号:CN201080040789.3

    申请日:2010-08-25

    Abstract: 提供了一种具有降低的电阻的互连结构和一种形成这样的互连结构的方法。所述互连结构包括介电材料(24),所述介电材料(24)包括在其中的至少一个开口。所述至少一个开口被填充有可选的阻挡扩散层(30)、晶粒生长促进层(32)、凝聚的镀敷籽晶层(34’)、可选的第二镀敷籽晶层和导电结构(38)。包括包含金属的导电材料(典型地为Cu)的所述导电结构具有竹节微结构和大于0.05微米的平均晶粒尺寸。在一些实施例中,所述导电结构包括具有(111)晶向的导电晶粒。

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