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公开(公告)号：CN115933327A
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN202211584595.0
申请日：2022-12-09
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及半导体微纳器件加工制造技术领域，本发明提供一种对准套刻装置，其包括转台、位移装置、对准图案采集系统和对准图案分析系统，转台上放置有样片，位移装置连接转台的底部用于将转台位移至指定位置，对准图案采集系统对准转台，用于获取样片的图像，样片的图像至少包括阵列结构轮廓，对准图案分析系统耦接对准图案采集系统，用于将获得的阵列结构轮廓与预设标准图案进行比对，以判断样片是否对准，当判断样片处于未对准状态时，转台进行转动调节，直至样片处于对准状态。借此，无需在掩膜版和样片上加工多个标记来进行对准，便可以实现整个样片的图像对准，省去多个高精度相机反复调整寻找对准标记的繁杂步骤，使对准套刻工艺更高效。
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公开(公告)号：CN115829977A
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202211584133.9
申请日：2022-12-09
IPC: G06T7/00 , G06V10/764 , G06V10/72 , G06V10/774 , G06V10/82 , H04N23/70 , H04N23/75
Abstract: 本发明涉及曝光技术领域，特别涉及一种基于微透镜阵列曝光工艺的质量检测方法及参数调节方法。质量检测方法包括步骤：建立可识别出每一曝光点图案类别的曝光图案检测模型；图案类别包括合格图案及不合格图案；设定初始曝光参数并获取经MLA曝光工艺得到的曝光图像；将曝光图像输入至曝光图案检测模型中以生成每一曝光点对应图案类别的数据信息集；根据数据信息集判断曝光点的图案类别并统计曝光图像中合格图案与不合格图案的曝光点数量，以得到合格图案的曝光点数量占全部曝光点数量的比例。通过上述设置，能够自动识别合格图案与不合格图案，从而自动化得到MLA曝光质量的合格率，有效提升质量检测精度和速度。
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公开(公告)号：CN114429929A
公开(公告)日：2022-05-03
申请号：CN202210074403.5
申请日：2022-01-21
IPC: H01L21/677 , H01L21/683
Abstract: 本申请公开了一种基片转运装置，包括真空发生器、气体吹送器、转运机构和吹扫器；转运机构包括托架；托架适于平移，其设有用于承载基片的承载面；承载面设有若干吸附孔；各吸附孔均连通真空发生器；吹扫器安装于托架且设有吹气通道；吹气通道连通气体吹送器，其相对承载面倾斜朝上延伸且出气口朝向承载面所在一侧；吹气通道的出气口的下端设有倾斜朝下的第一导风面；第一导风面所在平面与承载面所在平面的交线相对吸附于承载面上的基片的任意部位均较靠近于吹气通道的出气口。采用上述技术方案的基片转运装置能够可靠地对基片进行转运，降低基片受损风险，以及保证基片及其表面上的光刻胶的清洁度。
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公开(公告)号：CN216871006U
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202220190994.8
申请日：2022-01-24
IPC: G03F7/20
Abstract: 本实用新型公开了一种桌面便携式无掩膜曝光机，其特征在于：包括壳体和安装在所述壳体内的激光系统、微透镜阵列模块、移动平台及电源，所述的微透镜阵列模块设在激光系统与移动平台之间，所述的移动平台承载加工基片，激光系统发出的激光束照射到微透镜阵列模块上被分束和聚焦后投射到移动平台上的加工基片进行曝光。它具有如下优点：实现无掩膜光刻，加工效率高，尤其适用周期性图案的曝光加工，小型化、便于移动和携带。
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公开(公告)号：CN216938970U
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN202220176207.4
申请日：2022-01-21
IPC: B23K26/362 , B23K26/16 , B23K26/70
