半导体元件
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108122961A

    公开(公告)日:2018-06-05

    申请号:CN201710655472.4

    申请日:2017-08-03

    Abstract: 一种半导体元件,包含设置于基材上的第一与第二纳米线结构,第一及第二纳米线沿着第一方向延伸。第一纳米线结构包含多个第一纳米线。第一纳米线沿着第一方向延伸且沿着垂直第一方向的第二方向排列。第二纳米线结构包含多个第二纳米线。第二纳米线沿着第一方向延伸且沿着第二方向排列。第一与第二纳米线的材料不同。相邻纳米线彼此间隔。多个第一及第二栅极结构分别于环绕局部的第一及第二纳米线。第一及第二栅极结构包含多个栅极电极。第一纳米线沿着第二方向的高度与紧邻的第二纳米线沿着第二方向的间隔距离不相等。

Patent Agency Ranking