公开(公告)号：CN110442893A

公开(公告)日：2019-11-12

申请号：CN201910367120.8

申请日：2019-05-05

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 苏哿颖 ,  何炯煦 ,  苏哿暐 ,  陈两仪 ,  谢文兴 ,  赖文科 ,  郭耿华 ,  吕国培 ,  张修状 ,  吴泽铭

IPC: G06F17/50

Abstract: 一种生成IC器件的网表的方法包括：提取所述IC器件的栅极区的尺寸，所述尺寸包括：栅极区的宽度，所述宽度至少从有源区的第一边缘延伸至所述有源区的第二边缘；以及从所述宽度的第一末端至沿着所述宽度定位的栅极通孔的距离。接收对应于所述栅极区的第一栅极电阻值，基于所述距离和所述宽度确定第二栅极电阻值；以及基于所述第一栅极电阻值和所述第二栅极电阻值更新所述网表。本发明的实施例还提供了集成电路器件布局图生成方法和系统。

公开(公告)号：CN107315848B

公开(公告)日：2023-11-24

申请号：CN201710146086.2

申请日：2017-03-13

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 姜慧如 ,  萧铮 ,  黄章祐 ,  陈瓀懿 ,  苏哿暐 ,  林忠凱 ,  张修状 ,  郑敏祺

IPC: G06F30/398 ,  G06F30/392

Abstract: 一种用于集成电路设计的方法，包括：接收后制造集成电路元件特性的空间相关性矩阵R。导出随机数产生函数g(x,y)使得位于坐标(x,y)的元件的随机数可独立产生，而全部随机数对满足空间相关性矩阵R。此方法进一步包括接收具有预制造集成电路元件的集成电路设计布局，预制造集成电路元件各者具有坐标及第一特性值。此方法进一步包括使用这些预制造集成电路元件的坐标及函数g(x,y)产生随机数。通过将随机数应用至第一特性值导出第二特性值。将第二特性值提供至集成电路模拟工具。

公开(公告)号：CN107315848A

公开(公告)日：2017-11-03

申请号：CN201710146086.2

申请日：2017-03-13

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 姜慧如 ,  萧铮 ,  黄章祐 ,  陈瓀懿 ,  苏哿暐 ,  林忠凱 ,  张修状 ,  郑敏祺

IPC: G06F17/50

CPC classification number: G06F17/5068 ,  G06F7/588 ,  G06F17/5036 ,  G06F2217/10 ,  G06F17/5031 ,  G06F17/5072 ,  G06F17/5077 ,  G06F17/5081

Abstract: 一种用于集成电路设计的方法，包括：接收后制造集成电路元件特性的空间相关性矩阵R。导出随机数产生函数g(x,y)使得位于坐标(x,y)的元件的随机数可独立产生，而全部随机数对满足空间相关性矩阵R。此方法进一步包括接收具有预制造集成电路元件的集成电路设计布局，预制造集成电路元件各者具有坐标及第一特性值。此方法进一步包括使用这些预制造集成电路元件的坐标及函数g(x,y)产生随机数。通过将随机数应用至第一特性值导出第二特性值。将第二特性值提供至集成电路模拟工具。

公开(公告)号：CN110298055B

公开(公告)日：2024-12-24

申请号：CN201910221167.3

申请日：2019-03-22

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 苏哿颖 ,  苏哿暐 ,  郭耿华 ,  张修状

IPC: G06F30/392 ,  G06F30/398

Abstract: 本发明实施例涉及一种集成电路布局产生方法和系统，其方法包含接收所述IC装置的布局图，所述IC布局图包含：栅极区，其在有源区上具有宽度；以及栅极通孔，其定位在沿所述宽度的位置处。使用所述位置来将所述宽度划分成多个宽度区段，基于所述多个宽度区段来计算所述栅极区的有效电阻，且使用所述有效电阻来确定所述IC布局图是否遵守设计规范。

公开(公告)号：CN110442893B

公开(公告)日：2022-10-18

申请号：CN201910367120.8

申请日：2019-05-05

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 苏哿颖 ,  何炯煦 ,  苏哿暐 ,  陈两仪 ,  谢文兴 ,  赖文科 ,  郭耿华 ,  吕国培 ,  张修状 ,  吴泽铭

IPC: G06F30/392

Abstract: 一种生成IC器件的网表的方法包括：提取所述IC器件的栅极区的尺寸，所述尺寸包括：栅极区的宽度，所述宽度至少从有源区的第一边缘延伸至所述有源区的第二边缘；以及从所述宽度的第一末端至沿着所述宽度定位的栅极通孔的距离。接收对应于所述栅极区的第一栅极电阻值，基于所述距离和所述宽度确定第二栅极电阻值；以及基于所述第一栅极电阻值和所述第二栅极电阻值更新所述网表。本发明的实施例还提供了集成电路器件布局图生成方法和系统。

公开(公告)号：CN110298055A

公开(公告)日：2019-10-01

申请号：CN201910221167.3

申请日：2019-03-22

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 苏哿颖 ,  苏哿暐 ,  郭耿华 ,  张修状

IPC: G06F17/50

Abstract: 本发明实施例涉及一种集成电路布局产生方法和系统，其方法包含接收所述IC装置的布局图，所述IC布局图包含：栅极区，其在有源区上具有宽度；以及栅极通孔，其定位在沿所述宽度的位置处。使用所述位置来将所述宽度划分成多个宽度区段，基于所述多个宽度区段来计算所述栅极区的有效电阻，且使用所述有效电阻来确定所述IC布局图是否遵守设计规范。