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公开(公告)号：CN115933327A
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN202211584595.0
申请日：2022-12-09
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及半导体微纳器件加工制造技术领域，本发明提供一种对准套刻装置，其包括转台、位移装置、对准图案采集系统和对准图案分析系统，转台上放置有样片，位移装置连接转台的底部用于将转台位移至指定位置，对准图案采集系统对准转台，用于获取样片的图像，样片的图像至少包括阵列结构轮廓，对准图案分析系统耦接对准图案采集系统，用于将获得的阵列结构轮廓与预设标准图案进行比对，以判断样片是否对准，当判断样片处于未对准状态时，转台进行转动调节，直至样片处于对准状态。借此，无需在掩膜版和样片上加工多个标记来进行对准，便可以实现整个样片的图像对准，省去多个高精度相机反复调整寻找对准标记的繁杂步骤，使对准套刻工艺更高效。
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公开(公告)号：CN115829977A
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202211584133.9
申请日：2022-12-09
IPC: G06T7/00 , G06V10/764 , G06V10/72 , G06V10/774 , G06V10/82 , H04N23/70 , H04N23/75
Abstract: 本发明涉及曝光技术领域，特别涉及一种基于微透镜阵列曝光工艺的质量检测方法及参数调节方法。质量检测方法包括步骤：建立可识别出每一曝光点图案类别的曝光图案检测模型；图案类别包括合格图案及不合格图案；设定初始曝光参数并获取经MLA曝光工艺得到的曝光图像；将曝光图像输入至曝光图案检测模型中以生成每一曝光点对应图案类别的数据信息集；根据数据信息集判断曝光点的图案类别并统计曝光图像中合格图案与不合格图案的曝光点数量，以得到合格图案的曝光点数量占全部曝光点数量的比例。通过上述设置，能够自动识别合格图案与不合格图案，从而自动化得到MLA曝光质量的合格率，有效提升质量检测精度和速度。
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公开(公告)号：CN114429929A
公开(公告)日：2022-05-03
申请号：CN202210074403.5
申请日：2022-01-21
IPC: H01L21/677 , H01L21/683
Abstract: 本申请公开了一种基片转运装置，包括真空发生器、气体吹送器、转运机构和吹扫器；转运机构包括托架；托架适于平移，其设有用于承载基片的承载面；承载面设有若干吸附孔；各吸附孔均连通真空发生器；吹扫器安装于托架且设有吹气通道；吹气通道连通气体吹送器，其相对承载面倾斜朝上延伸且出气口朝向承载面所在一侧；吹气通道的出气口的下端设有倾斜朝下的第一导风面；第一导风面所在平面与承载面所在平面的交线相对吸附于承载面上的基片的任意部位均较靠近于吹气通道的出气口。采用上述技术方案的基片转运装置能够可靠地对基片进行转运，降低基片受损风险，以及保证基片及其表面上的光刻胶的清洁度。
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公开(公告)号：CN216938970U
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN202220176207.4
申请日：2022-01-21
IPC: B23K26/362 , B23K26/16 , B23K26/70
Abstract: 本申请公开了一种基片承载及吹扫装置。基片承载及吹扫装置包括真空发生器、气体吹送器和载台；载台顶端设有气流槽；气流槽的槽壁设有朝向气流槽的吹扫孔；吹扫孔连通气体吹送器，以接入气流并朝向气流槽内吹出气体；气流槽的槽底设有承载槽；承载槽与基片匹配；承载槽的槽底设有若干支承基片的凸起部和沿竖直方向贯通的通孔；凸起部的顶端设有吸附孔；各凸起部沿通孔的周向布设；吸附孔连通真空发生器，各吸附孔内的空气由真空发生器进行抽吸且能够处于真空状态；基片支承于凸起部上时，其上表面低于或齐平于气流槽的槽底。采用上述技术方案的基片承载及吹扫装置，其能够灵活地对基片进行装载，对基片的定位准确，基片损伤风险小且清洁度高。
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公开(公告)号：CN216871006U
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202220190994.8
申请日：2022-01-24
IPC: G03F7/20
Abstract: 本实用新型公开了一种桌面便携式无掩膜曝光机，其特征在于：包括壳体和安装在所述壳体内的激光系统、微透镜阵列模块、移动平台及电源，所述的微透镜阵列模块设在激光系统与移动平台之间，所述的移动平台承载加工基片，激光系统发出的激光束照射到微透镜阵列模块上被分束和聚焦后投射到移动平台上的加工基片进行曝光。它具有如下优点：实现无掩膜光刻，加工效率高，尤其适用周期性图案的曝光加工，小型化、便于移动和携带。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118875886A
