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公开(公告)号:CN117425956A
公开(公告)日:2024-01-19
申请号:CN202280035584.9
申请日:2022-05-19
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: H01L21/768 , H01L23/528
Abstract: 覆盖第一金属线和第二金属线的,并且水平地在所述第一金属线与所述第二金属线之间顶盖层按顺序为后罩盖内衬、气隙和所述后罩盖内衬。嵌入电介质的上表面中的第一组金属线、嵌入所述电介质下方及所述电子组件上方的第二组金属线、覆盖所述第一组金属线的后罩盖内衬、剖开所述第一组金属线中的第一金属线且延伸到所述第二组金属线中的第二金属线且剖开所述第二组金属线的空腔。在嵌入电介质的上表面中的第一金属线中形成空腔,其中所述第一金属线和所述电介质由顶部盖层覆盖。
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公开(公告)号:CN113661562A
公开(公告)日:2021-11-16
申请号:CN202080027600.0
申请日:2020-03-26
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: H01L21/28 , H01L21/336 , H01L21/768
Abstract: 本发明涉及一种方法和半导体器件。芯轴形成在基板上,芯轴包括第一金属层。在衬底上形成与第一金属层相邻的第二金属层,第一金属层和第二金属层由间隔体材料隔开。
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公开(公告)号:CN118140307A
公开(公告)日:2024-06-04
申请号:CN202280071008.X
申请日:2022-10-11
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: H01L23/528 , H01L21/768
Abstract: 一种半导体制造方法,其包括形成多个第一芯轴作为多层硬掩模的顶层,及在多个第一芯轴中的每个周围形成第一间隔物。去除多个第一芯轴并切割第一间隔物以形成多个第二芯轴。在多个第二芯轴中的每个周围形成第二间隔物,且形成包含多个第三芯轴的第一自对准图案。去除多个第二芯轴及第二间隔物且蚀刻多层硬掩模以将第一自对准图案转移到多层硬掩模的下层。形成第二自对准图案,其中第二自对准图案与第一自对准图案混合,以及将第一自对准图案和第二自对准图案蚀刻到导电金属层中。
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