半导体组件、封环结构及其形成方法

    公开(公告)号:CN100495705C

    公开(公告)日:2009-06-03

    申请号:CN200610094034.7

    申请日:2006-06-20

    Inventor: 杨肇祥

    CPC classification number: H01L23/585 H01L23/3192 H01L2924/0002 H01L2924/00

    Abstract: 本发明提供一种半导体组件、封环结构及其形成方法,该封环结构介于集成电路与切割道之间。在一实施例中,封环结构包括基板;多层金属导线,位于基板上;多多个导孔插塞,贯穿金属导线之间的介电层,并电连接金属导线;第一保护层,位于金属导线上,且具有开口以暴露部分最上层的金属导线;单个或多个金属焊垫,紧贴第一保护层的开口;以及第二保护层,位于第一保护层上并封住金属焊垫,且该第二保护层具有沟槽露出最上层的金属导线。本发明提供的封环结构可有效解决切割晶片时产生的应力问题,避免应力损伤芯片的集成电路同时提高合格率。

    半导体组件、封环结构及其形成方法

    公开(公告)号:CN101000909A

    公开(公告)日:2007-07-18

    申请号:CN200610094034.7

    申请日:2006-06-20

    Inventor: 杨肇祥

    CPC classification number: H01L23/585 H01L23/3192 H01L2924/0002 H01L2924/00

    Abstract: 本发明提供一种半导体组件、封环结构及其形成方法,该封环结构介于集成电路与切割道之间。在一实施例中,封环结构包括基板;多层金属导线,位于基板上;多个导孔插塞,贯穿金属导线之间的介电层,并电连接金属导线;第一保护层,位于金属导线上,且具有开口以暴露部分最上层的金属导线;单个或多个金属焊垫,紧贴第一保护层的开口;以及第二保护层,位于第一保护层上并封住金属焊垫,且在最上层金属导线上或介电层上具有沟槽。本发明提供的封环结构可有效解决切割晶片时产生的应力问题,避免应力损伤芯片的集成电路同时提高合格率。

Patent Agency Ranking