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公开(公告)号：CN109623565A
公开(公告)日：2019-04-16
申请号：CN201811474782.7
申请日：2018-12-04
CPC classification number: B24B19/00 , B24B29/02 , B24B41/007 , B24B41/04 , B24B51/00
Abstract: 本发明涉及一种磨抛装置，包含一具有磨头的磨抛机构。所述磨抛装置还包含一压力调整机构，用以驱动磨抛机构前后活动，以调节磨头的抛磨力度；所述压力调整机构包含：一安装座；一柔性铰链组件，其上安装有所述磨抛机构；所述柔性铰链组件配置于安装座上，且能够受力前后形变；一压电促进器，配置于安装座上，且连接柔性铰链组件，以调整柔性铰链组件前后形变量。将磨抛机构连接一压电促进器和一柔性铰链组件，通过柔性铰链组件和压电促进器的配合，能够在连续加工过程中进行恒力控制或者变力控制，从而提高加工效率和加工效果，并进一步达到了解决因力度过小造成需要多次磨抛而力度过大时造成工件或刀具的损坏的目的。
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公开(公告)号：CN109605186B
公开(公告)日：2022-03-15
申请号：CN201811470707.3
申请日：2018-12-04
Abstract: 本发明涉及一种球体抛光机，包含：机台、球体抛光装置；所述球体抛光装置用以在驱动球体全方位转动的同时对球体进行抛光；其特征在于，所述球体抛光机还包含：干涉件、第一驱动机构；所述第一驱动机构用以在球体全方位转动时，驱动干涉件按预设的频率接触和远离球体的表面。本发明采用了电机带动渐开线凸轮对全方位旋转运动的球体进行间隔拨动，增加了球体运动的复杂性，使得球体加工表面纹路更加无规律性，减少中频误差，提高表面精度。
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公开(公告)号：CN109590892B
公开(公告)日：2020-12-08
申请号：CN201811474109.3
申请日：2018-12-04
Abstract: 一种研抛装置，该装置由轴承、套筒、导流盘、半球基体、抛光垫和导流通道自锁组件等组成。套筒和导流盘之间安装有轴承，并由此实现套筒和导流盘之间的相对旋转。套筒下半部分开设有一个通孔，以便抛光液流入装置内部。导流盘开设有周向均匀分布的通孔和一个圆柱空腔。半球基体开设有一个半球空腔与周向均匀分布的流体通道。导流盘与半球基体通过螺纹连接。半球基体的导流通道出口端安装有自锁组件。抛光垫安装在半球基体表面，抛光垫表面设计并制备有织构。本发明实现了抛光液直接内部供给至抛光区，克服了大下压量下气囊工具出现的内凹现象，增强了抛光垫耐磨性能，适用于进动方式下的高效研抛加工。
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公开(公告)号：CN109590892A
公开(公告)日：2019-04-09
申请号：CN201811474109.3
申请日：2018-12-04
Abstract: 一种研抛装置，该装置由轴承、套筒、导流盘、半球基体、抛光垫和导流通道自锁组件等组成。套筒和导流盘之间安装有轴承，并由此实现套筒和导流盘之间的相对旋转。套筒下半部分开设有一个通孔，以便抛光液流入装置内部。导流盘开设有周向均匀分布的通孔和一个圆柱空腔。半球基体开设有一个半球空腔与周向均匀分布的流体通道。导流盘与半球基体通过螺纹连接。半球基体的导流通道出口端安装有自锁组件。抛光垫安装在半球基体表面，抛光垫表面设计并制备有织构。本发明实现了抛光液直接内部供给至抛光区，克服了大下压量下气囊工具出现的内凹现象，增强了抛光垫耐磨性能，适用于进动方式下的高效研抛加工。
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公开(公告)号：CN109605186A
公开(公告)日：2019-04-12
申请号：CN201811470707.3
申请日：2018-12-04
CPC classification number: B24B27/0076 , B24B11/10 , B24B37/025 , B24B37/34 , B24B41/00 , B24B47/00 , B24B57/02
Abstract: 本发明涉及一种球体抛光机，包含：机台、球体抛光装置；所述球体抛光装置用以在驱动球体全方位转动的同时对球体进行抛光；其特征在于，所述球体抛光机还包含：干涉件、第一驱动机构；所述第一驱动机构用以在球体全方位转动时，驱动干涉件按预设的频率接触和远离球体的表面。本发明采用了电机带动渐开线凸轮对全方位旋转运动的球体进行间隔拨动，增加了球体运动的复杂性，使得球体加工表面纹路更加无规律性，减少中频误差，提高表面精度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107941153B
