公开(公告)号：CN110442893A

公开(公告)日：2019-11-12

申请号：CN201910367120.8

申请日：2019-05-05

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 苏哿颖 ,  何炯煦 ,  苏哿暐 ,  陈两仪 ,  谢文兴 ,  赖文科 ,  郭耿华 ,  吕国培 ,  张修状 ,  吴泽铭

IPC: G06F17/50

Abstract: 一种生成IC器件的网表的方法包括：提取所述IC器件的栅极区的尺寸，所述尺寸包括：栅极区的宽度，所述宽度至少从有源区的第一边缘延伸至所述有源区的第二边缘；以及从所述宽度的第一末端至沿着所述宽度定位的栅极通孔的距离。接收对应于所述栅极区的第一栅极电阻值，基于所述距离和所述宽度确定第二栅极电阻值；以及基于所述第一栅极电阻值和所述第二栅极电阻值更新所述网表。本发明的实施例还提供了集成电路器件布局图生成方法和系统。

公开(公告)号：CN110298055B

公开(公告)日：2024-12-24

申请号：CN201910221167.3

申请日：2019-03-22

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 苏哿颖 ,  苏哿暐 ,  郭耿华 ,  张修状

IPC: G06F30/392 ,  G06F30/398

Abstract: 本发明实施例涉及一种集成电路布局产生方法和系统，其方法包含接收所述IC装置的布局图，所述IC布局图包含：栅极区，其在有源区上具有宽度；以及栅极通孔，其定位在沿所述宽度的位置处。使用所述位置来将所述宽度划分成多个宽度区段，基于所述多个宽度区段来计算所述栅极区的有效电阻，且使用所述有效电阻来确定所述IC布局图是否遵守设计规范。

公开(公告)号：CN110442893B

公开(公告)日：2022-10-18

申请号：CN201910367120.8

申请日：2019-05-05

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 苏哿颖 ,  何炯煦 ,  苏哿暐 ,  陈两仪 ,  谢文兴 ,  赖文科 ,  郭耿华 ,  吕国培 ,  张修状 ,  吴泽铭

IPC: G06F30/392

Abstract: 一种生成IC器件的网表的方法包括：提取所述IC器件的栅极区的尺寸，所述尺寸包括：栅极区的宽度，所述宽度至少从有源区的第一边缘延伸至所述有源区的第二边缘；以及从所述宽度的第一末端至沿着所述宽度定位的栅极通孔的距离。接收对应于所述栅极区的第一栅极电阻值，基于所述距离和所述宽度确定第二栅极电阻值；以及基于所述第一栅极电阻值和所述第二栅极电阻值更新所述网表。本发明的实施例还提供了集成电路器件布局图生成方法和系统。

公开(公告)号：CN110298055A

公开(公告)日：2019-10-01

申请号：CN201910221167.3

申请日：2019-03-22

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 苏哿颖 ,  苏哿暐 ,  郭耿华 ,  张修状

IPC: G06F17/50

Abstract: 本发明实施例涉及一种集成电路布局产生方法和系统，其方法包含接收所述IC装置的布局图，所述IC布局图包含：栅极区，其在有源区上具有宽度；以及栅极通孔，其定位在沿所述宽度的位置处。使用所述位置来将所述宽度划分成多个宽度区段，基于所述多个宽度区段来计算所述栅极区的有效电阻，且使用所述有效电阻来确定所述IC布局图是否遵守设计规范。