公开(公告)号：CN118859636A

公开(公告)日：2024-10-29

申请号：CN202410495072.1

申请日：2024-04-24

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 金子慎也 ,  细川浩伸

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明提供基板保持装置、曝光装置及物品的制造方法。基板保持装置设置于对基板进行曝光的曝光装置，具有：基台，保持所述基板；升降部，能够经由所述基台的开口升降；遮蔽部，遮蔽所述开口；以及驱动部，驱动所述遮蔽部，所述驱动部在对所述基板进行曝光的期间，使所述遮蔽部配置在所述遮蔽部遮蔽所述开口的位置。

公开(公告)号：CN117631466A

公开(公告)日：2024-03-01

申请号：CN202311061343.4

申请日：2023-08-22

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 金子慎也

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及载置台装置、基板处理装置、曝光装置和物品的制造方法。具有载置台；连接到所述载置台并随着所述载置台的驱动而追随所述载置台的可动缆线；降低从所述可动缆线传递的振动的降低机构；对所述降低机构施加力的致动器；取得与所述降低机构和所述可动缆线中的至少一方的位移有关的第1测量数据的第1测量部；以及基于所述第1测量数据来控制所述致动器的控制部，所述降低机构被构成为可转动。

公开(公告)号：CN115933321A

公开(公告)日：2023-04-07

申请号：CN202211187954.9

申请日：2022-09-28

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 金子慎也

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/00 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供定位装置、光刻装置和物品制造方法。定位装置具有：基板支承部，通过对基板的下表面喷出气体而使所述基板浮起，从而以非接触状态支承所述基板；多个吸引保持部，对由所述基板支承部以非接触状态支承的所述基板的下表面进行吸引，从而限制所述基板向与基板表面平行的方向的位移；支承构件，支承所述多个吸引保持部；以及旋转机构，通过使所述支承构件绕与所述基板表面交叉的轴旋转，从而不使所述基板支承部旋转，而借助所述多个吸引保持部使所述基板旋转。