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201711497865.3
申请日：2017-12-29
Applicant: 厦门大学
IPC: G01B11/00
Abstract: 一种激光测距优化标定的视觉系统，涉及一种机器视觉系统。设有底座、球形铰链、系统支架、圆弧架、滑块、摄像机和激光位移传感器；所述激光位移传感器、摄像机和滑块固定圆弧架上，系统支架的上端固定在圆弧架上，系统支架的底端固定在底座上，系统支架的底端通过球形铰链与固定螺栓连接，固定螺栓固定在底座上；所述摄像机固定在滑块上，摄像机在圆弧形架上可进行角度调节。圆弧架加滑块的设计可以实现摄像机拍摄角度的调节，同时激光位移传感器测得的数据与摄像机数据可进行换算。
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公开(公告)号：CN109909758B
公开(公告)日：2020-03-31
申请号：CN201910221159.9
申请日：2019-03-22
Applicant: 厦门大学
Abstract: 一种二腔闭式液体静压导轨滑块模块，涉及液体静压节流装置领域，包括滑块本体、及与滑块本体连接的压力传感器和流量控制器；滑块本体开设有滑块本体进油口、至少一个油腔、与油腔数量相对应的出油分流口和进油分流口；油腔设有油腔出油口，出油分流口与滑块本体进油口连通，进油分流口与油腔出油口连通；油腔的周边设有微织构封油面；流量控制器设有流量控制器进油口和流量控制器出油口，且流量控制器进油口和出油分流口连通，流量控制器出油口和进油分流口连通；压力传感器与油腔连通，以实时监测油腔的油压大小。安装有本发明模块的线性轴机台不仅可以具有高油膜刚度和高承载能力，而且还可以具有较好的运动直线度。
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公开(公告)号：CN109882505A
公开(公告)日：2019-06-14
申请号：CN201910220208.7
申请日：2019-03-22
Applicant: 厦门大学
IPC: F16C32/06
Abstract: 一种节流比可调的微细沟槽节流器，涉及液体静压支承用的节流器领域，包括节流器安装套和节流器本体；节流器安装套轴向设有前端圆柱腔体和后端圆柱腔体，前端圆柱腔体为光孔，后端圆柱腔体为具有螺纹的通孔，前端圆柱腔体的内壁直径大于后端圆柱腔体的内壁直径，后端圆柱腔体的内壁上开设有微细沟槽；节流器本体为螺杆结构，节流器本体与后端圆柱腔体通过螺纹啮合，啮合区域的微细沟槽构成节流器的工作区。压力油从前端圆柱腔体流入到啮合区域的微细沟槽进行节流，最后节流后的压力油流出到油腔。本发明具有节流比可调、结构简单、布局紧凑、容易拆装、不易堵塞等优点，可有效提高固定节流器方式下液体静压支承系统的调试效率。
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公开(公告)号：CN104990487B
公开(公告)日：2017-06-23
申请号：CN201510339144.4
申请日：2015-06-18
Applicant: 厦门大学
IPC: G01B5/252
Abstract: 一种基于联动误差分析的非正交回转轴轴心偏差测量方法，涉及一种理想基准坐标系的轴心偏差测量方法。测量元件球杆仪在工作平台上的安装；回转轴理想基准坐标系的建立；回转轴A的轴心测量；回转轴B的轴心测量；回转轴B的旋转平面坐标系坐标转换；同理可再测量多组数据，求出回转轴A和B的轴心偏差的平均值，使结果更具有科学性和参考价值。利用球杆仪在两种不同测量路径下，实现了对两个不同回转轴的轴心坐标测定，尤其是对非正交回转轴的研究有一定的帮助；同时利用空间坐标转换实现了对非正交回转轴轴心偏差的比对，使机床运动位置精度误差的问题得到改善。
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公开(公告)号：CN103268853B
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：CN201310237071.9
申请日：2013-06-15
Applicant: 厦门大学
Abstract: 一种光学元件定量刻蚀及清洗装置，涉及一种刻蚀及清洗装置。设有第一直线电机、第二直线电机、支架、底座、刻蚀容器、清洗容器、机械手、数据显示器、超声波传感器、微型水泵、过滤器、喷头、微控制器和超声波发射装置；第一直线电机、第二直线电机、机械手和数据显示器均安装在支架上，支架设于底座上，刻蚀容器和清洗容器置于支架正下方且呈左右设置，超声波传感器安装在刻蚀容器的液仓底部，超声波发射装置安装在清洗容器的液仓底部，清洗容器中安置微型水泵、过滤器和喷头，微型水泵、过滤器和喷头串联连通，超声波传感器信号输出端接微控制器信号输入端，微控制器输出端分别接第一直线电机和第二直线电机，数据显示器与微控制器电连接。
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