公开(公告)日：2024-11-01
申请号：CN202411053995.8
申请日：2024-08-02
Applicant: 厦门大学
Abstract: 一种气囊抛光机床力监测采集装置及设计方法，涉及复杂曲面光学元件高精密抛光。装置包括测力平台、S型力敏单元、支撑平台、多路调理盒、测力计和数据采集卡；支撑平台固定于气囊抛光机工作台上；S型力敏单元固定于测力平台与支撑平台之间，其固定位置及分布根据响应面优化法及拟牛顿法，由有限元软件仿真得出。多路调理盒与S型力敏单元连接，通过信号线与测力计连接。数据采集卡与测力计连接。通过数据采集卡采集电压信号转化为实际力值，通过Labview程序处理为补偿量，利用通讯程序将补偿值传输给机床数控系统，对气囊的下压量实时补偿。使抛光法向力稳定在设定值，实现抛光力的补偿及恒力控制。
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公开(公告)号：CN115946023A
公开(公告)日：2023-04-11
申请号：CN202211441128.2
申请日：2022-11-17
Applicant: 厦门大学
Abstract: 本发明公开了一种气囊抛光组件、气囊抛光装置和气囊抛光设备，其中的气囊抛光组件包括可转动的基座，基座设有过气通道；装设于基座并用于抛光工件的气囊，气囊设有出液孔；和输液组件，其包括输液管和储液件；储液件贴靠于气囊内壁，并设有储液腔和过液孔；储液腔用于储存抛光液，且其与输液管和过液孔连通，过液孔与出液孔连通；过气通道被配置为适于向储液件施加气压并将压力传递至气囊；该气囊抛光组件能够使抛光液较好地进入到有效抛光区域，降低抛光气囊的磨损，提高抛光精度。
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公开(公告)号：CN109909758B
公开(公告)日：2020-03-31
申请号：CN201910221159.9
申请日：2019-03-22
Applicant: 厦门大学
Abstract: 一种二腔闭式液体静压导轨滑块模块，涉及液体静压节流装置领域，包括滑块本体、及与滑块本体连接的压力传感器和流量控制器；滑块本体开设有滑块本体进油口、至少一个油腔、与油腔数量相对应的出油分流口和进油分流口；油腔设有油腔出油口，出油分流口与滑块本体进油口连通，进油分流口与油腔出油口连通；油腔的周边设有微织构封油面；流量控制器设有流量控制器进油口和流量控制器出油口，且流量控制器进油口和出油分流口连通，流量控制器出油口和进油分流口连通；压力传感器与油腔连通，以实时监测油腔的油压大小。安装有本发明模块的线性轴机台不仅可以具有高油膜刚度和高承载能力，而且还可以具有较好的运动直线度。
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公开(公告)号：CN109882505A
公开(公告)日：2019-06-14
申请号：CN201910220208.7
申请日：2019-03-22
Applicant: 厦门大学
IPC: F16C32/06
Abstract: 一种节流比可调的微细沟槽节流器，涉及液体静压支承用的节流器领域，包括节流器安装套和节流器本体；节流器安装套轴向设有前端圆柱腔体和后端圆柱腔体，前端圆柱腔体为光孔，后端圆柱腔体为具有螺纹的通孔，前端圆柱腔体的内壁直径大于后端圆柱腔体的内壁直径，后端圆柱腔体的内壁上开设有微细沟槽；节流器本体为螺杆结构，节流器本体与后端圆柱腔体通过螺纹啮合，啮合区域的微细沟槽构成节流器的工作区。压力油从前端圆柱腔体流入到啮合区域的微细沟槽进行节流，最后节流后的压力油流出到油腔。本发明具有节流比可调、结构简单、布局紧凑、容易拆装、不易堵塞等优点，可有效提高固定节流器方式下液体静压支承系统的调试效率。
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公开(公告)号：CN109869459A
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201910165711.7
申请日：2019-03-06
Applicant: 厦门大学
IPC: F16H47/02 , F16H61/437
Abstract: 一种液压自平衡均压调节装置，涉及机械液压传动。设有液压装置和传动装置，所述液压装置设有手轮、丝杠、大液压缸、五通液压缸和4个小液压缸；所述传动装置设有第一连杆、滑块、滑块导轨、第二连杆、压板推杆、推杆轴套、液体压力计和压板；所述丝杆与手轮固定连接；所述大液压缸和4个小液压缸组成五通液压缸，大液压缸和4个小液压缸与丝杠通过螺纹结构连接；所述第一连杆上端与小液压缸铰接，滑块与第一连杆下端铰接，滑块套设在固定的滑块导轨上，滑块与第二连杆上端相铰接，第二连杆下端与压板推杆上端相铰接，压板推杆套设在固定的推杆轴套内，压板推杆下端与压板铰接，五通液压缸内的液体压强由液体压力计读出。
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