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公开(公告)号：CN103375660A
公开(公告)日：2013-10-30
申请号：CN201210118764.1
申请日：2012-04-20
Applicant: 上海微电子装备有限公司 , 华中科技大学
Abstract: 本发明提出一种辅助支撑装置，应用于光刻机的支撑装置。支撑装置包括支撑板、基座和洛伦兹电机。洛伦兹电机固定于基座并支撑支撑板。辅助支撑装置包括膜、气源和控制阀。膜连接于基座，与基座形成气室，用以承载支撑板。气源用以提供气体给气室。控制阀设置于气室的通气孔及气源之间，用以调节气室的气压。本发明在利用洛仑兹电机的同时，利用可移动的膜承载支撑板，通过气动控制气室的压力，以较低频率驱动支撑板，同时发热极小。由于采用气动驱动支撑板，降低洛仑兹电机的出力，从而洛仑兹电机的发热也会大大减少。本发明结构简单，易于控制。
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公开(公告)号：CN102141733B
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：CN201010102421.7
申请日：2010-01-28
Applicant: 上海微电子装备有限公司 , 华中科技大学
Abstract: 本发明提出一种减振装置，承载有一负载。减振装置包括基座、壳体、活塞、第一气室、活塞和摆机构。壳体用于支撑所述的负载；第一气室刚性连接在基座上，内部充满流体；活塞通过第一气室内的流体所支撑；摆机构安装在活塞和壳体之间，用于在水平方向对活塞和壳体产生低刚度连接。本发明中的减振装置采用双腔室空气弹簧用于隔离垂向的振动，在空气弹簧活塞与负载之间设置了细长的柔性摆杆，在负载与基座之间安装了直线电机用于振动的主动补偿。与原有技术相比，空气弹簧的容积更大，摆机构更长，从而减振装置刚度可降得更低，并且本发明的减振装置结构紧凑，设计简单。
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公开(公告)号：CN101276160B
公开(公告)日：2010-09-15
申请号：CN200810037245.6
申请日：2008-05-09
Applicant: 上海微电子装备有限公司 , 华中科技大学
IPC: G03F9/00 , G03F7/207 , H01L21/027
Abstract: 一种用于光刻机的调焦调平装置及方法，所述装置的测量光路分布于投影物镜光轴两侧，由照明单元、投影单元、成像单元及探测单元构成，照明单元由光源、透镜组及光纤组成；投影单元由反射镜组、狭缝阵列及透镜组组成；成像单元由反射镜组、透镜组及平行偏转补偿板组成，特点是：探测单元包括分光器、精测光路和粗测光路，分光器将成像单元发射出的光束按光强分束，光束分别进入精测单元和粗测单元。所述方法，根据粗测结果和精测结果来判定调焦调平装置所测得的结果是否在精测范围内，若是，则精测结果有效；反之，则粗测结果有效。本发明由于采用多点检测硅片表面高度，探测单元采用分光器将光斑分成两路，实现了大范围高精度的调焦调平测量。
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公开(公告)号：CN101725662A
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200910273182.9
申请日：2009-12-10
Applicant: 华中科技大学
IPC: F16F15/023
Abstract: 本发明提供了一种用于真空环境的减振器，包括一腔体，腔体内设有由气缸和活塞构成的空气弹簧，气缸的侧臂连接高压气源，气缸底部与腔体底部之间、气缸内侧壁分别设有一气浮，腔体的两侧壁中间部分分别嵌入了一密封柔性连接件，其中一侧臂还设有用以连接抽气机的排气孔。本发明在具有优良减振性能的同时，消除了减振器对周围环境的气体排放，维持设备较低的重心提高设备的稳定性，可广泛应用在EUV光刻机、电子束光刻机等对真空要求严格的精密设备及测试平台。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102141733A
公开(公告)日：2011-08-03
申请号：CN201010102421.7
申请日：2010-01-28
Applicant: 上海微电子装备有限公司 , 华中科技大学
Abstract: 本发明提出一种减振装置，承载有一负载。减振装置包括基座、壳体、活塞、第一气室、活塞和摆机构。壳体用于支撑所述的负载；第一气室刚性连接在基座上，内部充满流体；活塞通过第一气室内的流体所支撑；摆机构安装在活塞和壳体之间，用于在水平方向对活塞和壳体产生低刚度连接。本发明中的减振装置采用双腔室空气弹簧用于隔离垂向的振动，在空气弹簧活塞与负载之间设置了细长的柔性摆杆，在负载与基座之间安装了直线电机用于振动的主动补偿。与原有技术相比，空气弹簧的容积更大，摆机构更长，从而减振装置刚度可降得更低，并且本发明的减振装置结构紧凑，设计简单。
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公开(公告)号：CN101276160A
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：CN200810037245.6
申请日：2008-05-09
Applicant: 上海微电子装备有限公司 , 华中科技大学
Abstract: 一种用于光刻机的调焦调平装置及方法，所述装置的测量光路分布于投影物镜光轴两侧，由照明单元、投影单元、成像单元及探测单元构成，照明单元由光源、透镜组及光纤组成；投影单元由反射镜组、狭缝阵列及透镜组组成；成像单元由反射镜组、透镜组及平行偏转补偿板组成，特点是：探测单元包括分光器、精测光路和粗测光路，分光器将成像单元发射出的光束按光强分束，光束分别进入精测单元和粗测单元。所述方法，根据粗测结果和精测结果来判定调焦调平装置所测得的结果是否在精测范围内，若是，则精测结果有效；反之，则粗测结果有效。本发明由于采用多点检测硅片表面高度，探测单元采用分光器将光斑分成两路，实现了大范围高精度的调焦调平测量。
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公开(公告)号：CN103375660B
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201210118764.1
申请日：2012-04-20
Applicant: 上海微电子装备有限公司 , 华中科技大学
IPC: F16F15/023
Abstract: 本发明提出一种辅助支撑装置，应用于光刻机的支撑装置。支撑装置包括支撑板、基座和洛伦兹电机。洛伦兹电机固定于基座并支撑支撑板。辅助支撑装置包括膜、气源和控制阀。膜连接于基座，与基座形成气室，用以承载支撑板。气源用以提供气体给气室。控制阀设置于气室的通气孔及气源之间，用以调节气室的气压。本发明在利用洛仑兹电机的同时，利用可移动的膜承载支撑板，通过气动控制气室的压力，以较低频率驱动支撑板，同时发热极小。由于采用气动驱动支撑板，降低洛仑兹电机的出力，从而洛仑兹电机的发热也会大大减少。本发明结构简单，易于控制。
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公开(公告)号：CN101725662B
公开(公告)日：2012-02-29
申请号：CN200910273182.9
申请日：2009-12-10
Applicant: 华中科技大学
IPC: F16F15/023
Abstract: 本发明提供了一种用于真空环境的减振器，包括一腔体，腔体内设有由气缸和活塞构成的空气弹簧，气缸的侧臂连接高压气源，气缸底部与腔体底部之间、气缸内侧壁分别设有一气浮，腔体的两侧壁中间部分分别嵌入了一密封柔性连接件，其中一侧臂还设有用以连接抽气机的排气孔。本发明在具有优良减振性能的同时，消除了减振器对周围环境的气体排放，维持设备较低的重心提高设备的稳定性，可广泛应用在EUV光刻机、电子束光刻机等对真空要求严格的精密设备及测试平台。
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