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公开(公告)号：CN112028010B
公开(公告)日：2023-08-25
申请号：CN202010899353.5
申请日：2020-08-31
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于微纳结构相关技术领域，并具体公开了一种大面积高耐用性超疏水表面结构的制备方法及其产品。该方法包括：在基底表面制备刻蚀掩膜层，并通过刻蚀在基底上制得倒锥形阵列；对倒锤形阵列进行纳米压印，以此制得锥形掩膜，然后进行一次倒模，获得倒锥形阵列结构；构建耐磨层，获得倒锥形模板，利用疏水聚合物对倒锥形模板进行二次倒模，制得锥形阵列结构；对锥形阵列结构的表面进行研磨，以得到锥台阵列结构。本发明采用一次倒模、构建耐磨层的方式制备大面积倒锥形模板，后续利用疏水聚合物进行二次倒模得到大面积的超疏水表面，无需任何低表面能物质修饰，最后通过研磨进行微纳结构的加工，能够进一步提高表面的粗糙度和结构稳定性。
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公开(公告)号：CN116150993A
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN202310123339.X
申请日：2023-02-16
Applicant: 华中科技大学
IPC: G06F30/20 , G06F119/08 , G06F113/08
Abstract: 本发明公开了一种基于频域特性的换热器设计方法及换能器，属于换热器技术领域；本发明在传统的换热器设计流程中引入基于机理建模的控制方程，并以控制方程作为设计依据，不仅关注于换热器的换热效率，同时针对换热器的频域特性提出了优化依据，通过将换热器换热性能与滤波特性相结合，以静态增益为目标进行优化设计来保证换热器的换热性能，同时以扰动衰减系数为目标进行优化设计来衰减单一通道内的扰动幅值，并以扰动扩散系数为目标进行优化设计来降低通道间的扰动传递以达到对双向通道间的扰动扩散进行抑制的效果，满足了超高精度温度控制中对低频区间控制性能与高频失控区间的扰动抑制的要求，在全频率范围内控制精度较高。
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公开(公告)号：CN112255135B
公开(公告)日：2022-01-18
申请号：CN202011066071.3
申请日：2020-09-30
Applicant: 华中科技大学 , 武汉智能装备工业技术研究院有限公司
IPC: G01N5/04
Abstract: 本发明公开一种液膜蒸发功率的测试装置及方法，属于光刻机液膜领域，包括温湿度测试箱、支撑架、固定架、浸没头位姿调节机构、浸没头、模拟物镜、压力敏感元件和天平，天平设置在温湿度测试箱内，晶圆设置在天平上，晶圆上悬置有浸没头，浸没头中心处的空腔内设置有模拟物镜，模拟物镜镜头处设置有压力敏感元件，浸没头悬挂在浸没头位姿调节机构上，浸没头位姿调节机构活动连接在固定架的顶部上，固定架侧壁与支撑架活动连接，能沿着支撑架升降，浸没头中设置了气路和液路的注入和回收管路。本发明还提供了液膜蒸发功率的测试方法。本发明装置和方法能实时测量液膜蒸发过程中的总质量变化，能准确、高效、实时在线测量液膜蒸发功率。
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公开(公告)号：CN112445084B
公开(公告)日：2021-11-30
申请号：CN202011513098.2
申请日：2020-12-20
Applicant: 华中科技大学 , 武汉智能装备工业技术研究院有限公司
Abstract: 本发明提供一种浸没式光刻机的温度控制方法及装置，包括：通过热交换器使得PCW与光刻机UPW进行换热，以及利用加热器对UPW加热，以对UPW升温，对UPW温度进行粗调节时，基于检测的三个温度值和UPW温度控制目标确定UPW温度的轨迹、PCW的流量控制模型以及加热器的功率控制模型；采用模糊规则自适应修正PCW的流量控制模型以及加热器的功率控制模型；将粗调节后的UPW经过远传管路，通入光刻机内部经过半导体制冷片调节后分为两路UPW注液，通过两个加热器分别对两路UPW注液加热；对UPW温度进行精调节时，制冷片的调节量由两路UPW注液两个加热器的功率、两路UPW注液流量以及两路UPW注液的温度设定值确定。本发明提高了光刻机的温度控制精度。
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公开(公告)号：CN112229094A
公开(公告)日：2021-01-15
申请号：CN202011033941.7
申请日：2020-09-27
Applicant: 华中科技大学 , 武汉智能装备工业技术研究院有限公司
Abstract: 本发明提供一种恒温空气循环系统，在主循环回路以及并联旁路的两个三通节点后装配风阀用于调节每个分支的气体流量，当压缩机保持当前状态不变时，风机和风阀不变化。当压缩机需要从开启到关闭时，调节风机风量并同步调节旁路和主路的流量，直到控制蒸发器流量的风阀全部关闭，旁路风阀全部打开；当压缩机需要从关闭到开启时，调节风机风量，同步调节旁路和主路的流量，直到控制蒸发器流量的风阀全部打开，旁路风阀全部关闭。风阀调节配合压缩机状态切换始终保证流经加热器到腔体的流量不变。本发明通过旁路辅助切换制冷换热装置的工作状态以对系统进行节能，且保证切换制冷换热装置工作状态的同时不影响流经所述恒温腔体的气体流量和温度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107521156A
