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公开(公告)号：CN113946095A
公开(公告)日：2022-01-18
申请号：CN202110179259.7
申请日：2021-02-08
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Abstract: 提供一种光掩模组装件及其形成方法，所述方法包括：可在光掩模组装件的衬底的背侧上形成一个或多个盖层之前去除衬底的背侧上的缓冲层的一部分。可直接在衬底的从衬底去除缓冲层的背侧上形成一个或多个盖层，且可直接在一个或多个盖层上形成硬掩模层。一个或多个盖层可包含低应力材料以促进一个或多个盖层与衬底之间的粘着，且减少和/或最小化盖层从衬底的剥落和分层。这可降低损坏光掩模组装件的表膜层和/或其它组件的可能性，和/或可增加其中使用光掩模组装件的曝光工艺的产率。
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公开(公告)号：CN119960252A
公开(公告)日：2025-05-09
申请号：CN202411882040.3
申请日：2024-12-19
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Inventor： 蔡沛勋 , 黎君裔 , 陈泓霖 , 冀天齐 , 钟博文 , 钟承恩 , 许景河 , 庄郁凡 , 陈昱庭 , 徐闵庭 , 魏川育 , 黄健朝 , 蔡飞国 , 涂志强 , 翁睿均 , 张佑诚 , 陈庆跃 , 林云跃 , 王大钧
IPC: G03F1/48
Abstract: 一种光掩模保护薄膜、光掩模保护膜组装件及其形成方法。光掩模保护薄膜由特定结构的核心层和二个顶盖层形成。在一些实施例中，核心层包括高百分比的Mo3Si晶相。在其他实施例中，顶盖层包括氮氧化硅或碳氮化硅。所得光掩模保护膜兼具用于EUV光的高透射率和用于EUV和DUV光的低反射率。
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公开(公告)号：CN112687709A
公开(公告)日：2021-04-20
申请号：CN202010905692.X
申请日：2020-09-01
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Inventor： 陈信宇 , 翁睿均 , 潘汉宗 , 张佑诚 , 黎俊朋 , 陈信桦 , 邱俊杰 , 刘彦江 , 许希丞 , 胡景翔 , 洪嘉骏 , 李佳烜 , 拉瓦亚·沙纳卡瓦拉普 , 吴威鼎 , 蒋季宏
IPC: H01L27/146 , G06K9/00 , G02B27/30
Abstract: 本申请实施例公开光学准直器、半导体装置及其形成方法，该方法符合经济效益，制造用于接触式影像感测器的多功能准直器结构来过滤周围红外光，以减少噪声。在一实施例中，光学准直器包含介电层；基底；多个通孔；以及导电层，其中介电层形成于基底上方，其中多个通孔被配置为沿介电层的第一表面的横向方向延伸的阵列，其中多个通孔的每一者在垂直方向从介电层的第一表面延伸通过介电层和基底至基底的第二表面，且其中导电层形成于介电层的第一表面和多个通孔的每一者的侧壁的一部分的至少一者上方，且其中导电层被配置为允许光学准直器过滤一波长范围的光。
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公开(公告)号：CN112687709B
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202010905692.X
申请日：2020-09-01
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Inventor： 陈信宇 , 翁睿均 , 潘汉宗 , 张佑诚 , 黎俊朋 , 陈信桦 , 邱俊杰 , 刘彦江 , 许希丞 , 胡景翔 , 洪嘉骏 , 李佳烜 , 拉瓦亚·沙纳卡瓦拉普 , 吴威鼎 , 蒋季宏
Abstract: 本申请实施例公开光学准直器、半导体装置及其形成方法，该方法符合经济效益，制造用于接触式影像感测器的多功能准直器结构来过滤周围红外光，以减少噪声。在一实施例中，光学准直器包含介电层；基底；多个通孔；以及导电层，其中介电层形成于基底上方，其中多个通孔被配置为沿介电层的第一表面的横向方向延伸的阵列，其中多个通孔的每一者在垂直方向从介电层的第一表面延伸通过介电层和基底至基底的第二表面，且其中导电层形成于介电层的第一表面和多个通孔的每一者的侧壁的一部分的至少一者上方，且其中导电层被配置为允许光学准直器过滤一波长范围的光。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113946095B
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN202110179259.7
