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公开(公告)号:CN115939249A
公开(公告)日:2023-04-07
申请号:CN202210899190.X
申请日:2022-07-28
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L31/107 , H01L31/0352 , H01L31/02 , H01L31/18
Abstract: 在一些实施例中,本公开涉及一种单光子雪崩检测器(SPAD)器件,该器件包括硅衬底,该硅衬底包括在硅衬底的上表面中的凹槽。p型区域布置在凹槽的下表面下方的硅衬底中。n型雪崩区域布置在p型区域下方的硅衬底中,并在p‑n结处与p型区域相交。锗区域设置在p‑n结上方的凹槽内。根据本申请的其他实施例,还提供了半导体结构及其形成方法。
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公开(公告)号:CN221201182U
公开(公告)日:2024-06-21
申请号:CN202322728418.1
申请日:2023-10-11
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L29/861 , H01L21/329 , H01L23/48
Abstract: 本实用新型提供了具有无掺杂连接的结构及制造方法。示例性的结构包括:基底;形成在基底中且具有第一导电类型的第一区;位于基底之上的上覆层;形成在上覆层中且具有第二导电类型的井区;横向相邻于井区且延伸穿过上覆层而与第一区电接触的导电插塞;以及位于导电插塞与井区之间的钝化层。
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