公开(公告)日：2017-12-29
申请号：CN201710840353.6
申请日：2017-09-18
Applicant: 华中科技大学
IPC: B31B70/04 , B31B70/68 , B31B160/10
Abstract: 本发明属于包装机附属装置领域，并具体公开了一种立式输送与缝袋底装置，其包括模块机架、切袋交接段、折边缝袋底段和取袋开袋交接段，切袋交接段包括第一匀变速输送组件、开合组件、吹气组件和压袋组件，第一匀变速输送组件包括竖直设置的一对传动轴和水平设置在传动轴上的多对传送带组，每对传送带组之间设置有靠板，开合组件、吹气组件和压袋组件设置在模块机架上；折边缝袋底段包括第二匀变速输送组件和第一匀速输送组件，第一匀速输送组件的下方设置有折边器和袋底缝包机；取袋开袋交接段包括第二匀速输送组件和护板组件，护板组件设于第二匀速输送组件的上方。本发明具有结构紧凑、工作效率高等优点，适用于非覆膜编织袋的取袋与输送。
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公开(公告)号：CN105730774B
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：CN201610181342.7
申请日：2016-03-28
Applicant: 华中科技大学
IPC: B65B43/26
Abstract: 本发明公开了一种编织袋开袋设备，包括机架及安装在机架上的袋子托板、下固定搓板、上开袋机构、搓袋机构和下压袋机构；上开袋机构包括上开袋基板和上开袋气缸；搓袋机构包括搓袋基板、搓袋气缸、上搓板、搓袋聚氨酯垫、上压袋气缸和上压块；下压袋机构包括下压袋安装基板、旋转气缸、下压袋转轴、下压块。本发明模仿人手工开袋动作，通过搓板搓袋实现开袋，能解决热切、编织袋的开袋，本发明的搓板与袋子之间是面接触，搓袋原理更为可靠；且搓开后通过压板将上下袋口固定并开袋，过程可靠。
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公开(公告)号：CN105977768A
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：CN201610481557.0
申请日：2016-06-27
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种适用于准分子激光器的恒温控制系统，其包括干路及支路，所述恒温控制系统还包括设置在所述干路上的电磁阀、第一流量传感器、分流器及集流器、设置在所述支路上的第一比例阀、第二比例阀、第二流量传感器、第三流量传感器、自动控温腔体及第一单向阀、下位机及与所述下位机通讯的工控机。所述工控机用于发送指令以控制准分子激光器的重复频率，并将所述重复频率信息通过RS485协议传输给所述下位机；所述下位机用于根据所述重复频率信息相应地控制所述第一比例阀及所述第二比例阀的流量，进而以所述重复频率为前反馈自动控制所述自动温控腔体的温度维持在目标温度。
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公开(公告)号：CN103970159A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201410204253.0
申请日：2014-05-15
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种快充气型微正压保护系统，包括：经依次顺序连接的第一开关阀2、第一减压阀3和第二减压阀4分为两条支路，其中，一条支路经第一流量计5与毛细管6一端相连，另一支路经第二流量计7与第二开关阀8一端相连，毛细管6另一端和第二开关阀8另一端接过滤器9的一端，过滤器9另一端与目标腔体10一端相连，目标腔体10另一端与节流部件14相连，其中，所述目标腔体10为密封腔体，其内壁上布置有测量腔内压力的压力传感器11、用于测量腔内气体纯度的成分检测仪12、以及过压保护阀13。本发明实现了微正压保护系统初始化过程的快速充气功能，缩短了系统的初始化时间，同时还保证目标腔体在工作过程中的微正压稳定。
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公开(公告)号：CN103197508A
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201310070330.3
申请日：2013-03-06
Applicant: 华中科技大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种极紫外光照射下的光学表面污染与清洁模拟装置，包括：氢原子发生器接口、电子枪、电子枪室、电子枪接口、曝光腔、冷却毛细管、试样台、试样台接口、气体引入设备、涡轮分子泵、前级泵、RGA、RGA接口、插板阀、放气阀、电阻规以及隔断阀，氢原子发生器接口、电子枪接口、试样台接口以及RGA接口均为开启，且固接在曝光腔上，电子枪接口与试样台接口对称设置在曝光腔的两侧，使得电子枪与试样台处于一条水平线上，氢原子发生器接口设置于腔体上方，且与电子枪接口的轴线垂直，RGA接口设置于实验装置的侧方。本发明能够解决现有装置中存在的不能同时实现光学表面污染和清洁实验功能、只有一套抽真空系统以及试样台不具备自由度的问题。
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