Abstract: 本申请公开了一种基片承载及吹扫装置。基片承载及吹扫装置包括真空发生器、气体吹送器和载台；载台顶端设有气流槽；气流槽的槽壁设有朝向气流槽的吹扫孔；吹扫孔连通气体吹送器，以接入气流并朝向气流槽内吹出气体；气流槽的槽底设有承载槽；承载槽与基片匹配；承载槽的槽底设有若干支承基片的凸起部和沿竖直方向贯通的通孔；凸起部的顶端设有吸附孔；各凸起部沿通孔的周向布设；吸附孔连通真空发生器，各吸附孔内的空气由真空发生器进行抽吸且能够处于真空状态；基片支承于凸起部上时，其上表面低于或齐平于气流槽的槽底。采用上述技术方案的基片承载及吹扫装置，其能够灵活地对基片进行装载，对基片的定位准确，基片损伤风险小且清洁度高。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117300366A
公开(公告)日：2023-12-29
申请号：CN202311302663.4
申请日：2023-10-10
Applicant: 厦门大学
IPC: B23K26/36 , B23K26/067
Abstract: 本发明公开了一种双激光束去除金属材料的方法，采用脉冲激光，将激光器发射的原始激光束分为有时间差序的预热激光束和去除激光束，使预热激光束和去除激光束聚焦于金属材料的同一位置，且通过光程差实现了时空域能量分布的调制，重复扫描待去除区域的金属材料实现选择性去除。本发明还公开了其在半导体器件的金属电极失效区域修复的应用。通过时间调制的双激光束对金属材料进行选择性去除，限制了去除过程中热效应的集中累积和扩散，避免了单激光束去除过程中对金属材料附着基底的热影响所产生的缺陷。
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公开(公告)号：CN113368538B
公开(公告)日：2022-06-21
申请号：CN202110443225.4
申请日：2021-04-23
Applicant: 厦门大学
IPC: B01D17/022 , C02F1/40 , C23C26/00
Abstract: 本发明公开了沉积氧化铝纳米涂层的柔性铜网及其制备方法和应用。其制备步骤包括：先清洗铜网，然后将铝箔固定在铜网上，最后用脉冲光纤激光一步熔覆铝箔将氧化铝沉积到铜网表面，使得铜网表面制造出微纳米结构涂层。本发明制备的亲水疏油的柔性铜网具有较高的水下油接触角和很小的滚动角，分离能力突出，耐久性良好，并且能够根据基底的柔性对其作出变形设计，能够灵活地应用在环保、生物医药、仿生学、材料学等多个领域；且该方法操作简单直接，具有制备过程便捷、时间短以及成本低等优点。
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公开(公告)号：CN108163856A
公开(公告)日：2018-06-15
申请号：CN201711484113.3
申请日：2017-12-29
Applicant: 厦门大学 , 惠州市银嘉环保科技有限公司
IPC: C01B32/354 , C04B35/532 , C04B35/622 , C04B38/02 , B01D39/20
Abstract: 本发明公开了一种发泡炭棒及其制备方法，将发泡剂加入活性炭和粘结剂中，经烧结加工制备得到发泡炭棒。本发明通过添加发泡剂，在不影响炭棒过滤功效的前提下，减少活性炭的用量，从而降低能耗；利用发泡剂自身作用机理，产生一定压力使炭棒在模具中成型，优化传统模具烧结压实工艺，解决了成型炭棒炭料不均匀及炭棒自身摩擦对模具产生的损伤；增加了炭棒的过滤孔径，减少初始使用黑水量，并解决炭棒在使用一段时间后堵塞的问题。
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公开(公告)号：CN117001174A
公开(公告)日：2023-11-07
申请号：CN202311177376.5
申请日：2023-09-13
Applicant: 厦门大学
IPC: B23K26/38 , B23K26/064 , B23K26/06 , B23K26/70
Abstract: 本发明提供一种双激光束薄化方法，包括：步骤1，将待加工样品固定，而后控制双激光束对焦于待加工样品表面；步骤2，获取所述双激光束照射于所述待加工样品的表面所形成的光斑直径和激光频率；步骤3，根据所述光斑直径调整所述双激光束中光束所形成的两个光斑的相对位置，保证双激光束的两个光斑的边缘相切；步骤4，根据所述光斑直径和所述激光频率来确定初始扫描速度；步骤5，根据薄化需求，调整所述待加工样品的薄化操作参数，并作为所述双激光束加工参数；步骤6，根据所述双激光束加工参数对待加工样品的表面进行线平行扫描，以完成待加工样品的薄化工作。
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