一种用于红外热成像法检测微电子封装结构缺陷的装置

    公开(公告)号:CN102338763B

    公开(公告)日:2013-06-12

    申请号:CN201110147793.6

    申请日:2011-06-02

    Abstract: 一种用于红外热成像法检测微电子封装结构缺陷的装置,属于电子封装行业无损检测领域。底座1由两端的两个接地脚,一个中间承力梁组成,承力梁开有两个贯通的圆孔.立柱7的下端以过盈配合的方式装配到贯通的圆孔内。立柱7上分别装配了下横梁2,上横梁6,螺杆传动轴承9和托环13.下横梁2的前端用小螺栓12连接了一个试样台16,后端用螺栓连接螺杆套3.钠灯13通过连接块4,连接架5和圆环夹子14固定在立柱7上。螺杆传动轴承装配在立柱的上端,螺杆传动轴承上装有把手,通过转动把手可以改变下横梁在立柱上的位置,从而实现试样台高低位置的变化。本发明结构简单,装置平稳,操作方便,可以实现红外无损检测。

    大芯片尺寸封装及其制造方法

    公开(公告)号:CN103000648A

    公开(公告)日:2013-03-27

    申请号:CN201210478706.X

    申请日:2012-11-22

    Abstract: 大芯片尺寸封装及其制造方法,属于传感器技术领域。在晶圆第一表面中硅衬底上方的中央设置有光学交互区,在设置有光学交互区的一面连接有金属互联结构,硅衬底上光学交互区周围的I/O通过金属互联结构连接到电极垫;金属互联结的表面设置有保护层,并在保护层上形成有台阶状的凸起或凹槽结构;晶圆的第一表面与玻璃片键合在一起,在玻璃片和晶圆之间形成空腔;晶圆的第二表面设置有TSV孔,通过TSV孔穿过硅衬底将电极垫连接到晶圆第二表面上面的焊盘垫,在TSV孔孔壁上依次制作有作钝化层和金属衬里,聚合物材料将TSV孔填充;在晶圆第二表面上制作防焊层,焊球制作在焊盘垫上。本发明改善了现有封装结构中玻璃和硅衬底之间的分层问题,提高了封装可靠性。

    一种用于“硅通孔”TSV-Cu结构工艺残余应力的测试方法

    公开(公告)号:CN102818765A

    公开(公告)日:2012-12-12

    申请号:CN201210310455.4

    申请日:2012-08-28

    Abstract: 一种用于“硅通孔”TSV-Cu结构工艺残余应力的测试方法,属于电子信息技术领域。用压头向下对实验试样中硅通孔中的铜柱进行挤压,同时记录压头向下作用时的位移和压力F,获得压力F和位移曲线,得到压力F下降时的门槛值,并将压力F的门槛值代入压力和界面切应力转换公式中,便得到镀铜工艺制作的硅通孔结构TSV-Cu中铜和硅界面处发生滑移时的切应力门槛值τ0;由切应力门槛值τ0计算得到本发明所需要测量的“硅通孔”TSV-Cu残余应力。本发明最大程度保持试样的完整性,不对试样进行切割等影响残余应力释放的操作,测试结果更加精确,同时残余应力的计算方法简单可靠,可以直观的判断残余应力的正负。

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