申请日：2021-02-08
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Abstract: 提供一种光掩模组装件及其形成方法，所述方法包括：可在光掩模组装件的衬底的背侧上形成一个或多个盖层之前去除衬底的背侧上的缓冲层的一部分。可直接在衬底的从衬底去除缓冲层的背侧上形成一个或多个盖层，且可直接在一个或多个盖层上形成硬掩模层。一个或多个盖层可包含低应力材料以促进一个或多个盖层与衬底之间的粘着，且减少和/或最小化盖层从衬底的剥落和分层。这可降低损坏光掩模组装件的表膜层和/或其它组件的可能性，和/或可增加其中使用光掩模组装件的曝光工艺的产率。
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公开(公告)号：CN112687708A
公开(公告)日：2021-04-20
申请号：CN202010885422.7
申请日：2020-08-28
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Inventor： 陈信宇 , 翁睿均 , 潘汉宗 , 张佑诚 , 黎俊朋 , 陈信桦 , 邱俊杰 , 刘彦江 , 许希丞 , 胡景翔 , 洪嘉骏 , 李佳烜 , 杜立扬 , 拉瓦亚·沙纳卡瓦拉普 , 吴威鼎 , 蒋季宏
IPC: H01L27/146 , G06K9/00 , G02B27/30
Abstract: 本公开实施例公开光学准直器、半导体装置及其形成方法。在一实施例中，光学准直器包含：介电层；基底；以及多个通孔，其中介电层形成于基底上方，其中多个通孔被配置为沿介电层的第一表面的横向方向延伸的阵列，其中多个通孔的每一者在垂直方向从介电层的第一表面延伸通过介电层和基底至基底的第二表面，其中基底具有整体杂质掺杂浓度等于或大于1×1019cm‑3和第一厚度，且其中基底的整体杂质掺杂浓度和第一厚度被配置为允许光学准直器过滤一波长范围的光。
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公开(公告)号：CN112687708B
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202010885422.7
申请日：2020-08-28
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Inventor： 陈信宇 , 翁睿均 , 潘汉宗 , 张佑诚 , 黎俊朋 , 陈信桦 , 邱俊杰 , 刘彦江 , 许希丞 , 胡景翔 , 洪嘉骏 , 李佳烜 , 杜立扬 , 拉瓦亚·沙纳卡瓦拉普 , 吴威鼎 , 蒋季宏
Abstract: 本公开实施例公开光学准直器、半导体装置及其形成方法。在一实施例中，光学准直器包含：介电层；基底；以及多个通孔，其中介电层形成于基底上方，其中多个通孔被配置为沿介电层的第一表面的横向方向延伸的阵列，其中多个通孔的每一者在垂直方向从介电层的第一表面延伸通过介电层和基底至基底的第二表面，其中基底具有整体杂质掺杂浓度等于或大于1×1019cm‑3和第一厚度，且其中基底的整体杂质掺杂浓度和第一厚度被配置为允许光学准直器过滤一波长范围的光。
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公开(公告)号：CN112015295B
公开(公告)日：2024-10-08
申请号：CN202010474732.X
申请日：2020-05-29
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Abstract: 本发明提供一种感测装置、电子设备及用于形成感测装置的方法。在一些实施例中，所述感测装置包括：图像感测器；准直仪，在所述图像感测器的上方，其中所述准直仪包括孔阵列；以及光学滤光层，在所述准直仪的上方，其中所述光学滤光层被配置成过滤将要透射至所述孔阵列中的一部分光。本发明可避免由于充电、应力效应和热副作用而导致的性能下降。
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公开(公告)号：CN112015295A
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN202010474732.X
申请日：2020-05-29
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Abstract: 本发明提供一种感测装置、电子设备及用于形成感测装置的方法。在一些实施例中，所述感测装置包括：图像感测器；准直仪，在所述图像感测器的上方，其中所述准直仪包括孔阵列；以及光学滤光层，在所述准直仪的上方，其中所述光学滤光层被配置成过滤将要透射至所述孔阵列中的一部分光。本发明可避免由于充电、应力效应和热副作用而导致的性能下降。
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